【技术实现步骤摘要】
一种多功能的PVD腔体安装架构
[0001]本技术涉及半导体
,具体地讲,涉及一种多功能的
PVD
腔体安装架构
。
技术介绍
[0002]真空镀膜技术属于物理气相沉积成膜的方法,具有操作简单,溅射速率高,膜层致密等优点,在科研与生产中有广泛的应用
。
[0003]现有的
PVD
溅射设备,主机台和工艺腔体采用固定连接
。
在不同工艺条件下,需要更换腔体,现有设备不方便实现工艺腔体更换
。
[0004]如果能够通过结构
、
外形设计来解决腔体与机台之间的管线,电气和工艺零部件的布置连接;将成为新型模块化
PVD
设备的基础架构
。
将实现不同工艺更换腔体时,可以方便快捷地安装就位
。
技术实现思路
[0005]本技术要解决的技术问题是提供一种多功能的
PVD
腔体安装架构,该架构不仅可以将腔体就位,并同时将所涉及工艺设备部件集成安装在内,达到结构紧凑,各部件安装简便可靠
。
[0006]本技术采用如下技术方案实现专利技术目的:
[0007]一种多功能的
PVD
腔体安装架构,其特征是:包括
PVD
腔体;腔体安装架构,位于所述
PVD
腔体下方,固定连接所述
PVD
腔体;工艺气体管道,位于所述
PVD
腔体下部,固定连通所述
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种多功能的
PVD
腔体安装架构,其特征是:包括
PVD
腔体(1);腔体安装架构(4),位于所述
PVD
腔体(1)下方,固定连接所述
PVD
腔体(1);工艺气体管道(2),位于所述
PVD
腔体(1)下部,固定连通所述
PVD
腔体(1);腔体安装架构面板(8),位于所述腔体安装架构(4)一侧,固定连接所述腔体安装架构(4);电气控制箱(6),位于所述腔体安装架构(4)另一侧,固定连接所述腔体安装架构(4);阀岛(3),位于所述腔体安装架构(4)中部,固定连接所述腔体安装架构(4);管线组件,位于所述腔体安装架构(4)底板上侧
。2.
根据权利要求1所述的多功能的
PVD
腔体安装架构,其特征是:所述管线组件包括进水管(9)
、
回水管(
15
)
、
真空管(
16
)
、
氩气管(
17
)及氦气管(
18
)
。3.
根据权利要求2所述的多功能的
PVD
腔体安装架构,其特征是:所述进水管(9)固定连接所述腔体安装架构面板(8),所述进水管(9)固定连通一组进水气控阀(
10
)及电控三通阀(
11
),所述进水气控阀(
10
)及所述电控三通阀(
11
)分别固定连接所述腔体安装架构(4),所述回水管(
15
)固定连接所述腔体安装架构面板(8),所述回水管(
15
)固定连通一组水流量计(
14
),所述水流量计(
14
)固定连接所述腔体安装架构(4)
。4.
根据权利要求2所述的多功能的
PVD
腔体安装架构,其特征是:所述真空管(
...
【专利技术属性】
技术研发人员:盛勇峰,王开兵,
申请(专利权)人:上海悦匠实业有限公司,
类型:新型
国别省市:
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