曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元（１、２）；该一对曝光单元（１、２）分别共用的光源机构（３）。曝光单元（１、２）分别具备：用于将带状基板（４）沿其长度方向间歇性地传送的传送机构（５、６、７、８）；成为配置在带状基板（４）的传送路径上的曝光部（９），并至少具有一个光掩膜（１０）的曝光部（９）。为了将绘制在光掩膜（１０）上的图案向带状基板（４）的曝光面上转印，光源机构（３）形成为能够向一对曝光单元（１、２）中的各曝光部（９）交替地照射光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于对柔性的带状基板在每规定长度区域进行曝光的曝光装置。
技术介绍
已知有一种曝光装置，其间歇性地传送柔性的带状基板，在带状基板的规定长度 区域，穿透光掩膜照射光，由此将绘制在光掩膜上的图案(例如电路)转印到带状基板的规 定长度区域，其中，所述带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面。每次间歇 性地传送带状基板时，带状基板的新的规定长度区域占据与光掩膜对置的位置，连续不断 地进行曝光作业。与对预先切割为规定的长度的片状的基板进行置换并同时进行曝光的情况相比， 利用了带状基板的曝光更高效。专利文献1 日本特开2005-326550号公报专利文献2 日本特开2006-301170号公报然而，与现有的曝光装置相比，希望提供一种以更便宜的成本能得到高生产性的 曝光装置。
技术实现思路
为了解决上述课题，根据本专利技术，提供一种曝光装置，用于对柔性的带状基板在每 规定长度区域进行曝光，该带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面，其中，所述曝光装置包括相互相邻且平行配置的一对曝光单元；该一对曝光单 元分别共用的光源机构，所述一对曝光单元分别具备用于将所述带状基板沿其长度方向间歇性地传送的 传送机构；配置在所述带状基板的传送路径上的曝光部，所述曝光部至少具有一个设为相 对于所述曝光面能够接近或分离的光掩膜，为了将绘制在所述光掩膜上的图案向所述带状基板的所述曝光面转印，所述光源 机构形成为能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部交替地照射光。所述光源机构能够移动到能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部照射光的位置。所述光源机构也可以包括由多个发光元件构成的扫描型光源。所述发光元件也可以为半导体发光元件。所述光源机构具备光源和分别设置在所述一对曝光单元上的一对反射镜，所述光源能够变更照射角度，以将光分别交替投射到所述一对反射镜上。能够将所述曝光部中的所述带状基板的传送路径形成为垂直。所述光掩膜在垂直状态的所述带状基板的两侧各配置一个，上述一对光掩膜在相互对置的位置上具有对位用标记，所述曝光装置还具备至少一个CXD照相机，其用于读取该对位用标记；移动机构，其用于根据该CCD照相机所读取的所述对位用标记的读取数据，使所述一对光掩膜中 至少一个在其面内沿X、Y、θ方向移动而进行对位。为了进行所述带状基板与所述光掩膜的对位，可以将设置在所述光掩膜上的对位 用标记和能够对位的对位用标记形成在所述带状基板上。形成在所述带状基板上的所述对位用标记能够由所述带状基板的侧缘代替。根据本专利技术的曝光装置，通过一个曝光单元进行曝光后，为了进行下一次的曝光 而间歇性地传送带状基板并进行对位，在此期间，能够在另一个曝光单元的曝光中使用光 源机构。因此，对于一对曝光单元而言，能够共用光源机构。其结果是，能够维持高生产性 并减少设备费。附图说明图1是示出本专利技术的曝光装置的一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视图。图2是示出本专利技术的曝光装置的另一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视 图。图3是示出本专利技术的曝光装置的再一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视 图。符号说明1第一曝光单元2第二曝光单元3光源机构3a 光源(灯)3b平面镜3c 反射镜3d光源(扫描型光源)4带状基板5送出用卷轴(传送机构)6卷绕用卷轴(传送机构)7驱动装置(传送机构)7a驱动辊(传送机构)8引导辊(传送机构)9曝光部10光掩膜IlCCD 照相机12移动机构13直动导轨14发光元件具体实施例方式图1示出本专利技术的曝光装置的一实施方式。曝光装置包括第一曝光单元1 ’第二4曝光单元2 ；第一及第二曝光单元1、2所共用的光源机构3。