【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电弧离子镀，特别涉及一种多弧离子镀镀膜装置。
技术介绍
1、随着工业的不断发展，材料表面处理的需求日益增加，电弧离子镀作为一种先进的薄膜制备技术，具有沉积速率高、涂层附着力强等优点，因此广泛应用于各种需要高性能、高均匀性涂层的领域，如航空航天、汽车、电子、刀具等。
2、近年来，多靶材离子镀设备的研发取得了一定的进展，一些设备采用了多列靶材设计，以提高涂层制备的效率和均匀性，然而，这些设备通常存在一些问题，如靶材位排列方式不合理的情况，当靶材位列方式不合理时，在对产品进行涂层制备时，存在涂层不均匀的情况产生。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种多弧离子镀镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种多弧离子镀镀膜装置，包括：
4、真空室，所述真空室的侧壁构成八边形；
5、第一靶材固定框，所述第一靶材固定框设置在所述侧壁的第一侧壁上，所述第一靶材固定框设置有多个第一靶材；
6、第二靶材固定框，所述第二靶材固定框沿着所述真空室的内部中心与所述第一靶材固定框相对称地设置在所述侧壁的第二侧壁上，所述第二靶材固定框设置有多个第二靶材；
7、第三靶材固定框，所述第三靶材固定框设置在所述侧壁的第三侧壁上，所述第三靶材固定框设置有多个第三靶材；
8、第四靶材固定框，所述第四靶材固定框沿着所述真空室的内部中心与所述第三靶材固定框相对称地设
9、优选的，所述第一靶材固定框、所述第二靶材固定框、所述第三靶材固定框和所述第四靶材固定框的高度为h，所述真空室的高度为h，所述真空室的相对称的两个侧壁之间的间距为1~1.2m，其中，1m≤h≤1.2m，0.8h≤h≤0.95h。
10、优选的，所述第一靶材固定框、所述第二靶材固定框、所述第三靶材固定框和所述第四靶材固定框分别具有四个靶位用于容纳靶材，各靶位上的靶材直径为d，相邻靶位上的靶材间距从上向下依次为d1、d2和d3，其中，10cm≤d≤11cm，d≤d1=d2=d3≤1.5d。
11、优选的，在所述真空室的顶端和底端之间悬挂设置有用于限制离子移动方向的挡板，所述挡板包括多个第一挡板、多个第二挡板、多个第三挡板和多个第四挡板，所述多个第一挡板与所述第一靶材固定框相邻，所述多个第二挡板与所述第二靶材固定框相邻，所述多个第三挡板与所述第三靶材固定框相邻，所述多个第四挡板与所述第四靶材固定框相邻。
12、优选的，所述真空室设置有用于加热真空室内部空间的加热器，所述加热器包括第一加热器和第二加热器，所述第一加热器设置在所述第一侧壁和所述第三侧壁之间的侧壁上，所述第二加热器设置在所述第二侧壁和所述第四侧壁之间的侧壁上。
13、优选的，所述真空室设置有用于将所述真空室内部空间进行抽真空的真空抽口，所述真空抽口设置在所述第一侧壁和所述第四侧壁之间的侧壁上。
14、优选的，所述第一靶材固定框设置有多个第一引弧针，所述第二靶材固定框设置有多个第二引弧针，所述第三靶材固定框设置有多个第三引弧针，所述第四靶材固定框设置有多个第四引弧针。
15、优选的，所述真空室设置有霍尔离子源，所述霍尔离子源设置在所述第二侧壁和所述第三侧壁之间的侧壁上，和悬挂设置在所述真空室的顶端和底端之间用于限制离子移动方向的多个霍尔离子源挡板，所述多个霍尔离子源挡板与所述霍尔离子源相邻。
16、优选的，所述真空室设置有多个气管，所述多个气管分别与所述第一靶材固定框、所述第二靶材固定框、所述第三靶材固定框和所述第四靶材固定框相邻。
17、本技术的技术效果和优点：
18、本技术中提供一种多弧离子镀镀膜装置，包括真空室，真空室的侧壁构成八边形，设置在真空室侧壁上的靶材固定框以及设置在靶材固定框的多个靶材，本技术使得靶材更加紧凑，使得等离子体能够更加均匀地撞击到基材上，且此种设置方式可以减小涂层中的缺陷和应力，提高涂层的力学性能和耐腐蚀性，有利于提高涂层的均匀性。
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1.一种多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材固定框（201）、所述第二靶材固定框（202）、所述第三靶材固定框（203）和所述第四靶材固定框（204）的高度为h，所述真空室(1)的高度为H，所述真空室（1）的相对称的两个侧壁之间的间距为1~1.2m，其中，1m≤H≤1.2m，0.8H≤h≤0.95H。
3.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材固定框（201）、所述第二靶材固定框（202）、所述第三靶材固定框（203）和所述第四靶材固定框（204）分别具有四个靶位（12）用于容纳靶材（13），各靶位上的靶材直径为d，相邻靶位上的靶材间距从上向下依次为d1、d2和d3，其中，10cm≤d≤11cm，d≤d1=d2=d3≤1.5d。
