曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法技术

一种曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法。曝光机台包括多个光源、多个灯罩以及一承置平台。灯罩设置于光源的一侧，且各灯罩包含至少两个面向各光源的椭圆弧反射面。承置平台设置于光源的与灯罩相对的另一侧，所述至少两个椭圆弧反射面面向承置平台。曝光方法包括下述步骤：提供一待曝光基板于承置平台上；以及使用光源照射待曝光基板。所述至少两个椭圆弧反射面朝向待曝光基板反射光线。当光源照射待曝光基板时，待曝光基板的一配向高分子材料层硬化产生一配向角度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，且特别涉及一种具有多 个光源的。
技术介绍
在平面显示器，如液晶显示器或有机电致发光显示器的制造过程中，曝光工序是 不可缺少的重要步骤，其利用光照及蚀刻的方式来图案化材料层，以形成各种组件。例如常 见的五道光罩工序，是重复进行沉积材料层、曝光材料层及蚀刻材料层的操作，以堆栈形成 液晶显示器中的薄膜晶体管。事实上，不仅是在平面显示器的制造工序中，在其它半导体产 品的生产线中曝光工序亦扮演着相当重要的角色。例如在内存、芯片上系统的生产线中，需 利用曝光的方式将光罩上的布线转录至基材上。近年来由于电子产品朝向轻薄化以及多功能化发展，产品内部的组件集成度大幅 增加。因此各内部组件必须更进一步微型化，以符合产品的需求。随着组件的微型化，曝光 工序的质量更成为影响产品合格率的关键因素之一。目前应用于曝光工序的曝光机台中， 是利用灯罩来反射多个光源所发出的光线。灯罩上用来反射光线的反射面一般较常见为抛 物线形状的设计，虽然可以提供良好的照度，却容易使照射到基材或基板的光线出现亮暗 不均的暗纹。基材或基板受到具有暗纹的光线照射，会因曝光不均勻影响到后续的蚀刻的 质量，进而危害到制造的合格率。为了改善暗纹的现象，曝光机台中亦可见到平面式的反射面。然而平面式的反射 面会导致照度降低，同时仍旧无法有效解决光线均勻度不佳、产生暗纹的问题。因此，如何解决基材或基板曝光均勻度不佳导致合格率降低的问题，为目前在曝 光工序中亟需解决的一个问题。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种曝光机台及一种应用该曝光机台的曝光方法，用以 解决光线暗纹导致曝光质量不良的问题。本专利技术的一个方面提出一种曝光机台，包括多个光源、多个灯罩以及一承置平台。 灯罩对应地设置于光源的一侧，且各灯罩包含至少两个面向各光源的椭圆弧反射面。承置 平台设置于光源的与灯罩相对的另一侧。各灯罩的至少两个椭圆弧反射面面向承置平台。依据本专利技术一实施例，各灯罩的至少两个椭圆弧反射面为并列配置，且对应的各 光源位于至少两个椭圆弧反射面的对称轴上。依据本专利技术一实施例，各灯罩的至少两个椭圆弧反射面包含微结构表面。依据本专利技术一实施例，这些光源为紫外光灯管。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一第一滤光片，设置于光源及承置平台之 间，用以滤除一第一波段的光线。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一第二滤光片，设置于光源及承置平台之间，用以滤除一第二波段的光线。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一图案化光罩，设置于光源及承置平台之间。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一偏压装置，用以提供一偏压至一待曝光基板。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一冷却装置，设置于邻近光源处，用以带动 空气流动通过光源以冷却光源。依据本专利技术一实施例，曝光机台还包括一冷却装置，套接于光源，用以供一冷却液 体流动通过光源以冷却光源。本专利技术的另一方面提出一种曝光方法，该曝光方法使用前述的曝光机台。该曝光 方法包括下述步骤；提供一待曝光基板于承置平台上；以及使用光源照射待曝光基板，各 灯罩的至少两个椭圆弧反射面朝向待曝光基板反射光线。待曝光基板包括一配向高分子材 料层，当光源照射待曝光基板时，配向高分子材料层硬化产生一配向角度。依据本专利技术一实施例，曝光方法还包括提供一偏压至待曝光基板的步骤。