【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、玻璃是在粘稠的熔融材料快速冷却至低于其玻璃化转变温度而没有足够的时间形成规则晶格形式时产生的制品。通常，玻璃制品由基于二氧化硅的材料形成，其可包含约70-72重量％的二氧化硅(sio2)。已知将玻璃制品用于建筑和建材产品，如用于窗户的透明材料、作为内部玻璃隔断和作为建筑特征。除了内部和外部用途外，玻璃制品还可以用作各种类型的车辆中的挡风玻璃。此外，玻璃制品通常可以用作不同的光学器件，如消费、科学和军事用途中不同电子设备的透镜和保护罩。
2、可以在常规玻璃制品上沉积涂层以增强诸如导热性、电阻率、辐射防护、抗反射性等性质。此类涂层在高真空条件下以分批工艺进行，并且具有长的加工时间。
3、因此，期望的是在基本大气压下形成含铪涂层，并以与时间关键型制造工艺(例如，通过浮法生产平板玻璃)相容的沉积速率生产它们，以生产用于光学薄膜叠层设计的可负担的涂层。
技术实现思路
1、根据本公开并与本公开一致，令人惊讶地发现了使用包含有机铪化合物和烯属烃的前体气体混合物在玻璃基材上沉积含铪涂层的常压cvd方法。
2、本专利技术所述主题涉及在平板玻璃基材上沉积含铪涂层的方法。更特别地，本专利技术所述主题涉及常压化学气相沉积(cvd)工艺，该方法使用包含有机铪化合物和烯属烃的前体气体混合物在平板玻璃上以高生长速率生产含铪涂层。
3、在一个实施方案中，形成涂覆玻璃制品的方法包括：提供玻璃基材；并使用化学气相沉积工艺在所述玻璃基材上沉积含铪涂层，其中
4、在另一实施方案中，一种用于在移动的玻璃基材上沉积涂层的化学气相沉积工艺包括：提供包含有机铪化合物、分子氧和烯属烃的均匀的前体气体混合物，该有机铪化合物与该烯属烃各具有各自的热分解温度；在低于有机铪化合物与烯属烃各自的热分解温度的温度下，将前体气体混合物输送到与要涂覆的移动玻璃基材相邻的位置，该移动玻璃基材的温度高于有机铪化合物的热分解温度，并被具有约大气压的压力的气氛包围；并将前体气体混合物引入移动的玻璃基材上方的蒸气空间中，其中有机铪化合物与烯属烃反应以便在该玻璃基材上产生涂层，其中该涂层是表现出约1.7至1.9的折射指数的含铪涂层。
5、在某些实施方案中，该有机铪化合物是氨基铪化合物(hafnium amidocompound)。
6、在某些实施方案中，氨基铪化合物包含四(二烷基氨基)铪hf(nme2)4。
7、在某些实施方案中，该有机铪化合物包含形式hf(nr1r2)4的四(二烷基氨基)铪化合物，其中r1和r2是具有1、2或6个碳原子的烃。
8、在某些实施方案中，该含铪涂层具有至少50埃的厚度。
9、在某些实施方案中，该前体气体混合物进一步包含氦气。
10、在某些实施方案中，当在化学气相沉积工艺过程中引入前体气体混合物时，该玻璃基材的温度为至少400℃，更优选425℃。
11、在某些实施方案中，当在化学气相沉积工艺过程中引入前体气体混合物时，该玻璃基材的温度为425℃至700℃、更优选450℃至700℃。
12、在某些实施方案中，该烯属烃是乙烯、丙烯和丁烯中的至少一种。在某些优选实施方案中，该烯属烃是乙烯。
13、在某些实施方案中，该含铪涂层是氧化铪涂层。
14、在某些实施方案中，该玻璃基材包含钠钙硅玻璃。
15、在某些实施方案中，该玻璃基材通过浮法玻璃工艺形成。
16、在某些实施方案中，该含铪涂层以至少50埃/秒的沉积速率沉积在玻璃基材上。
17、在某些实施方案中，该涂覆玻璃制品表现出约0.09％至约0.54％的雾度。
18、在某些实施方案中，该涂覆玻璃制品表现出约56％至约91％的可见光透射率。
19、在某些实施方案中，该涂覆玻璃制品表现出约8％至约23％的膜侧反射率。
20、在某些实施方案中，该方法进一步包括在玻璃基材与含铪涂层之间沉积二氧化硅层。
21、在某些实施方案中，该二氧化硅层具有至少200埃的厚度。
22、在某些实施方案中，该方法进一步包括在玻璃基材与二氧化硅层之间沉积氧化锡层。
23、在某些实施方案中，在将前体气体混合物引入移动的玻璃基材上方的蒸气空间中时，玻璃基材的温度为至少400℃、更优选425℃。
24、在某些实施方案中，在将前体气体混合物引入移动的玻璃基材上方的蒸气空间中时，玻璃基材的温度为425℃至700℃、更优选450℃至700℃。
25、在某些实施方案中，该化学气相沉积工艺进一步包括在移动的玻璃基材与含铪涂层之间沉积二氧化硅层。
26、在某些实施方案中，该化学气相沉积工艺进一步包括在移动的玻璃基材与二氧化硅层之间沉积氧化锡层。
27、根据本专利技术所述的主题，还提供了含铪的涂覆玻璃制品。在一个实施方案中，含铪的涂覆玻璃制品包括具有表面的玻璃基材。该玻璃制品进一步包含在玻璃基材的表面上形成的二氧化硅层和在二氧化硅层上形成的含铪层。
