一种常压化学气相沉积用治具及其使用方法技术

本发明专利技术涉及石英治具技术领域，具体地说，涉及一种常压化学气相沉积用治具及其使用方法；一种常压化学气相沉积用治具，其包括至少一个棱边，设于治具上；治具通过棱边与硅片相接触；一种常压化学气相沉积用治具的使用方法，包括上述的治具；具体包括于膜面接触式设备中固定安装治具；于膜面接触式设备中放置硅片；通过机械手将硅片放置于治具上，使治具通过棱边接触硅片；通过托盘真空吸附硅片，并基于化学气相沉积方法，于硅片上淀积SiO<subgt;2</subgt;薄膜；本申请改善了硅片与石英治具接触导致的色差问题；提高了硅片的质量，减少外延自掺杂现象对器件性能的影响；通过对治具的设计，使其与硅片的接触由面接触改为线接触，以提高硅片的外观质量和器件性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及石英治具，具体地说，涉及一种常压化学气相沉积用治具及其使用方法。

技术介绍

1、为了抑制自掺杂现象，常使用常压化学气相沉积(apcvd)方法在硅片的背面淀积一层sio2薄膜。apcvd设备主要有履带式和托盘式。履带式设备通过机械手将硅片放置在履带上，硅片的膜面不接触任何治具。托盘式设备分为膜面非接触式和膜面接触式。膜面非接触式设备通过机械手将硅片放置在托盘上，硅片的膜面不接触任何治具。膜面接触式设备通过机械手将硅片放置在一石英治具上，使硅片与石英治具接触，然后通过真空将硅片吸附到托盘上。

2、然而，现有技术中膜面接触式设备的使用存在一个问题，即硅片与石英治具接触的地方会产生色差，这是非预期的结果，需要改善。色差会影响硅片的外观质量，并可能对器件的性能产生不利影响。因此，有必要对现有技术进行改进，以解决色差问题，提高硅片外延的质量。

技术实现思路

1、针对现有技术中存在的上述问题，本专利技术提供了一种常压化学气相沉积用治具及其使用方法。

2、为了解决上述技术问题，本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种常压化学气相沉积用治具，其特征在于：包括，

2.根据权利要求1所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具上设置有第一斜面，所述第一斜面的侧边形成所述棱边。

3.根据权利要求2所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具上设置有与所述第一斜面相切的第二斜面，所述第一斜面与所述第二斜面的切边形成所述棱边。

4.根据权利要求1-3任一所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具通过粘接或吸附的方式固定于膜面接触式设备上。

5.根据权利要求1-3任一所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具上设置有用于将所述治具...

【技术特征摘要】

1.一种常压化学气相沉积用治具，其特征在于：包括，

2.根据权利要求1所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具上设置有第一斜面，所述第一斜面的侧边形成所述棱边。

3.根据权利要求2所述的常压化学气相沉积用治具，其特征在于：所述治具上设置有与所述第一斜面相切的第二斜面，所述第一斜面与所述第二斜面的切边形成所述棱边。

4.根据权利要求1-3任一所述的常压化学气相沉积用治具，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：马爱，李传玉，
申请(专利权)人：上海中欣晶圆半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：