聚电解质多层膜上构建物理图案的方法技术

本发明专利技术公开的聚电解质多层膜上构建物理图案的方法，步骤包括：将溶剂滴加到聚电解质多层膜表面，把硅橡胶印章盖到湿润的多层膜上，放入２０－７０℃烘箱中挥发去除溶剂，待溶剂挥发后揭掉印章，得到图案化聚电解质多层膜。采用本发明专利技术方法通过改变聚电解质多层膜厚度、成型温度和溶剂，可以得到所需要不同高度和不同结构的图案。制备工艺简单，无需外力，成型时间短，可控性强，适用体系广泛。所得图案化表面有望用于光学、组织工程、传感器等领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。具体说是利用硅橡胶与 多层膜之间的毛细力使溶胀的多层膜在高温下流动，溶剂挥发完毕后，多层膜停止运动，得 到图案化表面。
技术介绍
制备聚电解质多层膜的方法是基于聚合物阴阳离子静电作用在基底上的层层自 组装。此方法的优势在于，由于可利用多种化学基团，因而可用来制备功能可控的聚合物薄 膜；这种方法构建的多层膜可以在纳米尺度上精确调控膜的厚度可以从几个埃到几百纳 米甚至几个微米；对基底的形状没有限制，无论是平面、弯曲表面还是小球的表面都可以进 行组装；此外，电解质溶液的盐浓度、溶剂类型、PH值、温度等因素可以精确控制多层膜的 增长厚度、粗糙度、密度、水含量、模量等。这些性质使聚电解质多层膜无论在生产还是基础 研究中都引起人们很大的关注，使之应用到催化装置、电子和光学设备、传感器及生物医用 产品中。在基材上构建微米或纳米图案在集成电路、信息存储、微流道、传感器和生物 芯片等方面具有重要作用。目前，对聚电解质多层膜的图案化处理一般集中在化学图 案的构建或通过共价键等力的作用来进行表面修饰，例如化学图案表面选择性沉积、 喷墨压印(ink jet imprinting)、光图本文档来自技高网...

【技术保护点】
聚电解质多层膜上构建物理图案的方法，包括以下步骤：１）将１ｍｇ／ｍＬ的聚乙烯基亚胺溶解在水中，得到聚乙烯基亚胺水溶液，１ｍｇ／ｍＬ的聚苯乙烯磺酸钠和１ｍｇ／ｍＬ的聚二烯丙基甲基铵盐酸盐分别溶解在１ｍｏｌ／Ｌ的ＮａＣｌ溶液中，得到聚苯乙烯磺酸钠和聚二烯丙基甲基铵盐酸盐的氯化钠溶液；２）将基底浸泡在体积比为７∶３的浓硫酸和双氧水的混合液中进行清洁，冲洗，烘干；３）将清洁后的基底浸泡于聚乙烯基亚胺水溶液中３０分钟，三蒸水清洗后，交替浸泡到带有负电的聚苯乙烯磺酸钠的氯化钠溶液和带有正电的聚二烯丙基甲基铵盐酸盐的氯化钠溶液，在组装预定层数后得到聚苯乙烯磺酸钠／聚二烯丙基甲基铵盐酸盐多层膜，用水清洗，去除...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高长有，韩璐璐，周晶，龚晓，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]