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1.形成涂覆玻璃制品的方法，包括：
2.用于在移动的玻璃基材上沉积涂层以形成涂覆玻璃制品的化学气相沉积工艺，其包括：
3.根据权利要求1的方法或根据权利要求2的化学气相沉积工艺，其中所述有机铪化合物是氨基铪化合物。
4.根据权利要求3的方法或化学气相沉积工艺，其中所述氨基铪化合物包含四(二烷基氨基)铪Hf(NMe2)4。
5.根据权利要求1、3和4任一项的方法，或根据权利要求2至4任一项的化学气相沉积工艺，其中所述有机铪化合物包含Hf(NR1R2)4形式的四(二烷基氨基)铪化合物，其中R1和R2是具有1、2或6个碳原子的烃。
6.根据权利要求1和3至5任一项的方法，或根据权利要求2至5任一项的化学气相沉积工艺，其中所述含铪涂层具有至少50埃的厚度。
7.根据权利要求1和3至6任一项的方法，或根据权利要求2至6任一项的化学气相沉积工艺，其中所述前体气体混合物进一步包含氦气。
8.根据权利要求1和3至7任一项的方法，或根据权利要求2至7任一项的化学气相沉积工艺，其中在将前体气体混合物引入蒸气空间时，所
9.根据权利要求1和3至8任一项的方法，或根据权利要求2至8任一项的化学气相沉积工艺，其中在将前体气体混合物引入蒸气空间时，所述玻璃基材的温度为425℃至700℃、优选450℃至700℃。
10.根据权利要求1和3至9任一项的方法，或根据权利要求2至9任一项的化学气相沉积方法，其中所述烯属烃是乙烯、丙烯和丁烯中的至少一种。
11.根据权利要求1和3至10任一项的方法，或根据权利要求2至10任一项的化学气相沉积方法，其中所述烯属烃是乙烯。
12.根据权利要求1和3至11任一项的方法，或根据权利要求2至11任一项的化学气相沉积工艺，其中所述含铪涂层是氧化铪涂层。
13.根据权利要求1和3至12任一项的方法，或根据权利要求2至12任一项的化学气相沉积工艺，其中所述玻璃基材或所述移动的玻璃基材包含钠钙硅玻璃。
14.根据权利要求1和3至13任一项的方法，或根据权利要求2至13任一项的化学气相沉积工艺，其中所述玻璃基材或所述移动的玻璃基材通过浮法玻璃工艺形成。
15.根据权利要求1和3至14任一项的方法，或根据权利要求2至14任一项的化学气相沉积工艺，其中所述含铪涂层以至少50埃/秒的沉积速率沉积在所述玻璃基材或所述移动的玻璃基材上。
16.根据权利要求1和3至15任一项的方法，或根据权利要求2至15任一项的化学气相沉积工艺，进一步包括在所述玻璃基材或所述移动的玻璃基材与所述含铪涂层之间沉积二氧化硅层。
17.根据权利要求16的方法或化学气相沉积工艺，其中所述二氧化硅层具有至少200埃的厚度。
18.根据权利要求16或17的方法或化学气相沉积工艺，进一步包括在所述玻璃基材或所述移动的玻璃基材与所述二氧化硅层之间沉积氧化锡层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.形成涂覆玻璃制品的方法，包括：
2.用于在移动的玻璃基材上沉积涂层以形成涂覆玻璃制品的化学气相沉积工艺，其包括：
3.根据权利要求1的方法或根据权利要求2的化学气相沉积工艺，其中所述有机铪化合物是氨基铪化合物。
4.根据权利要求3的方法或化学气相沉积工艺，其中所述氨基铪化合物包含四(二烷基氨基)铪hf(nme2)4。
5.根据权利要求1、3和4任一项的方法，或根据权利要求2至4任一项的化学气相沉积工艺，其中所述有机铪化合物包含hf(nr1r2)4形式的四(二烷基氨基)铪化合物，其中r1和r2是具有1、2或6个碳原子的烃。
6.根据权利要求1和3至5任一项的方法，或根据权利要求2至5任一项的化学气相沉积工艺，其中所述含铪涂层具有至少50埃的厚度。
7.根据权利要求1和3至6任一项的方法，或根据权利要求2至6任一项的化学气相沉积工艺，其中所述前体气体混合物进一步包含氦气。
8.根据权利要求1和3至7任一项的方法，或根据权利要求2至7任一项的化学气相沉积工艺，其中在将前体气体混合物引入蒸气空间时，所述玻璃基材的温度为至少400℃，优选425℃。
9.根据权利要求1和3至8任一项的方法，或根据权利要求2至8任一项的化学气相沉积工艺，其中在将前体气体混合物引入蒸气空间时，所述玻璃基材的温度为425℃至700℃、优选450℃至700℃。
10.根据权利要求1和3至9任一项的方法，或...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·瓦拉纳西，M·雷明顿，
申请(专利权)人：皮尔金顿集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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