真空处理设备制造技术

本实用新型专利技术属于真空处理设备领域，尤其涉及一种真空处理设备

【技术实现步骤摘要】
真空处理设备


[0001]本技术涉及真空处理设备
，尤其涉及一种真空处理设备
。

技术介绍

[0002]在真空镀膜
、
刻蚀等真空处理过程中，通常需要将待处理工件放置于真空处理腔室中的工件旋转架或旋转盘；并且，待处理工件在工件旋转架或旋转盘中的摆放是否到位直接影响到真空处理的效果
。
尤其是对于半导体晶圆和精密光学元件等工件，其上下料通常采用自动化机械手来完成，并且，这类工件对真空镀膜和刻蚀的精度通常具有较高要求
。
以真空镀膜为例，在对这类工件进行镀膜时，需要将工件组件放置在工件旋转盘上进行镀膜，当完成镀膜后则需要将工件组件取出，再放入新的待处理工件组件进行镀膜
。
在利用机械手将新的工件组件放入工件旋转盘组件进行镀膜时，需要确定工件组件在工件旋转盘组件中是否水平摆放，以确保真空处理的精度
。
[0003]现有技术中，针对前述工件进行真空镀膜等处理的真空处理设备通常无法实现工件组件在旋转组件中摆放是否水平的精密检测；如果工件组件在旋转盘中没有摆放到位，可能会降低镀膜等真空处理的精度，进而可能导致产品报废
。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供了一种真空处理设备，该真空处理设备能够实现工件组件在旋转组件中摆放是否水平的检测，且整体结构简单
、
成膜腔室内的结构紧凑，节约成本
。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]真空处理设备，包括：
[0007]支架，所述支架设于真空处理腔室；
[0008]转轴组件，所述转轴组件可转动连接于所述支架；
[0009]旋转组件，包括支撑件和连接于支撑件两端的第一旋转盘和第二旋转盘，所述第一旋转盘
、
所述第二旋转盘和所述支撑件之间形成容纳空间，工件组件能够容纳于所述容纳空间且承载于所述第二旋转盘，所述第一旋转盘设有镂空区域，所述工件组件正对所述镂空区域的区域为检测区域；所述第一旋转盘连接于所述转轴组件，所述转轴组件能够带动所述旋转组件转动；
[0010]测距组件，所述测距组件设于所述真空处理腔室外，所述测距组件设于所述第一旋转盘背离所述第二旋转盘的一侧，所述真空处理腔室的腔壁开设有通光孔，所述测距组件的测距光线能够穿过所述通光孔和所述镂空区域以检测所述检测区域的距离；
[0011]监控组件，所述转轴组件和所述测距组件均与所述监控组件通讯连接
。
[0012]作为真空处理设备的一个可选方案，所述第一旋转盘包括圆环
、
中心转盘和连接杆，所述圆环和所述中心转盘间隔且同心设置，所述圆环和所述中心转盘连接于连接杆两端，所述圆环
、
所述连接杆和所述中心转盘之间形成所述镂空区域，所述中心转盘连接于所
述转轴组件，所述圆环连接于所述支撑件
。
[0013]作为真空处理设备的一个可选方案，所述第二旋转盘包括环状结构和设置于所述环状结构内壁的凸缘，所述凸缘朝向所述第一旋转盘的表面为承载面，所述工件组件能够置于所述承载面，所述环状结构连接所述支撑件
。
[0014]作为真空处理设备的一个可选方案，所述第二旋转盘上设置有定位块，所述定位块设于所述环状结构的内壁，且所述定位块位于所述凸缘靠近所述第一旋转盘的一侧，用于将所述工件组件定位于所述第二旋转盘
。
[0015]作为真空处理设备的一个可选方案，所述第一旋转盘还包括检测凸台，所述测距组件的测距光线能够穿过所述通光孔以检测所述检测凸台的距离
。
[0016]作为真空处理设备的一个可选方案，所述真空处理设备还包括夹持组件，所述夹持组件设于所述旋转组件的一侧，所述夹持组件包括机械手，能够取放所述工件组件，所述机械手能够沿朝向或背离所述旋转组件的方向伸缩，以将所述工件组件放入或移出所述旋转组件
。
[0017]作为真空处理设备的一个可选方案，所述支撑件设有两个，两个所述支撑件之间形成进出口，所述机械手能够穿过所述进出口，以将所述工件组件放入或移出所述旋转组件；
[0018]所述机械手和所述监控组件通讯连接
。
[0019]作为真空处理设备的一个可选方案，所述第二旋转盘背离所述第一旋转盘的一侧设有升降组件，所述升降组件的输出端能够穿过所述环状结构，所述输出端用于所述承载工件组件，以移动所述工件组件至搬运工位和成膜加工位，所述升降组件使所述工件组件移动至所述搬运工位时，所述输出端和所述机械手对接，所述升降组件使所述工件组件移动至所述成膜加工位时，所述输出端和所述凸缘对接
