本技术公开一种镀膜设备的真空系统保护装置，涉及真空镀膜设备领域。该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵，所述真空系统保护装置包括磁性组件和过滤组件，磁性组件和过滤组件的双重作用有效去除粉尘从而保护分子泵，提高分子泵使用寿命，提高生产效率，从而有效的保护分子泵。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜设备，具体为一种镀膜设备的真空系统保护装置。
技术介绍
1、真空镀膜机指需要在较高真空度下进行镀膜，由炉室、管道、分子泵等结构组成的设备，炉室顶部抽气口连接管道，管道前端连接真空室，后端连接分子泵抽气口，在设备进行镀膜过程中，高温气体和粉尘会进入分子泵，从而降低分子泵的寿命和功效，直接影响生产效率，增大生产成本。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术提供了一种镀膜设备的真空系统保护装置，解决了目前真空镀膜机会损坏分子泵的问题。
2、为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种镀膜设备的真空系统保护装置，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道设置的磁性组件和过滤组件。
3、优选的，磁性组件包括电磁控件，所述电磁控件的电流范围为0.1a~10a。
4、优选的，过滤组件包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目。
5、优选的，在磁性组件和过滤组件之间设置接口，实现磁性组件内收集的粉尘的清理。
6、优选的，过滤组件中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
7、优选的，所述真空系统保护装置还包括冷却组件，冷却组件位于炉室和磁性组件之间，设置于真空管道前端，冷却组件采用水冷系统，进水温度范围为18~22℃。
>8、本技术公开了一种真空镀膜设备的除尘装置，其具备的有益效果如下：一种镀膜设备的真空系统保护装置，涉及真空镀膜设备领域。该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵，所述真空系统保护装置包括磁性组件和过滤组件，磁性组件和过滤组件的双重作用有效去除粉尘从而保护分子泵，提高分子泵使用寿命，提高生产效率，从而有效的保护分子泵。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道设置的磁性组件和过滤组件。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，磁性组件包括电磁控件，所述电磁控件的电流范围为0.1A~10A。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，过滤组件包括过滤网，所述过滤网的目数范围为800~2500目。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，在磁性组件和过滤组件之间设置接口，实现磁性组件内收集的粉尘的清理。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，过滤组件中设置有过滤网卡槽，便于更换或清理过滤网。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，所述真空系统保护装置还包括冷却组件，冷却组件位于炉室和磁性组件之间，设置于真空管道前端，冷却组件采用水冷系统，进水温度范围为18~22℃。
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【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，该镀膜设备的真空系统保护装置包括炉室，所述炉室的外部设置有真空系统保护装置，所述真空系统保护装置包括真空管道，真空管道前端位于炉室的顶部，真空管道末端连接分子泵；所述真空系统保护装置包括依次沿真空管道设置的磁性组件和过滤组件。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，磁性组件包括电磁控件，所述电磁控件的电流范围为0.1a~10a。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备的真空系统保护装置，其特征在于，过滤组件包括过滤网，所述过滤...
【专利技术属性】
技术研发人员：周贤杰，谭卓鹏，邱联昌，钟志强，高亚伟，陈瑶瑶，殷磊，胡伟军，廖星文，
申请(专利权)人：赣州澳克泰工具技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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