第一及第二曝光单元1、2相互 相邻且平行配置。曝光单元1、2分别具备送出用卷轴5，其将柔性的带状基板4卷绕成圆筒状，该 带状基板4具有在表面形成有感光层的曝光面；卷绕用卷轴6，其用于卷绕从送出用卷轴5 送出的带状基板4 ；驱动装置7，其用于将带状基板4从送出用卷轴5间歇性地传送到卷绕 用卷轴6。送出用卷轴5、卷绕用卷轴6及驱动装置7与引导辊8 一起构成用于将带状基板 4沿其长度方向间歇性地传送的传送机构。驱动装置7具备驱动辊7a。驱动辊7a将卷绕在送出用卷轴5上的带状基板4每 隔规定长度量间歇性地拉出。在图示实施方式中，带状基板4的传送路径在中途成为垂直。 在另一实施方式中，带状基板4的传送路径也可以不具有垂直路径。曝光单元1、2分别具有配置在带状基板4的垂直路径上的曝光部9。曝光部9具 有光掩膜10，该光掩膜10设为能够相对于带状基板4的曝光面接近或分离。在图示实施方 式的情况下，由于曝光面设置在带状基板4的两面，因此分别相对于曝光单元1、2，各设置 两个光掩膜10。在曝光面仅设置在带状基板4的单面的情况下，分别相对于曝光单元1、2， 各设置一个光掩膜10。此外，关于光源机构3的数目，在曝光面设置在带状基板4的两面的图示实施方式 中，曝光单元1、2所共用的光源机构3设为两个。在曝光面仅设置在带状基板4的单面的 情况下，曝光单元1、2所共用的光源机构为一个即可。在带状基板4的传送路径不具有垂直路径的实施方式中，也可以将曝光部9配置 在带状基板4的水平路径上。然而，水平状态的带状基板4由于自重发生挠曲而具有变形 的倾向。而且，也容易附着灰尘。因此，优选在带状基板4的垂直路径上配置曝光部9。在光掩膜10上绘制有需要转印到带状基板4的曝光面上的图案(例如电路图 案)。当从光源机构3向曝光部9照射光时，图案被转印到曝光部9中的带状基板4的规定 长度区域的曝光面上。带状基板4由传送机构传送，当其规定长度区域到达曝光部9时传送停止，进行对 位作业。使光掩膜10接近带状基板4的曝光面。夹着带状基板4相互面对的两个光掩膜 10在相互对置的位置上具有对位用标记。至少一个CXD照相机11读取所述对位用标记。 根据读取数据，移动机构12使一对光掩膜10中的至少一方在其面内沿X、Y、θ方向移动， 而进行一对光掩膜10彼此的对位。在进行带状基板4与光掩膜10的对位时也使用形成在带状基板4上的对位用标 记。形成在带状基板4上的对位用标记能够与光掩膜10的对位用标记对位。形成在带状基板4上的对位用标记也可以用带状基板4的侧缘代替。在图1的实施方式中，第一及第二曝光单元所共用的光源机构3具备作为灯的光 源3a、平面镜3b、反射镜3c。从光源3a发出的光由平面镜3b向反射镜3c传递。具有凹状 面的反射镜3c将传递来的光形成为平行光向曝光部9照射。在图1中，由实线表示的光源机构3处于能够向第一曝光单元1的曝光部9照射 光的位置。光源机构3搭载在以横穿带状基板4的传送方向的方式延伸的一对直动导轨13 上。光源机构3在直动导轨13上滑动，从而能够移动到能够向第二曝光单元2的曝光部9 照射光的位置(双点划线所示)。在第一曝光单元1中，当带状基板4的规定长度区域的曝光结束时，光源机构3在 直动导轨13上滑动，从能够向第一曝光单元1的曝光部9照射光的位置移动到能够向第二 曝光单元2的曝光部9照射光的位置，而对第二曝光单元2的曝光部9进行照射。在此期 间，在第一曝光单元1中，光掩膜10从带状基板4的曝光面分离，进行带状基板4的间歇性 的传送。当带状基板4的下一个规定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其用于对柔性的带状基板在每规定长度区域进行曝光，该带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面，其中，所述曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元；该一对曝光单元分别共用的光源机构，所述一对曝光单元分别具备：用于将所述带状基板沿其长度方向间歇性地传送的传送机构；配置在所述带状基板的传送路径上的曝光部，所述曝光部至少具有一个设为相对于所述曝光面能够接近或分离的光掩膜，为了将绘制在所述光掩膜上的图案向所述带状基板的所述曝光面转印，所述光源机构形成为能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部交替地照射光。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：三宅健，高木俊博，
申请(专利权)人：三荣技研股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]