依据本专利技术一实施例，配向高分子材料层包含一紫外光硬化聚合物。使用光源照 射待曝光基板的步骤中，提供一紫外光线。上述依照本专利技术实施例的，利用至少两个 椭圆弧反射面来反射光线，可以提高光线的均勻度，提升曝光质量。附图说明为使本专利技术的上述和其它目的、特征、优点与实施例能更加明显易懂，现结合所附 的附图说明如下图IA绘示依照本专利技术一实施例的一种曝光机台的前视图。图IB绘示曝光机台的侧视图。图2绘示光源、灯罩及承置平台的示意图。图3绘示两个椭圆弧反射面的相交处为圆角时的示意图。图4绘示两个椭圆弧反射面的相交处为平面时的示意图。图5绘示两个灯罩的相交处为平面时的示意图。图6绘示依照本专利技术另一实施例的冷却装置的立体图。图7绘示依照本专利技术一实施例的一种曝光方法的流程图。其中，附图标记说明如下100:曝光机台422:椭圆弧反射面110:光源423 平面120 灯罩520 灯罩121 椭圆弧反射面 521 椭圆弧反射面122 椭圆弧反射面 522 椭圆弧反射面130 承置平台524 平面141 第一滤光片610 光源142 第二滤光片670 冷却装置150:图案化光罩Dl 长轴距离160 偏压装置D2:凹陷深度170:冷却装置D3:间隙320 灯罩D4 高度321 椭圆弧反射面D5 宽度322 椭圆弧反射面L 光线410 光源P 待曝光基板420 灯罩Sl 步骤421 椭圆弧反射面S2 步骤具体实施例方式请同时参照图IA及图1B，图IA绘示依照本专利技术一实施例的一种曝光机台的前视图，图IB绘示曝光机台的侧视图。曝光机台100包括多个光源110、多个灯罩120以及一承 置平台130。这些灯罩120对应地设置在这些光源110的一侧，且各灯罩120分别包含至少 两个面向各光源110的椭圆弧反射面121及122。上述至少两个椭圆弧反射面121及122 用以反射光源110发出的光线L，以提升光线L反射后的均勻度。承置平台130设置于光源 110的与灯罩120相对的另一侧。各灯罩120的上述至少两个椭圆弧反射面121及122面 向承置平台130，用以将光源110发出的光线L朝承置平台130反射。以下更进一步对光源110及灯罩120进行说明。请参照图2，其绘示光源、灯罩及 承置平台的示意图。各灯罩120的至少两个椭圆弧反射面121及122为并列配置，并且具 有相同的椭圆弧形。对应的光源110位于两个椭圆弧反射面121及122的对称轴上，使得 对应的各光源110发出的光线L可以均勻分散至两个椭圆弧反射面121及122。实际应用中，椭圆弧反射面121为一完整椭圆形被椭圆长轴分割的一半侧，亦即 椭圆弧反射面121相对于椭圆长轴的镜像图形与椭圆弧反射面121构成完整的椭圆形。同 样地，椭圆弧反射面122为一完整椭圆形被椭圆长轴分割的一半侧。椭圆弧反射面122相 对于椭圆长轴的镜像图形与椭圆弧反射面122构成完整的椭圆形。如图2所示，各椭圆弧反射面121或122具有一长轴距离D1，并且在灯罩120上具 有一凹陷深度D2。本实施例中，由于椭圆弧反射面121及122各自为一个完整椭圆形被椭 圆长轴分割的一半侧，因此凹陷深度D2为各椭圆弧反射面121或122对应的椭圆形的短轴 距离的一半。各光源110与两个椭圆弧反射面121及122的相交之处具有一间隙D3，光源 110与承置平台130间具有一高度D4。前述的长轴距离Dl、凹陷深度D2、间隙D3及高度D4的关系为如下所述。光源110 与两个椭圆弧反射面121及122的交点的间隙D3小于长轴距离Dl的五分之一，使光源110 提供足够的光线L至灯罩120，进而让灯罩120反射后的光线L具有足够的照度。此外，各 椭圆弧反射面121或122的凹陷深度D2小于长轴距离Dl的三分之一，且长轴距离Dl小于 高度D4，使得反射后的光线L不会过度集中而出现暗纹，借以提升两个椭圆弧反射面121及 122反射光线L的均勻度。在另本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机台，包括：多个光源；多个灯罩，对应地设置于所述多个光源的一侧，每个所述灯罩分别包含至少两个面向各所述光源的椭圆弧反射面；以及一承置平台，设置于所述光源的与所述灯罩相对的另一侧；其中各所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面面向该承置平台。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许咏政，温孟川，王炯翰，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]