本发明专利技术涉及一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法，其方法是识别并根据传送皮带（１）上的陶瓷砖坯（６）不位于淋釉器下方关闭遮釉机构遮挡釉幕（７）下落，否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落；装置包括遮釉瓦（５）及其驱动单元，所述驱动单元依次电连接控制单元和用于识别陶瓷砖坯的传感器。这种装置及其方法，采用遮釉瓦和自动传感控制，在无砖坯通过时将幕帘下的釉浆遮挡起来，使之不覆皮带，以避免皮带的裹走釉浆，减少釉浆的流失、污染和皮带粘釉导致的一系列问题，降低生产成本、提高生产效率和质量。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷砖坯淋釉工艺和设备，具体涉及。
技术介绍
随着房地产业的快速发展，建筑材料陶瓷墙地砖产品市场竞争日趋激烈，市场对 产品的花色品种、质量的要求不断提高，无疑价格也是竞争的焦点之一。企业为应对激烈的 市场竞争形势，在不断加大对新产品研发投入的同时，通过降低产品成本、减少浪费、节能 减排争取获利空间。在陶瓷墙地砖产品生产中，用于表面装饰的釉料占产品成本比重较大， 釉中大量的化工原料导致釉料成本居高不下，而单位平米釉料消耗是现代陶瓷砖的生产成 本的主要控制指标之一。釉面砖的施釉比较常见的有3种方式淋釉、喷釉和甩釉；其中淋 釉是将釉浆打入高位罐，通过缓冲槽、缓冲网的缓冲作用，釉浆平缓的漫出流向钟罩，在钟 罩上铺展形成似瀑布的釉幕帘，当陶瓷砖坯通过时釉幕覆盖在砖坯上形成釉层。淋釉是最 能保证釉面平整度和光滑度的施釉方法，但这种方法施釉对釉浆的比重要求高，釉浆的消 耗量大并且釉浆流失浪费多；这种浪费表现在施釉过程中当没有砖坯通过时，釉幕连续不 断使砖坯输送带裹走大量的釉浆(未淋在皮带上的釉浆通过皮带下面的接釉槽回收循环到 供釉罐)。为减少釉浆流失通常对皮带附加刮釉设置，而该设置在使用的同时需要配合水冲 洗皮带，保持皮带的干净，但清洗皮带用水又导致釉浆在循环过程中的比重越来越小。同时 皮带上的粘釉将粘附于施釉砖坯的底部。在烧成过程中因釉的熔融温度低，砖底的粘釉可 导致成品砖底缺损，以及在烧成的高温段因坯底粘釉、釉熔化使传动辊棒粘釉；辊棒上附着 物将导致烧成砖坯的变形等缺陷，并影响辊棒的使用周期，当辊棒粘脏导致烧制成品变形 严重时，须停窑换辊棒才能继续生产。目前的陶瓷砖坯淋釉方法是导致釉浆消耗高、辊棒使 用周期短的一种影响因素，而停窑换辊棒不仅影响了窑炉产量更导致停开窑带来的质量波 动。
技术实现思路
本专利技术提供了，能减少釉浆的浪费、 避免皮带污染。本专利技术的第一个技术问题这样解决构建一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉方法，包 括以下步骤识别判断传送皮带上的陶瓷砖坯是否位于淋釉器下方；根据所述陶瓷砖坯不位于淋釉器下方关闭遮釉机构，则遮挡釉幕不使下落至传送皮 带，否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落。按照本专利技术提供的遮釉方法，还包括回收被所述遮釉机构遮挡的釉幕。按照本专利技术提供的遮釉方法，所述识别判断包括但不限制于以下两种方式 ㈠通过光电传感器检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置处的陶瓷砖坯；㈡检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置传送前方位置处的陶瓷砖坯并计算延时。按照本专利技术提供的遮釉方法，所述遮釉瓦包括但不限制于以下两种形式㈠所述传送皮带包括二条或二条以上传送皮带，所述遮釉瓦是一整块；㈡所述传送皮带包括二条或二条以上传送皮带，所述遮釉瓦是对应数目的多块，仅遮 挡皮带上方的位置。按照本专利技术提供的遮釉方法，所述遮釉机构包括但不限制于是遮釉瓦及其连杆旋 转机构和驱动所述连杆旋转机构的气缸，其中所述遮釉瓦也可由电机驱动，并通过其他传 动机构使遮釉瓦翻转或平移。本专利技术的另一个技术问题这样解决构建一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置，包 括传送皮带上方、淋釉器釉幕下落通道上、用于遮挡釉幕下落到皮带的遮釉瓦及其驱动单 元，所述驱动单元依次电连接控制单元和用于识别陶瓷砖坯的传感器。按照本专利技术提供的遮釉装置，所述驱动单元包括但不限制于是气缸及其驱动的连 杆旋转机构。按照本专利技术提供的遮釉装置，所述传感器是光电传感器，用于检测传送皮带上淋 釉器釉幕下落位置或传送前方的陶瓷砖坯；所述驱动单元包括与所述遮釉瓦连接的连杆旋 转机构和驱动所述旋转机构的气缸。按照本专利技术提供的遮釉装置，所述遮釉瓦是一块或一块以上。