一种光刻机掩膜台制造技术

技术编号:39187453 阅读:8 留言:0更新日期:2023-10-27 08:34
本发明专利技术公开了一种光刻机掩膜台,涉及光刻机定位工装技术领域,包括可移动的第一对位座和第二对位座,所述第一对位座、第二对位座的相对侧形成可容纳掩模版置入的空间,所述第一对位座、第二对位座的两侧分别通过联动载板相连接。还包括有设置于第一对位座、第二对位座内侧的第一安装板、第二安装板,所述第一安装板远离第二安装板的一端固定连接有随动板。本发明专利技术便于取下掩模版,实施掩模版的下料、清洁操作,同时便于更换后的掩膜版重新置入。并且,可减少激光切割工作过程中的热量对顶升单元内部的结构所产生的影响,顶升单元的占用面积和重量,减少惯性作用力,保障了第一对位座、第二对位座的移动过程中的精准度。二对位座的移动过程中的精准度。二对位座的移动过程中的精准度。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机掩膜台


[0001]本专利技术涉及光刻机定位工装
,特别涉及一种光刻机掩膜台。

技术介绍

[0002]光刻机,又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
[0003]掩模工件台就是用于放置掩模版的固定平台,此固定平台相对于光刻机本体之间设置有X轴移动装置和Y轴移动装置,X轴与Y轴延伸方向均平行于掩模版,且X轴与Y轴相互垂直.采用掩模版工作台,在进行曝光工艺时,能够通过X轴移动装置或Y轴移动装置,使得需要曝光的实际图形区域的对角线中心与光刻机镜头中心重合,进而避免步进式重复曝光光刻机的光学镜头局部受热不均匀的问题,从而能够改善光刻机的套准精度表现。
[0004]现有的掩模台,大多通过将掩模版嵌入式安装于台面上或者是通过真空吸盘吸附至台面上,实现掩模版与掩模台的同步移动,当曝光工作完成后,需要调整人工取下掩模版,由于嵌入式安装吸附式安装时,掩模版的边缘与台面连接紧密,在操作过程中容易挤压掩模版,造成掩模版取料过程中的磨损,影响掩模版的正常使用,为掩模版的取料过程带来了不便。

