【技术实现步骤摘要】
本技术涉及芯片清洗设备，尤其涉及一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备。
技术介绍
1、根据中国专利号为cn213887331u的一种通讯设备芯片加工用蚀刻清洗装置，通讯设备芯片加工用蚀刻清洗装置包括：基座、通过立板固定安装的横板和固定安装在所述基座上的洗涤箱，所述横板上安装有烘干组件，所述烘干组件通过传动组件与冲洗组件连接，所述冲洗组件连接有传输组件，所述基座上还安装有擦拭收集组件，所述传输组件将芯片传输至所述洗涤箱内，所述冲洗组件利用所述洗涤箱内的洗涤液对所述传输组件上的芯片进行冲洗，所述传输组件又将芯片传输至所述烘干组件正下方位置，所述烘干组件对芯片进行烘干，烘干后所述传输组件将芯片传输至所述擦拭收集组件，对芯片反面进行擦拭及收集，最终，实现了装置对通讯设备芯片有效的清洗及收集功能。
2、上述专利以及现有技术的基础上，清洗设备是简单的进行喷淋，将蚀刻之后的表面化学液体冲洗干净，但是对于芯片边缘的打磨还是需要后续进行操作。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的...
【技术保护点】
1.一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备，包括主箱体(1)，其特征在于：所述主箱体(1)的顶部设有工作台(5)，所述工作台(5)的表面横向设有进料滑轨(6)，所述进料滑轨(6)表面设有进料支架(3)，所述工作台(5)的表面在进料滑轨(6)的侧面设有清洗刷筒(7)，所述清洗刷筒(7)的内部中轴位置设有驱动电机(10)，所述工作台(5)的一侧在进料滑轨(6)的端部设有成品支架(8)，所述进料滑轨(6)在清洗刷筒(7)的位置竖直设有喷洗支架(4)，且喷洗支架(4)和清洗刷筒(7)分别外接有水管。
2.根据权利要求1所述的一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备，其特征在于：...
【技术特征摘要】
1.一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备，包括主箱体(1)，其特征在于：所述主箱体(1)的顶部设有工作台(5)，所述工作台(5)的表面横向设有进料滑轨(6)，所述进料滑轨(6)表面设有进料支架(3)，所述工作台(5)的表面在进料滑轨(6)的侧面设有清洗刷筒(7)，所述清洗刷筒(7)的内部中轴位置设有驱动电机(10)，所述工作台(5)的一侧在进料滑轨(6)的端部设有成品支架(8)，所述进料滑轨(6)在清洗刷筒(7)的位置竖直设有喷洗支架(4)，且喷洗支架(4)和清洗刷筒(7)分别外接有水管。
2.根据权利要求1所述的一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备，其特征在于：所述主箱体(1)的正面一侧设有控制面板(2)，且控制面板(2)为led显示屏幕，且控制面板(2)电性连接互联网。
3.根据权利要求1所述的一种自动化化学蚀刻后芯片清洗设备，其特征在于：所述主箱体(1)的侧面螺钉连接有侧面封板(9)...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵斌，
申请(专利权)人：深圳市百禾芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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