【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，尤其涉及一种基座及镀膜设备。
技术介绍
1、在现有的半导体热处理过程中，根据使用场景的不同，需要在衬底上生长出相应材质和厚度的镀膜。现有的镀膜工艺，需要将衬底放置在基座上进行镀膜，如果基座在镀膜腔室的水平度发生偏斜变化，则会导致镀膜的膜厚不均匀，现在主流的解决办法则是在基座底部加调节装置，从而调节基座在镀膜腔室内的水平度。
2、现有的基座在对承托的待镀膜衬底进行水平度调节时，通常将基座叠置在承托板上，然后在承托板的底部设置调节板，调节板上间隔设置有多个调节螺钉，调节螺钉与调节板螺纹连接，调节螺钉旋拧穿过调节板与承托板的底部相抵接，通过旋拧调节螺钉，从而使得调节螺钉顶升承托板，从而调节承托板与调节板之间的间隙，实现对基座水平度的调节，但是上述调节方式中承托板仅通过多个调节螺钉来支撑，大大降低了对承托板和基座支撑调节的稳定性，也影响了调节精度。
3、因此，亟需一种基座及镀膜设备，以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种基座及镀膜设备，以提高对基座主体的调节精度和调节的稳定性，保证对待镀膜衬底的镀膜效果。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、一种基座，包括：
4、基座主体，用于承载待镀膜衬底；
5、支撑机构，所述支撑机构包括转动调节板以及固定板，所述转动调节板与所述固定板转动连接，所述转动调节板支撑于所述基座主体的底部，所述转动调节板能够相对于所述固定板在竖直面转动
6、顶升调节机构，所述顶升调节机构被配置为顶升所述转动调节板相对于所述固定板转动。
7、作为优选方案，所述顶升调节机构包括顶升执行组件，所述顶升执行组件用于顶升所述转动调节板相对于所述固定板转动，且所述顶升执行组件的上端面与所述转动调节板面接触或线接触。
8、作为优选方案，所述顶升执行组件为楔形滑块，所述顶升调节机构还包括支撑垫板以及调节驱动组件，所述支撑垫板固定连接于所述固定板上，所述调节驱动组件能够驱动所述楔形滑块沿着所述支撑垫板移动至所述转动调节板的底部，以使所述楔形滑块的上端面顶升所述转动调节板相对于所述固定板转动。
9、作为优选方案，所述支撑垫板的上端面上开设有导向槽，所述导向槽沿所述楔形滑块的移动方向延伸，所述楔形滑块沿着所述导向槽移动。
10、作为优选方案，所述调节驱动组件包括：
11、安装座，所述安装座与所述转动调节板相固定；以及
12、调节丝杆，所述调节丝杆沿所述楔形滑块的移动方向延伸，所述调节丝杆与所述安装座转动连接，并且所述调节丝杆转动穿过所述安装座与所述楔形滑块螺纹连接。
13、作为优选方案，所述调节驱动组件还包括：
14、调节手轮，固定连接于所述调节丝杆的端部。
15、作为优选方案，所述基座还包括：
16、位置调节机构，所述位置调节机构包括第一调整板、第二调整板、第一调节组件以及第二调节组件，所述第一调整板上叠置有所述基座主体，所述第二调整板上叠置有所述第一调整板，所述第二调整板叠置在所述转动调节板上，所述第一调节组件被配置为驱动所述第一调整板相对于所述第二调整板沿第一方向平移，所述第二调节组件被配置为驱动所述第二调整板相对于所述转动调节板沿第二方向平移，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
17、作为优选方案，所述第一调节组件包括第一支撑座以及第一调节螺杆，所述第一支撑座与所述第二调整板固定连接，所述第一调节螺杆的端部设置有第一旋拧手轮，所述第一调节螺杆沿所述第一方向延伸，所述第一调节螺杆与所述第一支撑座螺纹连接，所述第一调节螺杆旋拧穿过所述第一支撑座与所述第一调整板固定连接；
18、所述第二调节组件包括第二支撑座以及第二调节螺杆，所述第二支撑座与所述转动调节板固定连接，所述第二调节螺杆的端部设置有第二旋拧手轮，所述第二调节螺杆沿所述第二方向延伸，所述第二调节螺杆与所述第二支撑座螺纹连接，所述第二调节螺杆旋拧穿过所述第二支撑座与所述第二调整板固定连接。
