【技术实现步骤摘要】
本技术属于晶圆片读片，尤其涉及无污染晶圆片读片系统。
技术介绍
1、半导体集成电路生产，每一道工艺的进行，都离不开晶圆片的传送和在当前工艺段对每一盒晶圆片进行追踪和数量确认；对常见的几种晶圆片尺寸，6英寸、8英寸和12英寸的各类工艺生产量测检测设备上，使用比较多的晶圆片数读取机构或者装置是相对运动形式的，即激光检测装置和晶圆片承载盒放置平台两者一方固定，一方通过步进电机驱动螺杆上下移动，上位机系统通过激光检测信号的多少来统计当前晶圆片盒中的实际晶圆片数量，即当晶圆片盒随着承载平台上下移动时，每一片晶圆片经过激光发生器时会遮挡一次激光光线，每一次遮挡被认为存在一片晶圆片；系统上下移动的行程范围内检测到的所有遮挡次数，统计为当前晶圆片盒内的实际晶圆片数量。
2、实际使用过程中存在的技术问题：因为激光发射器所产生的是单点单线激光线，对晶圆片的检测只是一个点，当晶圆片盒中某个位置的晶圆片因为前一道工序的问题，在晶圆片盒中是倾斜的，或者同一片的位置叠片放置了两片，在系统中依然会被统计为一片；因为承载平台或者激光发生器组件的上下移动，步进电机驱动螺杆旋转运动，机械运动会产生金属颗粒，一段时间后螺杆在保养时需要进行润滑处理，而润滑油会挥发到环境空气中，当环境空气中油分子和金属颗粒到一定浓度，运行中的晶圆片表面会粘附降低晶圆片良率的颗粒。
技术实现思路
1、本技术实施例的目的在于提供无污染晶圆片读片系统，旨在解决
技术介绍
中存在的问题。
2、本技术实施例是这样实现的，无污染晶
3、作为本技术进一步的方案，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台左右两侧，所述晶圆片水平放置。
4、作为本技术进一步的方案，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台上下两侧，所述晶圆片竖直放置。
5、作为本技术进一步的方案，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台同一侧，所述晶圆片竖直放置。
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1.无污染晶圆片读片系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的无污染晶圆片读片系统，其特征在于，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台左右两侧，所述晶圆片水平放置。
3.根据权利要求1所述的无污染晶圆片读片系统，其特征在于，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台上下两侧，所述晶圆片竖直放置。
4.根据权利要求1所述的无污染晶圆片读片系统，其特征在于，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台同一侧，所述晶圆片竖直放置。
【技术特征摘要】
1.无污染晶圆片读片系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的无污染晶圆片读片系统，其特征在于，所述相机和背景光源分别设于所述承载平台左右两侧，所述晶圆片水平放置。
3.根据权利要求1所述的无污染晶圆...
【专利技术属性】
技术研发人员：董锐，张海峰，
申请(专利权)人：上海矽皓精密设备技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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