制绒清洗方法和太阳能电池技术

技术编号:39404643 阅读:16 留言:0更新日期:2023-11-19 15:57
本发明专利技术公开一种制绒清洗方法和太阳能电池,包括以下步骤:利用第一制绒液对硅片进行第一次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第一制绒液,以在所述硅片表面形成一次绒面结构;利用第二制绒液对所述硅片进行第二次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第二制绒液,以在所述硅片表面形成二次绒面结构;其中,所述一次绒面结构的形成速度大于所述二次绒面结构的形成速度,所述一次绒面结构包括多个第一金字塔,所述二次绒面结构包括多个第二金字塔,且多个所述第二金字塔分散分布于多个所述第一金字塔的间隙处

【技术实现步骤摘要】
制绒清洗方法和太阳能电池


[0001]本专利技术涉及异质结太阳能电池
,特别涉及一种制绒清洗方法和太阳能电池


技术介绍

[0002]异质结太阳能电池,是一种采用异质结结构的硅太阳能电池,而异质结太阳能电池的制备工艺中一般需要将硅片进行制绒清洗处理,以在硅片表面形成包括多个金字塔的绒面结构,即形成微观上“凹凸不平”的硅片表面,以提高硅片表面的反射率,从而提高异质结太阳能电池的光转换效率

但目前的制绒清洗工艺中,制绒时制绒添加剂在硅片表面附着不能做到完全均匀,导致形成的金字塔的覆盖性低


技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是提出一种制绒清洗方法和太阳能电池,能够提高硅片表面金字塔的覆盖性

[0004]为实现上述目的,本专利技术提出的一种制绒清洗方法,包括以下步骤:
[0005]利用第一制绒液对硅片进行第一次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第一制绒液,以在所述硅片表面形成一次绒面结构,所述第一制绒液包括第一碱液和第一制绒添加剂;
[0006]利用第二制绒液对所述硅片进行第二次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第二制绒液,以在所述硅片表面形成二次绒面结构,所述第二制绒液包括第二碱液和第二制绒添加剂,且所述第二制绒添加剂和所述第一制绒添加剂不相同;
[0007]其中,所述一次绒面结构的形成速度大于所述二次绒面结构的形成速度,所述一次绒面结构包括多个第一金字塔,所述二次绒面结构包括多个第二金字塔,且多个所述第二金字塔分散分布于多个所述第一金字塔的间隙处

[0008]可选地,所述第二制绒添加剂在所述硅片表面的附着性大于所述第一制绒添加剂在所述硅片表面的附着性

[0009]可选地,所述第一碱液的碱浓度大于所述第二碱液的碱浓度,且所述第一碱液的碱浓度为3~
10wt
%,所述第二碱液的碱浓度为
0.5

5wt


[0010]可选地,所述第一碱液和所述第二碱液均包括氢氧化钾

[0011]可选地,所述第一次制绒处理的温度为
75

85℃
,所述第二次制绒处理的温度为
50

80℃
,且所述第一次制绒处理的温度高于所述第二次制绒处理的温度

[0012]可选地,所述第一次制绒处理的时间为
100

500s
,所述第二次制绒处理的时间为
200

600s
,且所述第一次制绒处理的时间小于所述第二次制绒处理的时间

[0013]可选地,所述利用第一制绒液对硅片进行第一次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第一制绒液的步骤之前,还包括:
[0014]对所述硅片进行扩散吸杂处理,以在所述硅片表面形成杂质集中层;
[0015]去除所述杂质集中层,并对所述硅片进行表面氧化处理

[0016]本专利技术还提出的一种太阳能电池,所述太阳能电池包括硅片,所述硅片是由上述的制绒清洗方法获得的;
[0017]其中,所述硅片表面具有一次绒面结构和二次绒面结构,所述一次绒面结构包括多个第一金字塔,所述二次绒面结构包括多个第二金字塔,且多个所述第二金字塔分散分布于多个所述第一金字塔的间隙处

[0018]可选地,所述第一金字塔的尺寸大于所述第二金字塔的尺寸

[0019]可选地,所述第一金字塔和所述第二金字塔的尺寸均为微米级

[0020]本专利技术的技术方案中,采用较快形成速度的第一制绒处理和较慢形成速度的第二次制绒处理相结合,较快形成速度时,腐蚀形成的第一金字塔大且彼此存在间隙,较慢形成速度时,腐蚀形成的第二金字塔小但均匀密集从而填补第一金字塔间的间隙,如此,第一制绒处理和第二次制绒处理结合后提高了硅片上金字塔的覆盖度

附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅为本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图

[0022]图1为本专利技术提出的制绒清洗方法的一实施例的流程示意图;
[0023]图2为本专利技术中第一次制绒处理后的硅片表面微结构图;
[0024]图3为本专利技术中第二次制绒处理后的硅片表面微结构图

[0025]本专利技术目的的实现

功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明

具体实施方式
[0026]为使本专利技术实施例的目的

技术方案和优点更加清楚,下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚

完整地描述

显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例

[0027]需要说明的是,实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行

所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品

另外,全文中出现的“和
/
或”的含义,包括三个并列的方案,以“A

/

B”为例,包括
A
方案


B
方案


A

B
同时满足的方案

此外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本专利技术要求的保护范围之内

基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围

[0028]本专利技术提出一种制绒清洗方法的一实施例,请参照图1,包括以下步骤:
[0029]步骤
S10、
利用第一制绒液对硅片进行第一次制绒处理,并清洗去除硅片表面的第一制绒液,以在硅片表面形成一次绒面结构,第一制绒液包括第一碱液和第一制绒添加剂

[0030]第一碱液为常见的碱如氢氧化钠

氢氧化钾等的水溶液,与硅片接触时对硅片进
行刻蚀,当硅片具有良好的结晶性时,第一碱液中的氢氧根离子沿不同晶向刻蚀的速率是不相同的,即刻蚀速率具有各向异性,但沿不同晶向的刻蚀速率之间的差异是较小的

第一制绒添加剂为组分复杂的混合有机物,通常可根据实际应用需求从不同的供应商
(
例如本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种制绒清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:利用第一制绒液对硅片进行第一次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第一制绒液,以在所述硅片表面形成一次绒面结构,所述第一制绒液包括第一碱液和第一制绒添加剂;利用第二制绒液对所述硅片进行第二次制绒处理,并清洗去除所述硅片表面的所述第二制绒液,以在所述硅片表面形成二次绒面结构,所述第二制绒液包括第二碱液和第二制绒添加剂,且所述第二制绒添加剂和所述第一制绒添加剂不相同;其中,所述一次绒面结构的形成速度大于所述二次绒面结构的形成速度,所述一次绒面结构包括多个第一金字塔,所述二次绒面结构包括多个第二金字塔,且多个所述第二金字塔分散分布于多个所述第一金字塔的间隙处
。2.
根据权利要求1所述的制绒清洗方法,其特征在于,所述第二制绒添加剂在所述硅片表面的附着性大于所述第一制绒添加剂在所述硅片表面的附着性
。3.
根据权利要求1所述的制绒清洗方法,其特征在于,所述第一碱液的碱浓度大于所述第二碱液的碱浓度,且所述第一碱液的碱浓度为3~
10wt
%,所述第二碱液的碱浓度为
0.5

5wt

。4.
根据权利要求3所述的制绒清洗方法,其特征在于,所述第一碱液和所述第二碱液均包括氢氧化钾
。5.
根据权利要求1所述的制绒清洗方法,其特征在于,所述第一次制绒处理的温度为
75

85℃
,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚庆陈贤刚
申请(专利权)人:江苏启威星装备科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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