【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光催化剂的制造方法和光催化剂的制造装置，特别是涉及一种利 用光照射促进活性物质生成的、具有光催化作用的光催化剂的制造方法及特别适合该制造 过程使用的光催化剂制造装置。
技术介绍
近年来，人们正在关注使用二氧化钛的光催化剂性薄体。所谓的光催化剂，是一种 具有半导体的物性、在照射具有比其导电子带和核电子带的带隙能量大的能量的光时形成 激发状态、生成电子 空穴对的物质。 具有锐钛矿型结晶结构的二氧化钛，一照射387nm以下的波长的光，则形成光激发状态，同时引起基于氧化还原反应的分解反应和发生该分解反应(活性)的亲水化反应。现在已知同时引起这两种反应的金属氧化物有氧化钛、氧化锡和氧化锌，只引起分解反应的金属氧化物有钛酸锶和氧化铁，只引起亲水化反应的金属氧化物有三氧化钨。 并且，提出了可以利用这些作用产生自洗涤作用、脱臭作用、抗菌作用等的、包敷光催化剂的各种部件、商品。 作为所述的光催化剂的制造方法，提出了粘合剂法、溶胶凝胶法、真空蒸镀法等各 种方法。 粘合剂法是一种在具有粘接性的粘合剂中分散微粒状的氧化钛，涂有在规定的基 体上之后，进行加热干燥的方法。...
【技术保护点】
一种光催化剂制造装置，可以在比大气减压的气氛中，在基体上堆积非晶的氧化钛，其特征在于，具有冷却所述基体的冷却装置。
【技术特征摘要】
JP 2001-11-29 2001-3645301. 一种光催化剂制造装置，可以在比大气减压的气氛中，在基体上堆积非晶的氧化钛， 其特征在于，具有冷却所述基体的冷却装置。2. 如权利要求1所述的光催化剂制造装置，其特征在于，还具有加热所述基体的加热 装置，可以利用所述加热装置加热所述基体之后，利用所述冷却装置冷却，然后，堆积所述 非晶的氧化钛。3. 如权利要求1或2所述的光催化剂制造装置，其特征在于，还具有堆积装置和热处理 室，所述堆积装置可以在比大气减压的气氛中使氧化物构成的包敷层堆积在所述基体上， 所述热处理室可以在含氧的气氛中加热所述基体，可以在所述基体上堆积所述非晶的氧化钛之后，在所述热处理室中加热，然后，利用所 述堆积装置堆积所述包敷层。4. 如权利要求1或2所述的光催化剂制造装置，其特征在于，还具有可以在含氧的气氛 中加热所述基体的热处理室，在所述基体上堆积所述非晶的氧化钛之后，在所述热处理室中进行加热。5. 如权利要求4所述的制造光催化剂的装置，其中，所述非晶的氧化钛在X射线衍射图 形中基本上没有结晶性的峰，在所述热处理室中加热了的所述氧化钛在X射线衍射图形中 具有结晶性的峰。6. 如权利要求4所述的制造光催化剂的装置，其特征在于，还具有堆积装置，所述堆积 装置可以在比大气减压的气氛中使氧化物构成的包敷层堆积在所述基体上，可以在所述加热之后在所述氧化钛上堆积氧化物构成的包敷层。7. ...
【专利技术属性】
技术研发人员：平冈纯治，高盐稔，福嶋哲弥，野口大辅，川又由雄，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。