19、作为优选方案，所述第一调节组件还包括第一限位件，所述第一限位件能够设置在调整好相对位置的所述第一调节螺杆上，以限制所述第一调节螺杆轴向移动；
20、所述第二调节组件还包括第二限位件，所述第二限位件能够设置在调整好相对位置的所述第二调节螺杆上，以限制所述第二调节螺杆轴向移动。
21、一种镀膜设备，包括镀膜腔室以及如上所述的基座，所述基座主体位于所述镀膜腔室内。
22、本技术的有益效果：
23、本技术提供了一种基座，该基座包括基座主体、支撑机构以及顶升调节机构，基座主体用于承载待镀膜衬底，支撑机构包括转动调节板以及固定板，转动调节板与固定板转动连接，转动调节板支撑于基座主体的底部，转动调节板能够相对于固定板在竖直面转动，以带动调节基座主体的水平度，顶升调节机构用于顶升转动调节板相对于固定板转动。该基座通过调节转动调节板相对于固定板在竖直面的转动角度进而调节基座主体的水平度，大大提高了对基座主体水平度调节的稳定性，进而提高了对基座主体水平度调节的精度。
24、本技术还提供了一种镀膜设备，通过应用上述基座在镀膜腔室内承载待镀膜衬底，提高了对基座主体水平度调节的稳定性和对基座主体水平度的调节精度，保证了对待镀膜衬底的镀膜效果。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基座，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，所述顶升调节机构(3)包括顶升执行组件(32)，所述顶升执行组件(32)用于顶升所述转动调节板(21)相对于所述固定板(22)转动，且所述顶升执行组件(32)的上端面与所述转动调节板(21)面接触或线接触。
3.根据权利要求2所述的基座，其特征在于，所述顶升执行组件(32)为楔形滑块，所述顶升调节机构(3)还包括支撑垫板(31)以及调节驱动组件(33)，所述支撑垫板(31)固定连接于所述固定板(22)上，所述调节驱动组件(33)能够驱动所述楔形滑块沿着所述支撑垫板(31)移动至所述转动调节板(21)的底部，以使所述楔形滑块的上端面顶升所述转动调节板(21)相对于所述固定板(22)转动。
4.根据权利要求3所述的基座，其特征在于，所述支撑垫板(31)的上端面上开设有导向槽(3121)，所述导向槽(3121)沿所述楔形滑块的移动方向延伸，所述楔形滑块沿着所述导向槽(3121)移动。
5.根据权利要求3所述的基座，其特征在于，所述调节驱动组件(33)包括：
...【技术特征摘要】
1.一种基座，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基座，其特征在于，所述顶升调节机构(3)包括顶升执行组件(32)，所述顶升执行组件(32)用于顶升所述转动调节板(21)相对于所述固定板(22)转动，且所述顶升执行组件(32)的上端面与所述转动调节板(21)面接触或线接触。
3.根据权利要求2所述的基座，其特征在于，所述顶升执行组件(32)为楔形滑块，所述顶升调节机构(3)还包括支撑垫板(31)以及调节驱动组件(33)，所述支撑垫板(31)固定连接于所述固定板(22)上，所述调节驱动组件(33)能够驱动所述楔形滑块沿着所述支撑垫板(31)移动至所述转动调节板(21)的底部，以使所述楔形滑块的上端面顶升所述转动调节板(21)相对于所述固定板(22)转动。
4.根据权利要求3所述的基座，其特征在于，所述支撑垫板(31)的上端面上开设有导向槽(3121)，所述导向槽(3121)沿所述楔形滑块的移动方向延伸，所述楔形滑块沿着所述导向槽(3121)移动。
5.根据权利要求3所述的基座，其特征在于，所述调节驱动组件(33)包括：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：曹建伟，沈文杰，朱凌锋，罗通，陶梦竹，沈加富，刘道源，
申请(专利权)人：浙江求是创芯半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。