基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置和基板处理方法，能够按照每种处理液实现分离回收。基板处理装置将多种处理液依次供给来处理基板，具有：保持着基板(12)旋转的基板旋转构件；向通过基板旋转构件旋转的基板供给处理液的喷嘴；设在基板周围而接收从基板飞散的处理液的杯体(51)；与杯体接收的处理液的种类对应地供来自杯体的处理液流过的各种回收配管(55)；转动构件，其使杯体水平转动而将杯体切换到与处理液的种类相对应的回收配管所位于的方向；以及升降构件，其使杯体沿上下方向升降而切换为如下的高度位置：通过转动构件使杯体和与处理液的种类对应的回收配管相连通的第1高度位置；和使杯体接收的处理液流到废液路径(61)中的第2高度位置。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法
本专利技术涉及向旋转的基板供给处理液来进行基板处理的基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
作为半导体晶片或光掩膜用玻璃基板的表面处理装置，从提高表面处理的均匀性、再现性的观点出发，倾向于采用一片一片地处理基板的单片方式(枚葉方式)。在单片方式的基板处理装置中，一边使水平保持的基板绕其中心轴旋转(spin)，一边将例如药液等处理液供给至基板的表面中央。供给至基板的处理液由于离心力而扩展至基板的整个表面。由此，进行基板整体的处理。当规定的药液处理结束时，进行用于通过冲洗液对残留于基板表面的药液进行冲洗的冲洗处理。与上述相同地对旋转的基板进行冲洗处理，在冲洗处理结束后，使基板高速旋转，进行基板的干燥处理。在上述的单片方式的基板处理装置中，旋转的基板上的处理液(药液或冲洗液等)由于离心力而从基板端(基板的外周缘)或对基板进行保持的旋转体的旋转体端向基板外飞散。飞散的处理液集中在处理槽内的规定区域而成为废液，或者为了再利用而被回收(例如，参照专利文献1)。专利文献1：日本技术注册第2533339号公报在专利文献1所记载的基板的旋转处理装置中，在被设置成覆盖旋转卡盘周围的内容器的底部上形成有排液口，在与该排液口对置的位置，能够旋转地设置有桶部件，通过使该桶部件旋转，使处于桶部件下部的1个废液流出口选择性地与设置于外容器上的多个排泄口(回收通道)中的1个对置，由此，能够实现多种处理液的分离回收。可是，在专利文献1所记载的基板的旋转处理装置中，在伴随着处理液的切换使桶部件旋转而将废液流出口定位在与规定的排泄口对置的位置时，废液流出口有时会在其它排泄口的上方通过。由于至此为止所使用的处理液残留于桶部件，因此，具有如下危险性：该残留液浸入本来的排泄口之外的排泄口中。如果处理液混入，则会对基于分离回收的处理液再利用产生障碍。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供能够高效地进行多种处理液的分离回收的基板处理装置和基板处理方法。为了解决上述课题，本专利技术的基板处理装置构成为，将多种处理液依次供给到基板上来处理基板，其中，所述基板处理装置具有：基板旋转构件，其保持着所述基板进行旋转；处理液供给构件，其对借助所述基板旋转构件旋转的所述基板供给处理液；杯体，其设置于所述基板的周围，接收从所述基板飞散的所述处理液；各种回收通道，它们与所述杯体接收的处理液的种类对应地供来自所述杯体的所述处理液流过；转动构件，其使所述杯体水平转动，将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向；以及升降构件，其使所述杯体沿上下方向升降而切换为第1高度位置和第2高度位置，其中，所述第1高度位置是通过所述转动构件使所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位置，所述第2高度位置是使所述杯体接收的所述处理液流到废液通道中的高度位置。另外，本专利技术的基板处理方法构成为，将多种处理液依次供给到基板上来处理基板，其中，所述基板处理方法具有：通过基板旋转构件使所述基板旋转的步骤；将所述处理液供给到通过所述基板旋转构件而旋转的所述基板上的步骤；利用杯体接收从所述基板飞散的所述处理液的步骤；使所述杯体水平转动而将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向的步骤；使所述杯体沿上下方向升降而移动到第1高度位置的步骤，其中，所述第1高度位置是所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位置；以及使所述杯体移动到第2高度位置的步骤，其中，所述第2高度位置是使所述杯体接收的所述处理液流到废液通道中的高度位置。根据本专利技术，能够高效地进行多种处理液的分离回收。附图说明图1是本专利技术的第1实施方式的基板处理装置的纵向剖视图(杯体上升后的较高位置(第1高度位置))。图2是本专利技术的第1实施方式的基板处理装置的纵向剖视图(杯体下降后的较低位置(第2高度位置))。图3是沿图1中的A-A线的剖视图。图4是沿图2中的B-B线的剖视图。图5A是示出处理液从杯体上升后的较高位置(第1高度位置)处的流出孔部向回收配管流出的局部剖视图(之1)。图5B是示出处理液从杯体上升后的较高位置(第1高度位置)处的流出孔部向回收配管流出的局部剖视图(之2)。图5C是示出处理液从杯体上升后的较高位置(第1高度位置)处的流出孔部向回收配管流出的局部剖视图(之3)。图6A是示出包含处理液在内的废气从杯体的排气间隙朝向排气配管流出的局部剖视图(之1)。图6B是示出包含处理液在内的废气从杯体的排气间隙向排气配管流出的局部剖视图(之2)。图6C是示出包含处理液在内的废气从杯体的排气间隙向排气配管流出的局部剖视图(之3)。图7A是示出处理液从杯体下降后的较低位置(第2高度位置)处的流出孔部向废液路径61流出的局部剖视图(之1)。图7B是示出处理液从杯体下降后的较低位置(第2高度位置)处的流出孔部向废液路径61流出的局部剖视图(之2)。图7C是示出处理液从杯体下降后的较低位置(第2高度位置)处的流出孔部向废液路径61流出的局部剖视图(之3)。