技术实现思路

[0005]针对上述问题,本申请提供了一种光刻机掩膜台。
[0006]为实现上述目的,本申请提供如下技术方案:一种光刻机掩膜台,包括可移动的第一对位座和第二对位座,所述第一对位座、第二对位座的相对侧形成可容纳掩模版置入的空间,所述第一对位座、第二对位座的两侧分别通过联动载板相连接。
[0007]还包括有设置于第一对位座、第二对位座内侧的第一安装板、第二安装板,所述第一安装板远离第二安装板的一端固定连接有随动板,所述第一对位座上开设有可容纳随动板升、降移动的凹陷空间,且凹陷空间内设置可控制随动板移动的顶升单元,所述第一安装板、第二安装板可与随动板同步升降,直至掩模版脱离、置入所述第一对位座、第二对位座的相对侧。
[0008]进一步的,所述顶升单元包括有拆卸式连接于随动板豁口处的一对联动臂,所述联动臂的顶部固定连接有同一平整臂。
[0009]所述联动臂的内侧均通过转轴连接有导向杆,所述导向杆的一侧与联动臂的表面固定有压力弹簧,自然状态下,所述导向杆与平整臂形成夹角,当所述导向杆被推动呈直立状态时,所述联动臂、平整臂同步上升。
[0010]进一步的,所述顶升单元包括有贯穿于平整臂的动力转轴,所述第一对位座的底部安装有伺服电机,所述伺服电机输出轴延伸至凹陷空间内与动力转轴相连接。
[0011]所述动力转轴外侧设置有可与其同步转动的联动环,所述联动环的边缘处固定连
接有抵触凸块,所述抵触凸块可随着联动环的转动挤压导向杆,直至所述联动臂、平整臂沿着动力转轴方向移动。
[0012]进一步的,所述导向杆靠近凹陷空间底壁的一端延伸形成球头,所述球头与凹陷空间的底壁相抵。
[0013]进一步的,所述动力转轴的顶部拆卸式连接有限位环,当所述平整臂沿着动力转轴方向移动至极限程度时,与所述限位环的下端面相抵。
[0014]进一步的,所述第一安装板、第二安装板的顶面为掩模版置入时的工艺边接触面。
[0015]进一步的,所述第一安装板、第二安装板的端部通过连杆相固定,所述连杆的一侧设置有可滑移的止挡臂,所述止挡臂卡接于第一对位座和第二对位座的间隙处,且止挡臂远离连杆的一侧安装有气缸,所述气缸安装于联动载板的表面。
[0016]进一步的,所述第一对位座的底端拆卸式连接有滑移块一,所述滑移块一上安装有与其上适配的Y轴滑台,所述Y轴滑台与第一对位座、第二对位座平行分布。
[0017]进一步的,所述Y轴滑台的底部拆卸式连接有动力座,所述动力座的底部拆卸式连接有滑移块二,所述滑移块二上安装有与其相适配的X轴滑台,所述X轴滑台与Y轴滑台垂直分布。
[0018]综上,本专利技术的技术效果和优点:
[0019]1、本专利技术结构合理,设置有可移动的第一安装板和第二安装板,与第一对位座、第二对位座形成可容纳掩模版置入的凹槽,通过设置可调节的顶升单元,可驱使抵触凸块可随着联动环的转动挤压导向杆,直至联动臂、平整臂、第一安装板以及第二安装板同步直线移动。掩模版脱离第一对位座、第二对位座,工作人员可顺利取下掩模版,实施掩模版的下料、清洁操作,减少掩模版在人工撬出过程中所受到的挤压影响。
[0020]2、本专利技术中的顶升单元,在取出掩膜版后,伺服电机再次启动,动力转轴、联动环以及抵触凸块再次转动,抵触凸块远离导向杆。在压力弹簧的弹性势能下,可使导向杆恢复至原有倾斜角度,联动臂、平整臂、第一安装板以及第二安装板恢复至原有位置以便于更换后的掩膜版重新置入第一安装板、第二安装板上。
[0021]3、本专利技术中的顶升单元距离光刻机的激光切割区域有一定距离,减少激光切割工作过程中的热量对顶升单元内部的结构所产生的影响,同时,通过将顶升单元设置于第一对位座的凹陷部位上减少了顶升单元的占用面积和重量,减少移动过程中由于重力所产生的惯性作用力,保障了第一对位座、第二对位座的移动过程中的精准度。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本专利技术立体结构示意图。
[0024]图2为本专利技术第二视角结构示意图。
[0025]图3为本专利技术俯视结构示意图。
[0026]图4为本专利技术动力座下结构示意图。
[0027]图5为本专利技术动力座、第一对位座和第二对位座位置结构示意图。
[0028]图6为本专利技术第一对位座和第二对位座连接结构示意图。
[0029]图7为本专利技术第一对位座和第二对位座连接结构第二视角示意图。
[0030]图8为本专利技术第一对位座和第二对位座连接结构第三视角示意图。
[0031]图中:1、第一对位座;2、第二对位座;3、联动载板;4、第一安装板;5、第二安装板;6、随动板;7、联动臂;8、平整臂;9、连杆;10、导向杆;11、球头;12、压力弹簧;13、动力转轴;14、伺服电机;15、联动环;16、抵触凸块;17、限位环;18、止挡臂;19、气缸;20、滑移块一;21、Y轴滑台;22、动力座;23、滑移块二;24、X轴滑台。
具体实施方式
[0032]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0033]实施例1:参考图1

4所示本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机掩膜台,包括可移动的第一对位座(1)和第二对位座(2),所述第一对位座(1)、第二对位座(2)的相对侧形成可容纳掩模版置入的空间,其特征在于:所述第一对位座(1)、第二对位座(2)的两侧分别通过联动载板(3)相连接;还包括有设置于第一对位座(1)、第二对位座(2)内侧的第一安装板(4)、第二安装板(5),所述第一安装板(4)远离第二安装板(5)的一端固定连接有随动板(6),所述第一对位座(1)上开设有可容纳随动板(6)升、降移动的凹陷空间,且凹陷空间内设置可控制随动板(6)移动的顶升单元,所述第一安装板(4)、第二安装板(5)可与随动板(6)同步升降,直至掩模版脱离、置入所述第一对位座(1)、第二对位座(2)的相对侧。2.根据权利要求1所述的一种光刻机掩膜台,其特征在于:所述顶升单元包括有拆卸式连接于随动板(6)豁口处的一对联动臂(7),所述联动臂(7)的顶部固定连接有同一平整臂(8);所述联动臂(7)的内侧均通过转轴连接有导向杆(10),所述导向杆(10)的一侧与联动臂(7)的表面固定有压力弹簧(12),自然状态下,所述导向杆(10)与平整臂(8)形成夹角,当所述导向杆(10)被推动呈直立状态时,所述联动臂(7)、平整臂(8)同步上升。3.根据权利要求2所述的一种光刻机掩膜台,其特征在于:所述顶升单元包括有贯穿于平整臂(8)的动力转轴(13),所述第一对位座(1)的底部安装有伺服电机(14),所述伺服电机(14)输出轴延伸至凹陷空间内与动力转轴(13)相连接;所述动力转轴(13)外侧设置有可与其同步转动的联动环(15),所述联动环(15)的边缘处固定连接有抵触凸块(16),所述抵触凸块(16)可随着联...

【专利技术属性】
技术研发人员:王运钢章广飞薛业保李文静
申请(专利权)人:安徽国芯智能装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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