System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种CVD复合涂层刀具及其制备方法技术_技高网

一种CVD复合涂层刀具及其制备方法技术

技术编号:41154282 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-30 18:19
本发明专利技术属于机械加工刀具技术领域,具体涉及一种CVD复合涂层刀具及其制备方法,包括刀具基体和基体上的复合涂层;所述复合涂层自刀具基体表面由内至外依次包括TiN涂层、过渡层和Ti<subgt;a</subgt;B<subgt;b</subgt;涂层;本发明专利技术有效增强了刀具的耐磨性和抗崩刃性,适用于钛基和镍基高温合金等难加工材料的车削和铣削加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于机械加工刀具,具体为一种cvd复合涂层刀具及其制备方法。


技术介绍

1、表面涂层可显著提高刀具材料的耐磨性和切削寿命。tib2涂层因其具有较高的硬度、优异的耐磨性和低摩擦系数,常用于增强刀具的耐用性和使用寿命。制备这种涂层的常用技术包含物理气相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd)方法。pvd方法制备的tib2涂层存在涂层残余压应力高和涂层结合力差的缺点。相比之下,cvd方法制备的tib2涂层具有相对较高的涂层结合力和较低的涂层压应力。因此,cvd方法制备tib2涂层是提高刀具材料耐磨性能和切削寿命的理想选择。但现有的tib2涂层刀具还不能满足高温合金高效切削的要求,因此,亟需对刀具涂层的微观组织结构进行设计,以进一步提升涂层的切削性能。


技术实现思路

1、为解决现有技术存在的问题,本专利技术的主要目的是提出一种cvd复合涂层刀具及其制备方法。利用ti-b-n体系的晶体结构随b含量变化而变化的特点,作为连接tin和tiabb层的过渡层。

2、为解决上述技术问题,根据本专利技术的一个方面,本专利技术提供了如下技术方案:

3、一种cvd复合涂层刀具,包括刀具基体和基体上的复合涂层;所述复合涂层自刀具基体表面由内至外依次包括tin涂层、过渡层和tiabb涂层;

4、所述过渡层为纳米等轴晶,过渡层从内至外,钛含量从50at%到33at%逐渐递减,硼含量从0到67at%逐渐递增,氮含量从50at%到0逐渐递减,并且呈现从面心立方到密排六方结构的逐渐变化;

5、所述tiabb涂层为柱状晶结构,满足1.7≤b/a≤2.3。

6、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tiabb涂层具有优先在(100)方向生长的组织结构,其织构系数大于2。

7、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tiabb涂层的厚度大于0.5μm。

8、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tiabb涂层的柱状晶横截面宽度为20~2000nm,并且长宽比大于2,柱状晶基本垂直于基体表面。

9、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tiabb涂层的显微硬度大于40gpa。

10、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tiabb涂层包含纳米片层结构,其中每层纳米片层的厚度小于10 nm。

11、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述tin涂层厚度为0.1~1μm;所述过渡层厚度为0.1~0.5μm;所述tiabb涂层厚度为1.5~10.5μm。

12、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的优选方案,其中:所述过渡层纳米等轴晶的晶粒度小于20nm。

13、为解决上述技术问题,根据本专利技术的另一个方面,本专利技术提供了如下技术方案:

14、一种上述的cvd复合涂层刀具的制备方法,包括:在刀具基体上通过cvd方法依次沉积tin涂层、过渡层、tiabb涂层;

15、过渡层的制备温度为700~900℃,制备压力为30~200mbar,采用n2作为涂层的氮源、bcl3作为涂层的硼源、ticl4作为涂层的钛源、h2作为载气形成气体混合物,所述气体混合物中,n2含量从40vol%逐渐递减至0,ticl4含量为1.0~3.0vol%,bcl3含量从0.1vol%逐渐递增至0.95vol%;

16、tiabb涂层的制备温度为700~900℃,制备压力为30~200mbar,采用bcl3作为涂层的硼源、ticl4作为涂层的钛源、h2作为载气形成气体混合物,所述气体混合物中,ticl4含量为0.22~0.66vol%,bcl3含量为0.95~1.19vol%,bcl3含量优选为1.05~1.15vol%。

17、作为本专利技术所述的一种cvd复合涂层刀具的制备方法的优选方案,其中:tin涂层的制备温度为800~1000℃,制备压力为80~500mbar,采用n2作为涂层的氮源、ticl4作为涂层的钛源、h2作为载气形成气体混合物,所述气体混合物中,ticl4含量为1.0~3.0vol%,n2含量为30~50vol%。

18、本专利技术的有益效果如下:

19、本专利技术提供一种cvd复合涂层刀具及其制备方法,包括刀具基体和基体上的复合涂层;所述复合涂层自刀具基体表面由内至外依次包括tin涂层、过渡层和tiabb涂层;本专利技术有效增强了刀具的耐磨性和抗崩刃性,适用于钛基和镍基高温合金等难加工材料的车削和铣削加工。

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【技术保护点】

1.一种CVD复合涂层刀具,其特征在于,包括刀具基体和基体上的复合涂层;所述复合涂层自刀具基体表面由内至外依次包括TiN涂层、过渡层和TiaBb涂层;

2.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiaBb涂层具有优先在(100)方向生长的组织结构,其织构系数大于2。

3.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiaBb涂层的厚度大于0.5μm。

4.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiaBb涂层的柱状晶横截面宽度为20~2000nm,并且长宽比大于2。

5.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiaBb涂层的显微硬度大于40GPa。

6.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiaBb涂层包含纳米片层结构,其中每层纳米片层的厚度小于10 nm。

7.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述TiN涂层厚度为0.1~1μm;所述过渡层厚度为0.1~0.5μm;所述TiaBb涂层厚度为1.5~10.5μm。

8.根据权利要求1所述的CVD复合涂层刀具,其特征在于,所述过渡层纳米等轴晶的晶粒度小于20nm。

9.一种权利要求1-8任一项所述的CVD复合涂层刀具的制备方法,其特征在于,包括:在刀具基体上通过CVD方法依次沉积TiN涂层、过渡层、TiaBb涂层;

10.根据权利要求9所述的CVD复合涂层刀具的制备方法,其特征在于,TiN涂层的制备温度为800~1000℃,制备压力为80~500mbar,采用N2作为涂层的氮源、TiCl4作为涂层的钛源、H2作为载气形成气体混合物,所述气体混合物中,TiCl4含量为1.0~3.0vol%,N2含量为30~50vol%。

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【技术特征摘要】

1.一种cvd复合涂层刀具,其特征在于,包括刀具基体和基体上的复合涂层;所述复合涂层自刀具基体表面由内至外依次包括tin涂层、过渡层和tiabb涂层;

2.根据权利要求1所述的cvd复合涂层刀具,其特征在于,所述tiabb涂层具有优先在(100)方向生长的组织结构,其织构系数大于2。

3.根据权利要求1所述的cvd复合涂层刀具,其特征在于,所述tiabb涂层的厚度大于0.5μm。

4.根据权利要求1所述的cvd复合涂层刀具,其特征在于,所述tiabb涂层的柱状晶横截面宽度为20~2000nm,并且长宽比大于2。

5.根据权利要求1所述的cvd复合涂层刀具,其特征在于,所述tiabb涂层的显微硬度大于40gpa。

6.根据权利要求1所述的cvd复合涂层刀具,其特征在于,所述tiabb涂层包含纳米片层结构,其中每层纳米片层的厚度小于1...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄文清朱骥飞廖星文钟志强殷磊谭卓鹏成伟
申请(专利权)人:赣州澳克泰工具技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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