【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及下式所示的具有治疗价值的新的噻吩并噻嗪衍生物及其可药用的盐 其中A为低级烷基，全氟化低级烷基，低级烷氧基，卤素，硝基，氰基，非限制性地部分氢化的5-12元单环或多环芳基或具有1-4个杂原子如O、S和N的杂芳基，它可被低级烷基、全氟低级烷基、芳基、杂芳基、取代芳基、取代杂芳基、卤素、低级烷氧基、芳氧基、取代芳氧基、杂芳氧基、取代杂芳氧基和硝基非限制性地取代，其中，取代芳基、取代杂芳基、取代芳氧基和取代杂芳氧基中的取代基为卤素、低级烷基、全氟低级烷基、低级烷氧基等;D为2-吡啶基或下式残基 其中X和Y各自独立地为CH、NR6、、O或S，R6为氢或低级烷基;N为一单键、具有1-12个碳原子的直链或支链碳链，该链可含有一个或多个双键和/或三键和/或一个或多个O、S或N等杂原子，或为5-12元单环或多环的非限制性部分氢化的芳基或具有1-4个O、S或N等杂原子的杂芳基，它可被卤素、低级烷基或低级烷氧基取代;Q为一单键或一杂原子，如O、S和N;R为氢原子，5-12元单或多环芳基或具有1-4个如O、S或N等杂原子的杂芳基，它可非限制性地部分氢化，或者也可被卤素...
【技术保护点】
通式（Ⅰ）所示的新的噻吩并噻嗪衍生物及其可作药用的盐：＊＊＊ （Ⅰ），其中：Ａ为低级烷基，全氟化低级烷基，低级烷氧基，卤素，硝基，氰基或非限制性地部分氢化的５－１２元单环或多环芳基或具有１－４个杂原子如Ｏ、Ｓ和Ｎ的杂芳基，它可被低级 烷基、全氟低级烷基、芳基、杂芳基、取代芳基、取代杂芳基、卤素、低级烷氧基、芳氧基、取代芳氧基、杂芳氧基、取代杂芳氧基和硝基非限制性地取代，其中，取代芳基、取代杂芳基、取代芳氧基及取代杂芳氧基中的取代基为卤素、低级烷基、全氟低级烷基、低级烷氧基等；Ｄ为２－吡啶基下式残基：＊＊＊，其中Ｘ和Ｙ各自独立地为ＣＨ、ＮＲ↑［６］、Ｏ或Ｓ，Ｒ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：D宾德，J温博格，
申请(专利权)人：化学药物研究协会，
类型：发明
国别省市：AT[奥地利]
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