修复密封胶图案的方法及具有修复的密封胶图案的基板技术

本发明专利技术公开一种修复密封胶图案的方法，包括步骤：确定在基板上形成的密封胶图案是否有缺陷；如果确定密封胶图案是有缺陷的，则将密封胶图案缺陷所在的区域设置为修复区；以及以点涂布方式将密封胶滴滴落到修复区。本发明专利技术的优势在于其是以将密封胶滴滴落到修复区的点涂布方式来实施的，使得修复区中的密封胶图案的线宽可以保持恒定，因此获得对应于预定量液晶的密封胶图案的内部面积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种修复密封胶图案的方法，以及一种具有使用所述方法修复的密封 胶图案的基板。
技术介绍
近年来，诸如用于移动电话或电脑的显示器、用于电视机的屏幕等等为平板显示 器(FPD)的液晶显示器(IXD)，因其与阴极射线管(CRT)相比清晰度高，并且相比于与液晶 显示器(IXD)具有相同屏幕尺寸的阴极射线管(CRT)来说平均功耗低，因此与等离子体显 示面板(PDP)或场致发射显示器(FED) —起，已成为引人瞩目的下一代显示器。液晶显示器(LCD)包括液晶显示面板，液晶显示面板包括具有第一基板、第二基 板的多个基板以及置于多个基板之间的液晶层。在第一基板和第二基板之间形成液晶层的 方法可包括液晶注入法和液晶滴落法。在液晶注入法中，当在真空室中用密封材料将第一基板和第二基板彼此接合使得 其中形成液晶入口时，将接合的第一基板和第二基板置于充满了液晶的容器中并随后使真 空室变为非真空，利用第一基板和第二基板之间的空间与外部空间的压力差，液晶经由液 晶入口注入第一基板和第二基板之间的空间。在液晶滴落法中，在液晶已滴落到第一基板或第二基板上之后，第一基板和第二 基板彼此附接。因此，液晶滴落法不同于液晶注入法，因为其不需要额外在注入液晶之前形 成液晶入口或在注入液晶之后封闭液晶入口的过程，从而可减少形成液晶层的时间，并可 防止浪费昂贵的液晶。出于这个原因，近来已开始使用液晶滴落法。在液晶滴落法中最重要的因素是要在第一基板与第二基板之间形成具有预定量 液晶的液晶层。在液晶滴落法中，由于已滴落了液晶的基板与涂覆有密封胶的基板接合从 而使其上形成封闭的密封胶图案，因此在利用预定量液晶形成液晶层的时候，密封胶图案 的内部面积变为重要的因素。在液晶滴落法中，作为一种用于将密封胶涂布到基板上的设备的密封胶涂布机用 于在基板上形成密封胶。密封胶涂布机包括装载有基板的托台、与喷嘴安装在一起用于排 出密封胶的头单元、以及用于支撑头单元的头支撑件。在改变基板与喷嘴的相对位置的同 时密封胶涂布机在基板上形成具有预定形状的密封胶图案。这里，常规的密封胶涂布机以线涂布方式将密封胶涂布到基板上，在所述线涂布 方式中，密封胶从密封胶排出的开始连续地涂布到基板上，直到密封胶排出的结束。在以线涂布方式将密封胶涂布到基板上的过程中，为了防止密封胶在密封胶首次 形成的位置--即如图1所示首次涂布密封胶的位置--涂布得过宽，在密封胶的排出开始 时，喷嘴620在其向下朝着基板(S)移动并且随后沿着基板(S)水平移动期间开始向基板 (S)排出密封胶，也就是说，在喷嘴620以预定间隔置于基板(S)上方之前，从喷嘴620排出 的密封胶的量增加，直到喷嘴620以预定间隔置于基板(S)上方。同理，为了防止密封胶在密封胶图案结束的位置--即如图2所示最后涂布密封胶的位置一涂布得过宽，在密封胶的排出结束时，在喷嘴620从基板(S)向上移动并且随后 沿着基板(S)水平移动期间，从喷嘴620排出的密封胶的量逐渐减少，直到完成密封胶的排出ο因此，在使用密封胶涂布机的线涂布方式中，当密封胶的排出开始时，需要距离 (Dl)，该距离(Dl)对于在喷嘴620向下朝着基板(S)移动并且随后沿着基板水平移动期间 增加密封胶的量而言是必需的，并且，当密封胶的排出结束时，需要距离(D2)，该距离(D2) 对于在喷嘴620从基板(S)向上移动并且随后沿着基板水平移动期间减少密封胶的量而言 是必需的。如上所述，由于常规的密封胶涂布方法需要距离(Dl和D2)，因此问题在于将密封 胶涂布到基板上的过程是困难且复杂的，具体而言是在于当形成密封胶图案时，在密封胶 排出的起点和密封胶排出的终点相遇的位置所形成的密封胶图案(P)的线宽是难以均勻 化的。