扫描曝光装置、扫描曝光方法、物品的制造方法、信息处理装置、信息处理方法、存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法、物品的制造方法、信息处理装置、信息处理方法、存储介质。提供有利于在扫描曝光中精度良好地进行聚焦

【技术实现步骤摘要】
扫描曝光装置、扫描曝光方法、物品的制造方法、信息处理装置、信息处理方法、存储介质


[0001]本专利技术涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法、物品的制造方法、信息处理装置、信息处理方法以及存储介质。

技术介绍

[0002]作为在半导体器件等的制造工序(光刻工序)中使用的装置之一，已知有通过相对于曝光的光扫描基板来进行基板的扫描曝光的扫描曝光装置。在这样的扫描曝光装置中，在基板的扫描曝光中，一边在曝光的光的照射之前进行基板的表面位置的测量(聚焦测量)，一边基于该测量结果进行基板的高度和倾斜度的控制(聚焦
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调平控制)。在专利文献1中公开了如下方法：事先计算用于校正依赖于基板的拍摄区域的图案构造的测量误差因素的偏移值(校正值)，基于利用该校正值校正聚焦测量的结果而得到的结果，进行聚焦
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调平控制。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开平9
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45608号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扫描曝光装置，其特征在于，该扫描曝光装置具备：测量部，测量基板的表面高度分布；以及控制部，在所述基板的扫描曝光中，一边基于事先生成的驱动控制信息控制所述基板的扫描驱动，一边根据由所述测量部测量出的所述基板的表面高度分布来控制所述基板的高度和倾斜度中的至少1个，所述驱动控制信息包括用于调整扫描曝光中的所述基板的高度和倾斜度中的至少1个的调整信息，所述控制部基于在所述基板的扫描曝光中由所述测量部测量出的所述基板的表面高度分布更新所述驱动控制信息。2.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述控制部在对2个以上的基板进行了扫描曝光的情况下，基于在所述2个以上的基板各自的扫描曝光中由所述测量部测量出的表面高度分布，更新所述驱动控制信息。3.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述控制部基于在所述2个以上的基板的扫描曝光中由所述测量部测量出的表面高度分布的代表值，更新所述驱动控制信息，所述代表值是最大值、最小值以及平均值中的任一个。4.根据权利要求2或3所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述2个以上的基板包含于同一批次中。5.根据权利要求1～3中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述基板包括分别进行扫描曝光的多个拍摄区域，所述驱动控制信息按每个拍摄区域生成，按每个拍摄区域更新。6.根据权利要求1～3中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述控制部基于在所述基板的扫描曝光之前执行的特定基板的扫描曝光中由所述测量部测量出的所述特定基板的表面高度分布，生成所述驱动控制信息。7.根据权利要求6所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述特定基板的扫描曝光通过不使用所述驱动控制信息而对所述基板进行扫描驱动来进行。8.根据权利要求6所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述特定基板与所述基板包含在同一批次中。9.根据权利要求1～3中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述控制部基于在所述基板的扫描曝光之前使所述测量部测量所述基板的表面高度分布的结果，生成所述驱动控制信息。10.一种扫描曝光方法，其特征在于，该扫描曝光方法包括：生成工序，生成包含用于调整扫描曝光中的基板的高度和倾斜度中的至少1个的调整信息的驱动控制信息；曝光工序，一边基于在所述生成工序中生成的所述驱动控制信息控制所...

【专利技术属性】
技术研发人员：小杉祐司，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：