4.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，在所述真空室（1）的顶端和底端之间悬挂设置有用于限制离子移动方向的挡板，所述挡板包括多个第一挡板（501）、多个第二挡板（502）、多个第三挡板（503）和多个第四挡
5.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）设置有用于加热真空室内部空间的加热器，所述加热器包括第一加热器（601）和第二加热器（602），所述第一加热器（601）设置在所述第一侧壁（301）和所述第三侧壁（303）之间的侧壁上，所述第二加热器（602）设置在所述第二侧壁（302）和所述第四侧壁（304）之间的侧壁上。
6.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）设置有用于将所述真空室（1）内部空间进行抽真空的真空抽口（7），所述真空抽口（7）设置在所述第一侧壁（301）和所述第四侧壁（304）之间的侧壁上。
7.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材固定框（201）设置有多个第一引弧针（801），所述第二靶材固定框（202）设置有多个第二引弧针（802），所述第三靶材固定框（203）设置有多个第三引弧针（803），所述第四靶材固定框（204）设置有多个第四引弧针（804）。
8.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）设置有霍尔离子源（9），所述霍尔离子源（9）设置在所述第二侧壁（302）和所述第三侧壁（303）之间的侧壁上，和悬挂设置在所述真空室（1）的顶端和底端之间用于限制离子移动方向的多个霍尔离子源挡板（10），所述多个霍尔离子源挡板（10）与所述霍尔离子源（9）相邻。
9.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）设置有多个气管（1101、1102、1103、1104），所述多个气管（1101、1102、1103、1104）分别与所述第一靶材固定框（201）、所述第二靶材固定框（202）、所述第三靶材固定框（203）和所述第四靶材固定框（204）相邻。
...【技术特征摘要】
1.一种多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材固定框（201）、所述第二靶材固定框（202）、所述第三靶材固定框（203）和所述第四靶材固定框（204）的高度为h，所述真空室(1)的高度为h，所述真空室（1）的相对称的两个侧壁之间的间距为1~1.2m，其中，1m≤h≤1.2m，0.8h≤h≤0.95h。
3.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材固定框（201）、所述第二靶材固定框（202）、所述第三靶材固定框（203）和所述第四靶材固定框（204）分别具有四个靶位（12）用于容纳靶材（13），各靶位上的靶材直径为d，相邻靶位上的靶材间距从上向下依次为d1、d2和d3，其中，10cm≤d≤11cm，d≤d1=d2=d3≤1.5d。
4.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，在所述真空室（1）的顶端和底端之间悬挂设置有用于限制离子移动方向的挡板，所述挡板包括多个第一挡板（501）、多个第二挡板（502）、多个第三挡板（503）和多个第四挡板（504），所述多个第一挡板（501）与所述第一靶材固定框（201）相邻，所述多个第二挡板（502）与所述第二靶材固定框（202）相邻，所述多个第三挡板（503）与所述第三靶材固定框（203）相邻，所述多个第四挡板（504）与所述第四靶材固定框（204）相邻。
5.根据权利要求1所述的多弧离子镀镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）设置有用于加热真空室内部空间的加热器，所述加热器包括第一加热器（601）和第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈瑶瑶，谭卓鹏，钟志强，邱联昌，高亚伟，周贤杰，殷磊，胡伟军，廖星文，
申请(专利权)人：赣州澳克泰工具技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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