System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法技术_技高网

一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法技术

技术编号:40320973 阅读:7 留言:0更新日期:2024-02-09 14:16
本发明专利技术公开了一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,涉及表面处理技术领域,具体包括以下步骤:S01:固定;S02:打磨;S03:清洗;S04:干燥;S05:保存。本发明专利技术通过三氧化二铝抛光粉直接对加工后的光学镜片表面进行抛光打磨,去除镜片表面氧化层后放入氮气柜中长期保存,镀膜时直接取出即可,无需再次进行氧化层去除,本发明专利技术能够有效去除红外光学镜片表面因氧化产生的氧化物和杂质,且不会造成镜片损伤,避免了红外光学镜片因存放不当造成表面氧化影响后续镀膜品质的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面处理,具体涉及一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法


技术介绍

1、红外光学镜片材料通常有锗、硫化锌、硫系玻璃等加工而成,对于硫系玻璃和锗镜片通常需要模压、抛光、单点等表面处理使其镜片面型达标后再进行镀膜,但经过上道工艺处理后的镜片在存放一段时间约24小时后其表面会产生数十纳米氧化层,此氧化层在标准对色灯光下整体发白,镜片表面的氧化速度随环境温湿度变化影响较大,对后续的光学镀膜品质产生严重影响。

2、对于锗镜片可以使用手工擦拭的方式去除氧化层,但对于硫系玻璃而言,由于材料较软,抛光液的颗粒直径较大,手工擦拭非常容易造成表面划伤,目前市场上处理镜片氧化的方法主要是减少周转时间,当镜片完成前道工序后在数小时内完成镀膜避免表面氧化,但这种缩短周转时间的方法在工厂实际生产中很难实现。

3、现有技术的不足之处在于:现有技术中去除红外光学镜片表面氧化物的方法通常为再次返回上一工序抛光或单点加工,相对费时费力,而使用人工擦拭时,又容易造成擦拭不均或表面划伤及杂质残留现象。因此,本领域技术人员提供了一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,以解决现有技术中的上述不足之处。

2、为了实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,具体包括以下步骤:

3、s01:固定:首先,将待处理的光学镜片固定在可旋转的工装上,工装带动镜片以同心圆旋转;

4、s02:打磨:然后,使用脱脂棉粘附三氧化二铝抛光粉轻轻接触匀速旋转的镜片表面,对镜片表面进行打磨抛光;

5、s03:清洗:将表面氧化层打磨干净的镜片进行超声清洗,清洗过程使用无水乙醇作为清洗液;

6、s04:干燥:将清洗后的镜片用ipa干燥表面;

7、s05:保存:干燥后的镜片包装好后存放于氮气柜中保存,待后续镀膜。

8、作为上述技术方案的进一步描述:所述s01中的转速为30~100r/min。

9、作为上述技术方案的进一步描述:所述s02中三氧化二铝抛光粉的直径为0.05μm。

10、作为上述技术方案的进一步描述:所述s02打磨抛光过程中需要不断使用无水乙醇冲洗镜片表面氧化层和三氧化二铝抛光粉。

11、作为上述技术方案的进一步描述:所述无水乙醇纯度为99.5%。

12、作为上述技术方案的进一步描述:所述s03中超声清洗的频率为80khz,清洗时间为2~3min,清洗时间过长频率过低均会对镜片产生伤害。

13、作为上述技术方案的进一步描述:所述s04中ipa干燥温度为80℃。

14、作为上述技术方案的进一步描述:所述s05中氮气纯度大于95%,设定湿度为40%。

15、作为上述技术方案的进一步描述:所述s01中工装材质为pom。

16、作为上述技术方案的进一步描述:所述光学镜片材料为锗、硫化锌、硒化锌或硫系玻璃中的任意一种。

17、在上述技术方案中,本专利技术提供的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法具备的有益效果:

18、本专利技术通过三氧化二铝抛光粉直接对加工后的光学镜片表面进行抛光打磨,去除镜片表面氧化层后放入氮气柜中长期保存,镀膜时直接取出即可,无需再次进行氧化层去除,本专利技术能够有效去除红外光学镜片表面因氧化产生的氧化物和杂质,且不会造成镜片损伤,避免了红外光学镜片因存放不当造成表面氧化影响后续镀膜品质的问题。

19、应当理解,前面的一般描述和以下详细描述都仅是示例性和说明性的,而不是用于限制本公开。

20、本申请文件提供本公开中描述的技术的各种实现或示例的概述,并不是所公开技术的全部范围或所有特征的全面公开。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S01中的转速为30~100r/min。

3.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S02中三氧化二铝抛光粉的直径为0.05μm。

4.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S02打磨抛光过程中需要不断使用无水乙醇冲洗镜片表面氧化层和三氧化二铝抛光粉。

5.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述无水乙醇纯度为99.5%。

6.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S03中超声清洗的频率为80Khz,清洗时间为2~3min。

7.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S04中IPA干燥温度为80℃。

8.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S05中氮气纯度大于95%,设定湿度为40%。

9.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述S01中工装材质为POM。

10.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述光学镜片材料为锗、硫化锌、硒化锌或硫系玻璃中的任意一种。

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【技术特征摘要】

1.一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述s01中的转速为30~100r/min。

3.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述s02中三氧化二铝抛光粉的直径为0.05μm。

4.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述s02打磨抛光过程中需要不断使用无水乙醇冲洗镜片表面氧化层和三氧化二铝抛光粉。

5.根据权利要求1所述的一种消除红外光学镜片表面氧化层的方法,其特征在于,所述无水乙醇纯度为99.5%。

6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭乔
申请(专利权)人:安徽昱升光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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