一种扩散装置制造方法及图纸

技术编号:39389753 阅读:8 留言:0更新日期:2023-11-18 11:12
本实用新型专利技术涉及电池片扩散领域,特别涉及一种扩散装置,包括扩散炉体和进气装置,所述扩散炉体内设有炉腔,所述进气装置包括进气机构和供气机构;所述进气机构包括若干组进气组,所述进气组包括至少两条进气管,所述进气管和供气机构连接,所述进气管伸入炉腔内,以使进气管的进气口置于炉腔内;同一组所述进气管的进气口沿扩散炉体的周向分布设置,不同组所述进气管的进气口沿扩散炉体的轴向分布设置。采用本实用新型专利技术,让气体均匀分布,使硅片片间方阻均匀性好。间方阻均匀性好。间方阻均匀性好。

【技术实现步骤摘要】
一种扩散装置


[0001]本技术涉及电池片扩散领域,特别涉及一种扩散装置。

技术介绍

[0002]扩散是太阳能电池片制造最核心的部分,是太阳能电池片的心脏,是利用POCl3磷扩散制P

N结的过程。扩散工艺的好坏直接影响电池片的转换效率。目前晶硅太阳能电池生产过程中扩散炉1

主要为炉口单管2

进气,炉尾出气,如图1所示。随着行业内硅片尺寸的不断增大,扩散炉管径也随之增加,而现有的单管进气方式逐渐暴露了以下缺陷:
[0003]1、由于硅片尺寸及管径的增加,单口气源所导致的气体浓度分布不均匀更加明显,进而影响扩散后硅片的方阻均匀性。
[0004]2、进气管出气位置为炉口,容易导致炉口位置磷源浓度高,而炉尾磷源浓度低。最后,造成越靠近炉口位置的硅片扩散磷源浓度偏高,方阻偏低;越靠近炉尾位置的硅片扩散磷源浓度偏低,方阻偏高,使得整管硅片的方阻片间均匀性较差。
[0005]3、扩散后需进行气体吹扫,单口气源所需时间较长,影响生产效率。

技术实现思路

[0006]本技术所要解决的技术问题在于,提供一种扩散装置,让气体均匀分布,使硅片片间方阻均匀性好。
[0007]为了解决上述技术问题,本技术提供了一种扩散装置,包括扩散炉体和进气装置,所述扩散炉体内设有炉腔,所述进气装置包括进气机构和供气机构;
[0008]所述进气机构包括若干组进气组,所述进气组包括至少两条进气管,所述进气管和供气机构连接,所述进气管伸入炉腔内,以使进气管的进气口置于炉腔内;同一组所述进气管的进气口沿扩散炉体的周向分布设置,不同组所述进气管的进气口沿扩散炉体的轴向分布设置。
[0009]作为上述方案的改进,同一所述进气组的进气管呈轴对称设置;
[0010]相邻组所述进气管的进气口在扩散炉体的轴向上的间距相等。
[0011]作为上述方案的改进,所述扩散炉体的一端为炉口,另一端为炉底;所述进气管通过炉底伸入炉腔内,并向炉口方向延伸;所述扩散炉体设有设于炉底的排气口。
[0012]作为上述方案的改进,所述排气口和扩散炉体同轴设置。
[0013]作为上述方案的改进,所述进气管和扩散炉体密封连接。
[0014]作为上述方案的改进,所述进气管为伸缩管。
[0015]作为上述方案的改进,所述进气管包括外管和内管,所述外管穿设于扩散炉体的炉底并与扩散炉体密封连接,所述内管穿设于外管内并与外管活动连接。
[0016]作为上述方案的改进,所述进气管通过托环与扩散炉体活动连接。
[0017]作为上述方案的改进,还包括排气装置,所述排气装置包括用于排出炉腔内气体的排气机构。
[0018]作为上述方案的改进,所述进气管上设有用于控制气体流量的流量控制器。
[0019]实施本技术,具有如下有益效果:
[0020]本技术扩散装置通过在扩散炉体上设置多组进气组,让进气管的进气口置于炉腔内并沿扩散炉体的轴向分布设置,在扩散炉体的轴向上形成多管多段式进气,使得气体在扩散炉体的轴向上均匀分布在炉腔内。同时,每组进气组都至少包括两条进气管,其进气管的进气口在炉腔内沿扩散炉体的周向分布设置,使得气体在扩散炉体的周向上均匀分布在炉腔内。因此,无论是扩散炉体的轴向上还是周向上,都能让气体通过本技术的多管多段式进气设计来达到在炉腔内均匀分布的目的,使整个扩散炉体内扩散后硅片片间方阻均匀性好。此外,扩散后采用该多管多段式进气进行气体吹扫,也可以提高气体吹扫的效率,节约吹扫时间,提高生产效率。
附图说明
[0021]图1是现有扩散装置的使用状态透视图;
[0022]图2是本技术扩散装置的使用状态透视图;
[0023]图3是图2的俯视图;
[0024]图4是图2沿A