而且，当由上面的问题导致在设置距离(Dl和D2)的过程中产生误差时，存在密封胶 图案(P)的线宽不均勻的问题，从而密封胶图案(P)的内部面积变劣。同时，在用密封胶涂布机将密封胶涂布到基板上的过程中，密封胶图案可能会具 有密封胶图案的线断裂或密封胶图案的线宽低于基准值的缺陷。常规地，为了对出现密封 胶图案缺陷的修复区进行修复，实施一种对密封胶图案的修复区再次涂布密封胶的过程。然而，常规地，即使在对修复区再次涂布密封胶的过程中，也使用上述线涂布方 式。在此情况下，由于必须是在已事先由修复区的起点和终点的数据设置了上述距离(Dl 和D2)之后再重新涂布修复区，因此存在过程非常复杂且困难的问题。具体而言，当形成密 封胶图案时，在密封胶图案的弯曲部分以及在密封胶排出的起点和密封胶排出的终点相遇 的连接部分，上述问题变得严重。因此，当在利用修复区的数据设置距离(Dl和D2)的过程 中产生误差的时候，密封胶可能会再次涂布到已正确涂布的密封胶上，因此密封胶图案的 线宽极大地增加，从而导致密封胶图案的内部面积变劣。此外，在线涂布方式中，由于即使是在密封胶图案的线宽低于基准值的缺陷修复 区也要再次涂布预定量的密封胶，因此密封胶会进一步涂布到已涂布至一定程度的线宽的 密封胶上，使得经修复的密封胶图案的线宽增大到或超过基准值，从而导致密封胶图案的 内部面积变劣。如上所述，在液晶滴落方法中，在第一基板和第二基板之间形成具有预定量液晶 的液晶层是非常重要的，而形成液晶层的过程取决于密封胶图案的内部面积。然而，在以线 涂布方式修复密封胶的方法中，密封胶图案的内部面积变劣，因此难于形成具有预定量液 晶的液晶层，从而使产品的质量劣化。
技术实现思路
因此，本专利技术意在解决上述问题，且本专利技术的目的是提供一种修复密封胶图案的 方法，其中，以对应于修复区中有缺陷的密封胶图案的量而以点涂布方式涂布密封胶，使得 修复区中的密封胶的线宽能够保持恒定。本专利技术的另一目的是提供一种具有由该方法修复的密封胶图案的基板。为了实现上述目的，本专利技术的一方面提供一种修复密封胶图案的方法，包括步骤 确定在基板上形成的密封胶图案是否有缺陷；如果确定密封胶图案是有缺陷的，则将密封5胶图案缺陷所在的区域设置为修复区；以及以点涂布方式将密封胶滴滴落到修复区。这里，在滴落密封胶滴的步骤中，根据存留在修复区中的密封胶的量，可在密封胶 图案的线的长度方向上和/或密封胶图案的宽度方向上控制滴落到修复区的密封胶滴的量。而且，滴落到修复区的密封胶滴的量可通过改变滴落的密封胶滴的尺寸来控制， 以及通过改变滴落到修复区的相同尺寸的密封胶滴的数量来控制。而且，在滴落密封胶滴的步骤中，根据存留在修复区中的密封胶的位置，可在密封 胶图案的线的长度方向上和/或密封胶图案的宽度方向上控制密封胶滴滴落到修复区的 位置。同时，在滴落密封胶滴的步骤中，密封胶滴可在密封胶图案的宽度方向上以一行 或多行滴落。在此情况下，沿着形成密封胶图案内线的行滴落的密封胶滴的量可与沿着形 成密封胶图案外线的行滴落的密封胶滴的量不同。而且，沿着形成密封胶图案内线的行滴落的密封胶滴的直径可以是密封胶图案的 线宽的1/2或更小。所述方法还包括步骤以线涂布方式连续地向修复区的一部分排出密封胶以将密 封胶涂布到其上。本专利技术的另一方面提供一种包括修复的密封胶图案的基板，其中所述修复的密封 胶图案是通过以下步骤获得的确定在基板上形成的密封胶图案是否有缺陷；如果确定密 封胶图案是有缺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种修复密封胶图案的方法，包括步骤：（ａ）确定在基板上形成的密封胶图案是否有缺陷；（ｂ）如果确定所述密封胶图案是有缺陷的，则将密封胶图案缺陷所在的区域设置为修复区；以及（ｃ）以点涂布方式将密封胶滴滴落至所述修复区。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐大勋，
申请(专利权)人：塔工程有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]