图8是沿图1中的C-C线的剖视图。图9A是本专利技术的第1实施方式的基板处理装置中的回收配管的局部立体图。图9B是本专利技术的第1实施方式的基板处理装置中的排气配管的局部立体图。图10是本专利技术的第2实施方式的基板处理装置的横向剖视图。图11是示出杯体的变形例1的纵向剖视图。图12是示出杯体的变形例2的纵向剖视图。标号说明11、11a：基板处理装置；12：基板；13：旋转体；15：罩部；18：夹紧销；20(20a～20d)：喷嘴；21：动力传动体；22：驱动马达；26a：转子；26b：定子；33：旋转板；35：销旋转体；36：子齿轮；37：母齿轮；51、51a：杯体；55(55a～55c)：回收配管；58：流出孔部；61：废液路径；62：废液配管；63：排气间隙；65(65a～65c)：排气配管；67：升降轴；68：转动环；69：马达；71：辊；72：升降单元；75：伸缩缸；76：升降引导件；77：柱部件。具体实施方式(第1实施方式)以下，利用附图，对本专利技术的第1实施方式进行说明。在图1～图4中示出了本专利技术的第1实施方式的基板处理装置的基本结构。在本实施方式的基板处理装置的纵向剖视图即图1中，基板处理装置11具有：圆板形状的旋转体13，其用于使通过作为外部装置的搬送机器人(未图示)所搬送的半导体晶片等基板12旋转；和圆板形状的罩部15，其以覆盖旋转体13的方式设在该旋转体的上部。在罩部15的外周侧表面内的周向上，以60度间隔在规定的位置处配置有6个旋转板17(在图1中仅图示了2个)。在各旋转板17的上表面，在从旋转板17的中心轴T偏心的位置处，设有对载置于旋转体13上的基板12进行保持和释放的夹紧销18(在图1中仅图示了4个)。在基板12的上方，配置有向基板12的正面(上表面)供给处理液(例如，蚀刻液、冲洗液等)的喷嘴20(20a、20b、20c、20d)。在旋转体13上，一体地设置有作为旋转轴的圆筒部件的动力传动体21，该动力传动体21被驱动马达22旋转驱动。并且，旋转体13、夹紧销18以及驱动马达22构成了基板旋转构件。驱动马达22构成为具有转子26a和定子26b。转子26a贯通在下部的基座板23上形成的圆形的通孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其将多种处理液依次供给到基板上来处理基板，其特征在于，所述基板处理装置具有：基板旋转构件，其保持着所述基板进行旋转；处理液供给构件，其对借助所述基板旋转构件旋转的所述基板供给处理液；杯体，其设置于所述基板的周围，接收从所述基板飞散的所述处理液；各种回收通道，它们与所述杯体接收的处理液的种类对应地供来自所述杯体的所述处理液流过；转动构件，其使所述杯体水平转动，将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向；以及升降构件，其使所述杯体沿上下方向升降而切换为第1高度位置和第2高度位置，其中，所述第1高度位置是通过所述转动构件使所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位置，所述第2高度位置是使所述杯体接收的所述处理液流到废液通道中的高度位置。

【技术特征摘要】
2017.09.26 JP 2017-1853121.一种基板处理装置，其将多种处理液依次供给到基板上来处理基板，其特征在于，所述基板处理装置具有：基板旋转构件，其保持着所述基板进行旋转；处理液供给构件，其对借助所述基板旋转构件旋转的所述基板供给处理液；杯体，其设置于所述基板的周围，接收从所述基板飞散的所述处理液；各种回收通道，它们与所述杯体接收的处理液的种类对应地供来自所述杯体的所述处理液流过；转动构件，其使所述杯体水平转动，将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向；以及升降构件，其使所述杯体沿上下方向升降而切换为第1高度位置和第2高度位置，其中，所述第1高度位置是通过所述转动构件使所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位置，所述第2高度位置是使所述杯体接收的所述处理液流到废液通道中的高度位置。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述杯体是上部开口的环状的容器，在所述杯体的下部形成有流出孔部，所述流出孔部用于使所述处理液流到所述回收通道或所述废液通道中。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板旋转构件的外周壁部、和配置在所述基板旋转构件的外周侧的液体承接部的内周壁部以规定长度插入所述杯体的所述开口中。4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述回收通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个回收配管。5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置还具有各种排气通道，所述各种排气通道与所述处理液的种类对应地使含有所述处理液的气体从所述杯体流到外部，在通过所述转动构件将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的所述回收通道所位于的方向时，在所述杯体的外周面上形成的凹部形状的排气间隙和与所述处理液的种类相对应的排气通道连通。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述排气通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个排气配管。7.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：古矢正明，山崎克弘，森秀树，林航之介，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP