光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性（保存稳定性）优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在ｐＨ７．０的蒸馏水中具有－２０ｍＶ以上、１５ｍＶ以下ζ电位的第１膜的第１过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分（Ａ）、由曝光产生酸的酸产生剂成分（Ｂ）和有机溶剂（Ｃ）。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、涂布装置和 光致抗蚀剂组合物。另外，本申请以日本特许2002—368931、特愿2003—416583为基础， 并将其内容引入于本说明书中。
技术介绍
通常把KrF激元激光、ArF激元激光、F2激元激光、EUV (远紫外 光)、EB (电子射线)等用作光源(放射线源)的化学增幅型的光致抗蚀 剂组合物，例如在特开2002—296779号公报(专利文献l)中所记载，是 包含树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和可以溶解这些 成分的有机溶剂(C)的组合物。作为这种化学增幅型的光致抗蚀剂组合物，要求其具备高分辨力、 高感光度并能形成形状良好的抗蚀图案。近年来，随着对0.15微米以下的高分辨力的抗蚀图案的需求的出现， 除了这些特性以外，还要求进一步改善显影后的抗蚀图案的疵点(表面缺 陷)。所述的疵点是例如用KLA亍y 〕 —/14土制的表面缺陷观察装置(商 品名为KLA)，从正上方观察显影后的抗蚀图案时检测出的所有缺陷。 所述的缺陷例如为显影后的浮渣、气泡、废渣、抗蚀图案间的桥等。为了改善这种疵点，迄今主要以抗蚀剂组合物的树脂成分和酸产生 剂和溶剂成分等抗蚀剂组成为中心进行过尝试[特开2001—56556号公报 (专利文献2)]。另外，在抗蚀剂溶液(溶液状态的光致抗蚀剂组合物)保管过程中， 还存在产生微细粒子的抗蚀剂溶液的杂质时效特性(在保存光致抗蚀剂组合物的过程中，在该光致抗蚀剂组合物中产生固体状的杂质；保存稳定性) 的问题，这也需要进行改善。为了改善该杂质时效特性，与上述同样地以抗蚀剂组成为中心进行过尝试[特开2001—22072号公报(专利文献3)]。 (专利文献1)特开2002—296779号公报 (专利文献2)特开2001 — 56556号公报 (专利文献3)特开2001—22072号公报 (专利文献4)特开2002 — 62667号公报 (专利文献5)特开2001—350266号公报但是，在专利文献2、 3中记载的技术在其效果方面还不充分。另外，如果产生上述微细的微粒子，则有时也会成为上述疵点的原 因，为了改善疵点也迫切需要改善杂质时效特性。但是，迄今为止能充分地改善显影后抗蚀图案的疵点、保存稳定性 的方法并未为人所知。在特开2002 — 62667号公报(专利文献4)中，提出了使光致抗蚀剂组合物通过过滤器，来降低在线路中循环的光致抗蚀剂组合物中微粒子量 的光致抗蚀剂组合物的制造方法。如在该专利文献4中所记载，在光致抗蚀剂组合物的制造中制造光 致抗蚀剂组合物并使其通过过滤器是已知技术，但是即使在这种方法中， 也没有达到充分改善如上所述的显影后抗蚀图案的疵点、保存稳定性的效 果。另外，在特开2001—350266号公报(专利文献5)中，提出了使光 致抗蚀剂组合物通过具有正的；(zeta)电位的过滤器的光致抗蚀剂组合 物的制造方法。但是，根据本申请人的研究可知，如果按照专利文献5中 记载的方法处理光致抗蚀剂组合物，则有时其组成会发生变化。由于该组 成的变化可引起光致抗蚀剂组合物的感光度和抗蚀图案尺寸的变化，所以 不妥。此外近年来，在显影后的抗蚀图案的疵点中，尤其在形成以ArF激 元激光之后、即ArF激元激光、F2激元激光、EUV、EB等为光源的如130nm200910164463.0说明书第3/36页以下抗蚀图案之类的微细抗蚀图案时，解决疵点的问题也更加严峻起来。艮P，就KrF激元激光用抗蚀剂来说不会成为大问题的抑制显影后所 谓的微细浮渣和微桥疵点变成了非常重要的问题。但是就上述现有技术而 言都不能充分地解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情况而形成的，目的是提供能够获得可以抑制显 影后抗蚀图案的疵点、尤其是抑制微细的浮渣和微桥产生的光致抗蚀剂组 合物的技术。另外，另一目的是提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的 光致抗蚀剂组合物的技术。本专利技术的更优选的目的是提供能获得处理前后不易引起感光度和抗 蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术。为了实现上述目的，本专利技术采用以下构成。第1专利技术(方式)是光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具有使光致抗蚀剂组合物在pH为7.0的蒸馏水中通过设置有具有一20mV以 上(不含一20mV)、 15mV以下；电位的第1膜的第1过滤器的工序，其 中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成 分(B)和有机溶剂(C)。第2专利技术(方式)是光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具 有使光致抗蚀剂组合物通过设置有临界表面张力为70dyne/cm以上的第1 膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、 由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。第3专利技术(方式)是过滤装置，其特征在于是具有蓄留含有树脂成 分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)的光致抗 蚀剂组合物的蓄留部分、和使该光致抗蚀剂组合物通过的第1过滤部分的 过滤装置，上述第1过滤部分具有设置有在pH7.0的蒸馏水中具有一20mV 以上(不含一20mV)、 15mV以下；电位的第1膜的第1过滤器。第4专利技术(方式)是过滤装置，其特征在于是具有蓄留含有树脂成 分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)的光致抗蚀剂组合物的蓄留部分、和使该光致抗蚀剂组合物通过的第1过滤部分的过滤装置，上述第1过滤部分具有设置有临界表面张力为70dyne/cm以上 的第1膜的第1过滤器。第5专利技术(方式)是安装了第3或者第4专利技术的过滤装置的光致抗 蚀剂组合物的涂布装置。第6专利技术(方式)是由第l或者第2专利技术的制造方法获得的光致抗 蚀剂组合物。