曝光装置、物品的制造方法以及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供曝光装置、物品的制造方法及曝光方法。提供能简易降低接合区域的累计曝光量中不均匀的曝光装置。本发明专利技术的曝光装置特征在于具备：照明光学系统，包括能在非扫描方向上移动的遮光部，具有供来自光源的曝光的光通过的开口和各自能调整开口在非扫描方向的预定位置的扫描方向的宽度的多个形状调整部，将曝光的光导光到原版；控制部，以使在对第1曝光区域曝光时沿着曝光的光的光路投影时包含于第1曝光区域的第1接合区域内的形状调整部在非扫描方向上的配置、和在对第2曝光区域曝光时沿着曝光的光的光路投影时包含于第2曝光区域的第2接合区域内的形状调整部在非扫描方向的配置不同的方式控制原版载置台与开口之间非扫描方向的相对位置。描方向的相对位置。描方向的相对位置。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、物品的制造方法以及曝光方法


[0001]本专利技术涉及曝光装置、以及物品的制造方法。

技术介绍

[0002]以往，在曝光装置中为了将形成于原版的图案高精度地转印到基板上，要求使通过曝光的光在该基板上形成的照度分布均匀化。
[0003]专利文献1公开了一种曝光装置，在将来自光源的曝光的光导光到原版上的照明光学系统中，设置该曝光的光通过的开口、和各自能够在非扫描方向上移动并且能够调整该开口的预定的部位的形状的多个调整轴，从而使照度分布均匀化。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2018
‑
66956号公报

技术实现思路

[0007]另一方面，在扫描型的曝光装置中有时要求将形成于原版的图案转印到比能够用一次扫描曝光进行曝光的曝光区域大的区域。
[0008]因此，以往作为将这样的大的图案转印到基板上的方法，进行在非扫描方向上使多个曝光区域部分性地重复的同时进行扫描曝光的所谓接合(繋
ぎ
)曝光。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，以在扫描方向上扫描原版以及基板的同时将描绘于所述原版的图案转印到所述基板的方式对所述基板进行曝光，其特征在于，具备：原版载置台，能够在保持所述原版的同时在所述扫描方向和在所述基板的基板面内与所述扫描方向垂直的非扫描方向上移动；照明光学系统，包括能够在所述非扫描方向上移动的遮光部，所述遮光部具有供来自光源的曝光的光通过的开口、和多个形状调整部，该多个形状调整部的各个形状调整部能够调整该开口在所述非扫描方向上的预定的位置的所述扫描方向上的宽度，所述照明光学系统将所述曝光的光导光到所述原版；以及控制部，控制所述原版载置台以及所述照明光学系统，所述基板面上的第1曝光区域包括在所述非扫描方向上排列的第1非接合区域和第1接合区域，所述基板面上的第2曝光区域包括与在所述非扫描方向上排列的所述第1接合区域重叠的第2接合区域和第2非接合区域，所述控制部以使在对所述第1曝光区域进行曝光时沿着所述曝光的光的光路投影的情况下包含于所述第1接合区域内的所述形状调整部在所述非扫描方向上的第1配置、和在对所述第2曝光区域进行曝光时沿着所述曝光的光的光路投影的情况下包含于所述第2接合区域内的所述形状调整部在所述非扫描方向上的第2配置相互不同的方式，控制所述原版载置台与所述开口之间的所述非扫描方向上的相对位置。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，具备：投影光学系统，该投影光学系统包括通过在所述非扫描方向上移动而对所述曝光的光的至少一部分进行遮光，从而调整所述曝光区域的至少一部分的曝光量的曝光量调整部，所述投影光学系统将通过了所述原版的所述曝光的光导光到所述基板。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述多个形状调整部以隔着包括所述开口的中心且与所述非扫描方向垂直的剖面相互对称的方式排列。4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，具备：基板载置台，能够在保持所述基板的同时在所述扫描方向和所述非扫描方向上移动，该基板载置台具有测量该基板载置台上的曝光量分布的曝光量测量部，所述控制部根据对所述第2曝光区域进行曝光时的所述非扫描方向上的所述开口以及所述曝光量调整部各自的位置、和通过所述曝光量测量部在所述基板载置台上的与所述第1曝光区域以及所述第2曝光区域对应的区域中测量的所述曝光量分布，决定通过包含于所述第2配置的所述形状调整部调整的所述开口在所述非扫描方向上的预定的位置的所述扫描方向上的所述宽度的变化量。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部根据所述基板面上的所述第1曝光区域以及所述第2曝光区域的位置，取得所述接合区域的位置，决定所述第1配置以及所述第2配置，并且以成为决定的该第2配置的方式，决定对所述第2曝光区域进行曝光时的所述开口在所述非扫描方向上的位置，
根据取得的所述接合区域的位置，计算所述接合区域中的累计曝光量，并且根据计算出的该累计曝光量，决定所述曝光量调整部在所述非扫描方向上的位置，根据所述第1曝光区域以及所述第2曝光区域的位置、和决定的所述开口以及曝光量调整部各自在非扫描方向上的位置，控制所述原版载置台、所述基板载置台、所述照明光学系统以及所述投影光学系统的同时，通过所述曝光量测量部测量所述基板载置台上的与所述第1曝光区域以及所述第2曝光区域对应的区域中的所述曝光量分布，根据测量出的该曝光量分布，决定通过包含于所述第2配置的所述形状调整部调整的所述开口在所述非扫描方向上的预定的位置的所述扫描方向上的所述宽度的所述变化量。6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部以使对所述第2曝光区域进行曝光时的所述开口的中心以及所述原版的外形中心各自在所述非扫描方向上的位置相互不同的方式，决定所述开口在所述非扫描方向上的位置。7.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述形状调整部通过以在所述开口在所述扫描方向上的缘部的预定的位置沿着所述扫描方向施加力的方式驱动，调整所述开口在所述扫描方向上的所述宽度，所述控制部在决定所述开口在所述扫描方向上的所述宽度的所述变化量时，决定所述形状调整部的所述驱动中的驱动量。8.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部以在所述第1配置中的预定的二个所述形状调整部在所述非扫描方向上的中间位置配置所述第2配置中的预定的一个所述形状调整部的方式，决定所述第2配置。9.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：田實慎也，铃木彻，滨崎恭考，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：