【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造技术,特别涉及一种双层堆叠cmos图像传感器。
技术介绍
1、通常cmos图像传感器(cis)的一个有源像素单元包含位于外延层中的光电二极管(photo diode,pd)和多个像素晶体管(pixel transistors),以4t结构cmos图像传感器为例,如图1所示,四个像素晶体管具体分别为传输门晶体管(transfer gate,tg)、源极跟随管(source follow,sf)、复位管(reset,rst)和行选择管(row select,rs)。其中,4t结构cmos图像传感器的基本工作原理是这样的:光电二极管pd作用是实现光电转换,传输门晶体管tx可以理解为用于控制电子从光电二极管传输到浮置扩散区的开关,浮动扩散区(floating diffusion,fd)可以理解为一个电容用于存储光电转换产生的电子,源极跟随管sf为用于控制浮置扩散区的电子传输到信号线的开关,复位管rst用于重置电路中的电压信号,行选择管rs用于控制像素单元信号输出的开关,通过这个开关我们可以控制哪个像素单元信号先输出,哪个
...【技术保护点】
1.一种双层堆叠CMOS图像传感器,为4T结构CMOS图像传感器,其特征在于,其像素单元的光电二极管(PD)、传输门晶体管(TG)及第一浮动扩散区形成在第一基片(SB1);
2.根据权利要求1所述的双层堆叠CMOS图像传感器,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的双层堆叠CMOS图像传感器,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的双层堆叠CMOS图像传感器,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的双层堆叠CMOS图像传感器,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的双层堆叠CMOS图像传感器,其特征在于,
【技术特征摘要】
1.一种双层堆叠cmos图像传感器,为4t结构cmos图像传感器,其特征在于,其像素单元的光电二极管(pd)、传输门晶体管(tg)及第一浮动扩散区形成在第一基片(sb1);
2.根据权利要求1所述的双层堆叠cmos图像传感器,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的双层堆叠cmos图像传感器,其特征在于,
4.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:方兴,秋沉沉,钱俊,孙昌,魏峥颖,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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