A线的剖视图;
[0025]图5是本技术进气管和扩散炉体的连接结构示意图。
具体实施方式
[0026]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本技术作进一步地详细描述。仅此声明,本技术在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词,仅以本技术的附图为基准,其并不是对本技术的具体限定。
[0027]参见图2

5,本技术公开了一种扩散装置,包括扩散炉体1和进气装置,所述扩散炉体1内设有炉腔10,所述进气装置包括进气机构和供气机构3。
[0028]所述进气机构包括若干组进气组,所述进气组包括至少两条进气管2,所述进气管2和供气机构3连接,所述进气管2伸入炉腔10内,以使进气管2的进气口21置于炉腔10内;同一组所述进气管2的进气口21沿扩散炉体1的周向分布设置,不同组所述进气管2的进气口21沿扩散炉体1的轴向分布设置。
[0029]本技术扩散装置通过在扩散炉体上设置多组进气组,让进气管2的进气口21置于炉腔10内并沿扩散炉体1的轴向分布设置,在扩散炉体1的轴向上形成多管多段式进气,使得气体在扩散炉体1的轴向上均匀分布在炉腔10内。同时,每组进气组都至少包括两条进气管2,其进气管2的进气口21在炉腔10内沿扩散炉体1的周向分布设置,使得气体在扩散炉体1的周向上均匀分布在炉腔10内。因此,无论是扩散炉体的轴向上还是周向上,都能让气体通过本技术的多管多段式进气设计来达到在炉腔内均匀分布的目的,使整个扩散炉体内扩散后硅片100片间方阻均匀性好。此外,扩散后采用该多管多段式进气进行气体吹扫,也可以提高气体吹扫的效率,节约吹扫时间,提高生产效率。
[0030]优选地,同一所述进气组的进气管2呈轴对称设置。具体的,同一所述进气组的进气管2以扩散炉体1的轴线为对称轴呈轴对称设置,进一步保证扩散炉体在周向上炉腔内的气体均匀分布。优选地,不同组相邻所述进气管2的进气口21在扩散炉体1的轴向上等间距
分布设置,进一步保证扩散炉体在轴向上炉腔内的气体均匀分布。扩散炉体在周向和轴向上的气体实现均匀公布,使得炉腔内气体均匀性好,整个扩散炉体内扩散后硅片片间方阻均匀性好。
[0031]具体的,所述扩散炉体1的一端为炉口,另一端为炉底;所述进气管2通过炉底伸入炉腔10内,并向炉口方向延伸;所述扩散炉体1设有设于炉底的排气口11,如图2

3所示。
[0032]需要说明的是,所述进气组至少设有两组,附图中所示的是两组进气组的设置,一组进气组的进气口21伸至炉口处,而另一组进气组的进气口21则伸至炉腔10的中部,保证炉腔内气体的均匀性。
[0033]所述进气组还可以设有三至五组,甚至更多。为了使炉腔内气体均匀分布,优选地,不同组进气管的进气口和排气口在扩散炉体的轴向上依次等间距分布设置。其中,必有一组进气组的进气口伸至炉口处,多组进气管的进气口在炉腔内均匀布局,使得炉腔内气体均匀分布。
[0034]优选地,所述排气口11和扩散炉本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扩散装置,其特征在于,包括扩散炉体和进气装置,所述扩散炉体内设有炉腔,所述进气装置包括进气机构和供气机构;所述进气机构包括若干组进气组,所述进气组包括至少两条进气管,所述进气管和供气机构连接,所述进气管伸入炉腔内,以使进气管的进气口置于炉腔内;同一组所述进气管的进气口沿扩散炉体的周向分布设置,不同组所述进气管的进气口沿扩散炉体的轴向分布设置。2.如权利要求1所述的扩散装置,其特征在于,同一所述进气组的进气管呈轴对称设置;相邻组所述进气管的进气口在扩散炉体的轴向上的间距相等。3.如权利要求1所述的扩散装置,其特征在于,所述扩散炉体的一端为炉口,另一端为炉底;所述进气管通过炉底伸入炉腔内,并向炉口方向延伸;所述扩散炉体设有设于炉底的排气口。4.如权利要求3所述的扩散...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘思杨杨永平逯承承时宝陈刚
申请(专利权)人:天津爱旭太阳能科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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