。
[0020]作为真空处理设备的一个可选方案，所述测距组件包括测距传感器，所述测距传感器与所述监控组件电连接
。
[0021]作为真空处理设备的一个可选方案，所述升降组件为伸缩顶针
。
[0022]有益效果：
[0023]本技术提供的真空处理设备，该真空处理设备中包括支架
、
旋转组件
、
转轴组件
、
测距组件和监控组件，支架设于真空处理腔室内，转轴组件可转动连接于支架；旋转组件包括支撑件和连接于支撑件两端的第一旋转盘和第二旋转盘，第一旋转盘
、
第二旋转盘和支撑件之间形成容纳空间，工件组件能够容纳于容纳空间且承载于第二旋转盘，第一旋转盘设有镂空区域，工件组件正对镂空区域的区域为检测区域；第一旋转盘连接于转轴组件，转轴组件能够带动旋转组件转动，进而带动工件组件旋转；测距组件设于真空处理腔室外，测距组件设于第一旋转盘背离第二旋转盘的一侧，测距组件用于检测检测区域沿轴线方向的距离；转轴组件
、
测距组件均与监控组件通讯连接；通过驱动第一旋转盘旋转一周，利用测距组件检测出第一旋转盘旋转到至少三种不同角度下检测区域沿轴线方向的距离，并进行对比，即可判断工件在第二旋转盘中是否水平放置，以防止工件没有摆放到位，导致成膜处理出现偏差，产品报废
。
测距组件设置在真空处理腔室外，光线穿过通光孔和镂空区域，从而使结构简单
、
紧凑
。
附图说明
[0024]图1是本技术提供的真空处理设备的俯视图；
[0025]图2是本技术提供的真空处理设备的剖视图；
[0026]图3是本技术提供的旋转组件和测距组件部分的结构示意图；
[0027]图4是本技术提供的第二旋转盘的俯视图；
[0028]图5是本技术提供的真空处理设备的控制方法的流程图
。
[0029]图中：
[0030]1、
转轴组件；
2、
旋转组件；
3、
测距组件；
4、
夹持组件；
[0031]21、
支撑件；
22、
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
真空处理设备，其特征在于，包括：支架，所述支架设于真空处理腔室；转轴组件
(1)
，所述转轴组件
(1)
可转动连接于所述支架；旋转组件
(2)
，包括支撑件
(21)
和连接于支撑件
(21)
两端的第一旋转盘
(22)
和第二旋转盘
(23)
，所述第一旋转盘
(22)、
所述第二旋转盘
(23)
和所述支撑件
(21)
之间形成容纳空间，工件组件能够容纳于所述容纳空间且承载于所述第二旋转盘
(23)
，所述第一旋转盘
(22)
设有镂空区域，所述工件组件正对所述镂空区域的区域为检测区域；所述第一旋转盘
(22)
连接于所述转轴组件
(1)
，所述转轴组件
(1)
能够带动所述旋转组件
(2)
转动；测距组件
(3)
，所述测距组件
(3)
设于所述真空处理腔室外，所述测距组件
(3)
设于所述第一旋转盘
(22)
背离所述第二旋转盘
(23)
的一侧，所述真空处理腔室的腔壁开设有通光孔，所述测距组件
(3)
的测距光线能够穿过所述通光孔和所述镂空区域以检测所述检测区域的距离；监控组件，所述转轴组件
(1)
和所述测距组件
(3)
均与所述监控组件通讯连接
。2.
根据权利要求1所述的真空处理设备，其特征在于，所述第一旋转盘
(22)
包括圆环
(221)、
中心转盘
(222)
和连接杆
(223)
，所述圆环
(221)
和所述中心转盘
(222)
间隔且同心设置，所述圆环
(221)
和所述中心转盘
(222)
连接于连接杆
(223)
两端，所述圆环
(221)、
所述连接杆
(223)
和所述中心转盘
(222)
之间形成所述镂空区域，所述中心转盘
(222)
连接于所述转轴组件
(1)
，所述圆环
(221)
连接于所述支撑件
(21)。3.
根据权利要求2所述的真空处理设备，其特征在于，所述第二旋转盘
(23)
包括环状结构和设置于所述环状结构内壁的凸缘，所述凸缘朝向所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张波，余龙，耿生煌，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：