一种光敏剂及其光引发剂组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种光敏剂，其分子结构为含氮芳杂环的季铵盐，结构通式可表示为Ｒ１－ＡＲＮ＋Ｘ－，其中，ＡＲＮ为含氮芳杂环，Ｘ－为卤素阴离子，或ＰＦ６－，或ＡｓＦ６－，或ＣｌＯ４－，或（Ｃ６Ｈ５）４Ｂ－，或ＢＦ４－，或ＣＨ３（Ｃ６Ｈ４）ＳＯ３－，Ｒ１为１－１４个碳原子的烷基、或芳基、或含杂原子的烷基或芳基；含该光敏剂的光引发剂组合物，还包括有机酸、或含有羧基官能团的化合物或聚合物、或接有－ＣＯＯＨ的材料表面，以及水和醇，本光敏剂的性能可调范围宽，光敏剂的感光范围可以从紫外扩展到可见光，可以用于以水为稀释剂的光固化涂料、油墨、粘合剂，用本发明专利技术的光敏剂与有机酸配合形成光引发剂组合物时，可以用于新材料的合成以及对材料进行表面改性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光敏剂及含该光敏剂的光引发剂组合物，可用于光聚合、光固化的涂料、油墨、粘合剂，以及用于材料的光化学改性、表面接枝、功能材料制备等。
技术介绍
光固化是一种先进的反应性加工方式，相比热引发，光引发的效率高，速度快、节能、环保的优势明显。光固化材料已经广泛在涂料、油墨、粘合剂、电子化学品等方面广泛使用。光固化材料由光引发剂、树脂以及单体等组成，光引发剂的功能是吸收光能，产生高活性的活性中间体引发聚合反应。 光引发剂大致分为自由基和离子型，前者用于引发乙烯基官能团的聚合，分为直接裂解型和夺氢型两大类，a -取代苯乙酮以及酰基氧化膦是代表性的直接裂解型光引发剂，二苯甲酮和硫杂蒽酮是代表性的夺氢型的光引发剂。中国专利技术专利CN 1281577C公开了一种光敏季铵盐，光解后可以产生自由基和叔胺，是基于二烷胺基的芳基酮的季胺盐。有关光引发剂以及光聚合、光固化的知识可进一步参看专业书籍，例如，陈用烈，曾兆华，杨建文著，《辐射固化材料及其应用》，化学工业出版社，2003年。 现有的a -取代苯乙酮以及酰基氧化膦类光引发剂水溶性不好，现有光敏季铵盐类虽然可以水溶，但光谱吸收在紫外光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光敏剂，其特征在于：该光敏剂为含氮芳杂环的季铵盐，结构通式为Ｒ↑［１］－↑［ＡＲ］Ｎ↑［＋］Ｘ↑［－］；　　其中，↑［ＡＲ］Ｎ为含氮芳杂环；　　Ｘ↑［－］为卤素阴离子或ＰＦ↓［６］↑［－］或ＡｓＦ↓［６］↑［－］或ＣｌＯ↓［４］↑［－］或（Ｃ↓［６］Ｈ↓［５］）↓［４］Ｂ↑［－］或ＢＦ↓［４］↑［－］或ＣＨ↓［３］（Ｃ↓［６］Ｈ↓［４］）ＳＯ↓［３］↑［－］；　　Ｒ↑［１］为１－１４个碳原子的烷基、或芳基、或含杂原子的烷基或芳基。

【技术特征摘要】
一种光敏剂，其特征在于该光敏剂为含氮芳杂环的季铵盐，结构通式为R1-ARN+X-；其中，ARN为含氮芳杂环；X-为卤素阴离子或PF6-或AsF6-或ClO4-或(C6H5)4B-或BF4-或CH3(C6H4)SO3-；R1为1-14个碳原子的烷基、或芳基、或含杂原子的烷基或芳基。2. 根据权利要求1所述的一种光敏剂，其特征在于所述的含氮芳杂环可为含氮单芳环、二元环、三元环、或稠芳杂环，或含有多个这些含氮芳杂环官能团的化合物，或聚合物。3. 根据权利要求l所述的一种光敏剂，其特征在于所述含氮芳杂环上可以有烷基、芳基以及含杂原子的取代基。4. 根据权利要求1所述的一种光敏剂，其特征在于该季铵盐可...

【专利技术属性】
技术研发人员：王跃川，曹良成，牟苗，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]