本专利技术提供的用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法，采用遮釉瓦和自动传感控 制，在无砖坯通过时将幕帘下的釉浆遮挡起来，使之不覆皮带，以避免皮带的裹走釉浆，减 少釉浆的流失、污染和皮带粘釉导致的一系列问题，降低生产成本、提高生产效率和质量。附图说明下面结合附图和具体实施例进一步对本专利技术进行详细说明 图1为本专利技术具体实施例中遮釉装置结构示意图2为图1所示装置对应的电原理框图。具体实施例方式首先，说明本专利技术思想本专利技术陶瓷砖坯的淋釉方法是通过压力泵将釉浆打入高位罐，釉浆通过下浆管、缓冲 槽、缓冲网的缓冲作用，釉浆平缓的漫出流向钟罩，并在钟罩铺展上形成似瀑布的釉幕帘， ㈠当陶瓷砖坯通过时，与传统方法一致釉幕覆盖在砖坯上形成釉层；但在当连续形成的釉 幕帘(二)在无砖坯通过时，进行改进，自动关闭皮带上方遮挡物、釉浆被遮挡不覆输送皮带， 落到接釉槽回收进入釉桶循环使用。其次，说明本专利技术关键㈠遮釉装置的动作控制由光电开关检测砖坯位置并控制气缸的动作，光电开关的位 置可以通过支架连接杆调整。当淋釉钟罩下有砖坯通过时，钟罩下的遮釉瓦位于皮带的一 侧边，砖坯通过淋釉器的釉幕进行淋釉，反之，当无砖坯通过时遮釉瓦处在钟罩下并覆盖皮 带遮挡釉幕，使皮带不粘釉浆；㈡遮釉装置的机械动作遮釉运动机构为连杆机构，气缸带动连结机构动作并连杆连接的档釉瓦，连杆机构的遮釉瓦的伸缩动作遮挡淋下的釉浆；曰遮釉装置中的遮釉瓦，其瓦的个数是根据淋釉钟罩下皮带的根数和间距设置所设，或设置平行于砖坯运行方向的连杆伸缩，设计单只遮釉瓦，其宽度尺寸大于最边缘皮带的宽度。第三，结合具体实施例进行详细说明本专利技术的具体实施例应用在施釉线自动输送系统中，该淋釉系统如图1所示，包括传 送皮带1、钟罩淋釉器2、遮釉瓦5、遮釉瓦连杆旋转机构3和气缸4，陶瓷砖坯6通过传送皮 带1输送进入钟罩淋釉器2进行淋釉；首先将储存在釉罐中的釉浆通过压力泵打入高位罐， 釉浆通过缓冲槽缓冲平缓的漫出铺展在钟罩上并流下形成似瀑布的釉幕7，当陶瓷砖坯6 通过时釉幕7覆盖在陶瓷砖坯6上，陶瓷砖坯6吸收釉浆中的水分形成约1 mm左右的釉层。如图2所示，上述淋釉系统的控制电路包括光电传感器、控制单元、内置电磁阀的 气缸4，该气缸4通过遮釉瓦连杆旋转机构3控制遮釉瓦5打开或关闭。上述遮釉瓦机构3具体是连杆旋转机构，一端连接遮釉瓦5、另一端连接气缸4;其 中遮釉瓦连杆的间距与皮带相符。当淋釉过程有砖坯通过时遮釉瓦覆盖住皮带遮挡釉幕淋 到皮带上。遮釉瓦5断面形状接近半圆弧形，圆弧直径以覆盖住皮带及托槽为准，并留有动 作和调整余地，一般尺寸60-80 mm ；瓦的宽度以遮挡釉幕最有效50-60 mm为宜；瓦的材料以 不锈钢材料为佳，也可以使用耐磨的高分子材料，避免磨损导致釉浆污染影响釉面质量。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例，凡依本专利技术权利要求范围所做的均等变化与 修饰，皆应属本专利技术权利要求的涵盖范围。权利要求一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉方法，其特征在于，包括以下步骤识别判断传送皮带(1)上的陶瓷砖坯(6)是否位于淋釉器(2)下方；根据所述陶瓷砖坯不位于淋釉器下方关闭遮釉机构遮挡釉幕(7)下落至传送皮带，否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落。2.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，还包括回收被所述遮釉机构遮挡的釉眷ο3.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述识别判断是通过光电传感器检测 传送皮带上淋釉器釉幕下落位置处的陶瓷砖坯。4.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述识别判断是检测传送皮带上淋釉 器釉幕下落位置传送前方位置处的陶瓷砖坯并计算延时。5.根本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉方法，其特征在于，包括以下步骤：识别判断传送皮带（１）上的陶瓷砖坯（６）是否位于淋釉器（２）下方；根据所述陶瓷砖坯不位于淋釉器下方关闭遮釉机构遮挡釉幕（７）下落至传送皮带，否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄建平，谢悦增，满丽珠，黄俊生，张德安，
申请(专利权)人：黄建平，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]
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