第7专利技术(方式)是光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具 有使光致抗蚀剂组合物通过设置有由孔径为0.04 m以下的尼龙膜构成的 第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分 (A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。第8专利技术(方式)是过滤装置，其特征在于是具有蓄留含有树脂成 分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)的光致抗 蚀剂组合物的蓄留部分、和使该光致抗蚀剂组合物通过的第1过滤部分的 过滤装置，上述第1过滤部分具有设置有由孔径为0.04um以下的尼龙膜 构成的第1膜的第1过滤器。第9专利技术(方式)是安装了第8专利技术的过滤装置的光致抗蚀剂组合 物的涂布装置。另外，上述疵点最终会在抗蚀图案中表现出来，不同于形成图案前 的抗蚀剂涂膜中的针孔缺陷。在本说明书中(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和甲基丙烯酸中的一种或 者两种。另外，所谓结构单元表示由构成聚合物的单体衍生的单元。根据本专利技术，可以提供获得能够抑制显影后抗蚀图案的疵点、尤其 是抑制微细的浮渣和微桥的产生的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，可以提供获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀 剂组合物的技术。还有，更优选的是可以提供获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图 案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术。附图说明图1是表示本专利技术过滤装置的一个例子的示意构成图。图2是表示安装了本专利技术过滤装置的涂布装置的一个例子的示意构成图。图3是ZismanPlot曲线。具体实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有临界表面张力为７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上的第１膜的第１过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分（Ａ）、由曝光产生酸的酸产生剂成分（Ｂ）和有机溶剂（Ｃ）。

【技术特征摘要】
JP 2002-12-19 2002-368931;JP 2003-12-15 2003-416581.一种光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有临界表面张力为70dyne/cm以上的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。2. 如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于作为 上述第1膜使用尼龙制的膜。3. 如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于在使 组合物通过上述第1过滤器的工序之前或之后、或者之前和之后，进 一步具有使该光致抗蚀剂组合物通过设置有聚乙烯或者聚丙烯制的第 2膜的第2过滤器的工序。4. 如权利要求3所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 第1膜和上述第2膜一方或者双方的孔径为0.02 y m以上、0.1 y m以 下。5. 如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 第l膜的孔径为0.02um以上、0.04um以下。6. 如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 第l膜的孔径为0.04 ii m。7. 如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 树脂成分是具有衍生自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的树脂。8. 如权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 树脂成分具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯 的结构单元(al)、和衍生自含有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元Ca2、9. 如权利要求8所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 树脂成分具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯 的结构单元(al)、衍生自含有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a2)、和衍生自含有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元 (a3)。10. 如权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于上述 树脂成分具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯 的结构单元(al)、衍生自含有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a2)、衍生自含有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a3) 和不同于上述衍生自含有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯的 结构单元(al)、衍生自含有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a2)、 衍生自含有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a3)的衍 生自含有脂肪族多环基团的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a4)。11. 一种过滤装置，其特征在于，是具有蓄留含有树脂成分(A)、由曝光 产...

【专利技术属性】
技术研发人员：羽田英夫，岩井武，崎真明，室井雅昭，厚地浩太，富田浩明，尾崎弘和，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]