【技术实现步骤摘要】
本技术属于晶圆清洗，特别是涉及一种晶圆清洗结构。
技术介绍
1、晶圆在不断被加工成形及抛光处理的过程中，由于与各种有机物、粒子及金属接触，其表面往往而产生各种污染物，需要进行清除，因此晶圆清洗是晶圆制造过程中的一个重要工艺步骤。
2、目前市面上存在一些可用于晶圆清洗的设备，如中国专利网上公开了一种晶圆清洗台及晶圆清洗装置，其公开号为cn215613584u，这种清洗装置虽然可对晶圆进行清洗，但是存在一些缺陷和不足有待改进：(1)现有的清洗设备大多只是通过清水对晶圆的表面进行冲洗，这种清洗方式难以有效清除粘附在晶圆表面的的固态污渍，从而影响清洗后的晶圆成品质量；(2)现有的清洗设备在对晶圆进行冲洗时，往往需要消耗大量的水资源，冲洗时难以对污水进行统一回收，以便后续再利用，从而不利于节能环保；(3)现有的清洗设备在对晶圆进行清洗时，难以对晶圆进行有效的定位，使得晶圆在清洗过程中容易发生打滑和位移，从而降低了清洗效果。因此，针对以上问题，本技术提供的一种晶圆清洗结构具有重要意义。
技术实现思路
1、本技术提供了一种晶圆清洗结构，解决了以上问题。
2、为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
3、本技术的一种晶圆清洗结构，包括底座，所述底座的顶部固定连接有固定筒，所述固定筒的前侧设置有集水槽，所述集水槽固定连接在底座上，其横截面为圆形，且所述集水槽的侧壁开设有排水管，所述排水管内安装有排水阀，所述集水槽内安装有定位组件，所述固定筒为方形筒结构
4、所述定位组件包括壳体，所述壳体固定安装在集水槽的槽底，其内部安装有电机，所述电机的输出轴顶端贯穿壳体的顶部并固定连接有定位槽，所述定位槽的横截面为圆形，其底部开设有若干个导水孔，且所述定位槽的侧壁开设有若干个螺纹孔，每个所述螺纹孔内均螺纹连接有螺杆；
5、所述冲洗组件包括储水箱和冲洗仓，所述储水箱固定安装在调节架的顶部，其顶部开设有进水管，且所述储水箱的前侧设置有抽水泵，所述抽水泵上分别安装有抽水管和导水管，所述冲洗仓的横截面为圆形，其侧壁开设有若干根冲洗管，且所述冲洗仓的顶部固定连接有若干根固定杆，所述固定杆的顶端固定连接在调节架的顶部内壁，所述抽水管的另一端管口贯穿储水箱的侧壁并与储水箱相连通，所述导水管的另一端管口贯穿调节架和冲洗仓的顶部并与冲洗仓的内腔相连通，所述冲洗仓的底端边缘处固定连接有若干个安装座，每个所述安装座上均开设有安装孔，所述冲洗仓的底部安装有清理件；
6、所述清理件包括清理盘，所述清理盘为圆形，其底部表面设置有一层清理刷，且所述清理盘的顶部固定连接有若干根螺柱，每根所述螺柱上均螺纹连接有与其相配合的螺母。
7、进一步地，所述集水槽的槽底固定连接有导水块，所述导水块固定连接在壳体的外壁，其顶部为倾斜端面。
8、进一步地，所述定位槽的槽底表面固定安装有一层防滑垫，所述防滑垫为圆形，其表面刻有人字形防滑纹。
9、进一步地，所述螺杆的一端固定连接有旋块，其另一端固定连接有缓冲块，所述旋块的侧壁为弧形并向内凹陷。
10、进一步地，所述螺柱的数量与安装座相同，其直径与安装孔的孔径相等，且每个所述螺柱均与对应的安装孔中心位于同一条直线上。
11、本技术相对于现有技术包括有以下有益效果：
12、(1)本技术中的清洗结构在使用时，可通过冲洗组件对晶圆进行冲洗，并且通过清理件可有效清除粘附在晶圆表面的固态污渍，以便提高清洗后的晶圆成品质量；
13、(2)本技术中的清洗结构在使用时，可通过集水槽对清洗过程中产生的污水进行统一回收，以便后续再利用，从而有效避免了水资源的浪费，有利于节能环保；
14、(3)本技术中的清洗结构在使用时，可通过定位组件对晶圆进行夹持定位，以便提高晶圆的稳定性，从而防止其在清洗过程中发生打滑和位移。
15、当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
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1.一种晶圆清洗结构，其特征在于，包括底座，所述底座的顶部固定连接有固定筒，所述固定筒的前侧设置有集水槽，所述集水槽固定连接在底座上，其横截面为圆形，且所述集水槽的侧壁开设有排水管，所述排水管内安装有排水阀，所述集水槽内安装有定位组件，所述固定筒为方形筒结构，其筒内插入有调节架，且所述固定筒的两侧顶端侧壁均螺纹连接有螺栓，所述调节架的侧面呈L形，其两侧均开设有若干个与螺栓相配合的调节槽，且所述调节架上安装有冲洗组件；
2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗结构，其特征在于，所述集水槽的槽底固定连接有导水块，所述导水块固定连接在壳体的外壁，其顶部为倾斜端面。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗结构，其特征在于，所述定位槽的槽底表面固定安装有一层防滑垫，所述防滑垫为圆形，其表面刻有人字形防滑纹。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗结构，其特征在于，所述螺杆的一端固定连接有旋块，其另一端固定连接有缓冲块，所述旋块的侧壁为弧形并向内凹陷。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗结构，其特征在于，所述螺柱的数量与安装座相同，其直径与安装孔的孔
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗结构，其特征在于，包括底座，所述底座的顶部固定连接有固定筒，所述固定筒的前侧设置有集水槽，所述集水槽固定连接在底座上，其横截面为圆形，且所述集水槽的侧壁开设有排水管，所述排水管内安装有排水阀，所述集水槽内安装有定位组件，所述固定筒为方形筒结构，其筒内插入有调节架，且所述固定筒的两侧顶端侧壁均螺纹连接有螺栓，所述调节架的侧面呈l形，其两侧均开设有若干个与螺栓相配合的调节槽，且所述调节架上安装有冲洗组件；
2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗结构，其特征在于，所述集水槽的槽底固定连接有导水块，所述导...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁波，李铁，陈瀚，侯金松，杭海燕，谷卫东，
申请(专利权)人：上海微世半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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