真空镀膜设备制造技术

技术编号:39042556 阅读:8 留言:0更新日期:2023-10-10 11:55
本申请公开了一种真空镀膜设备,包括:真空室,侧壁上设置有进出料口;可滑移的闸门,贴靠所述侧壁用于封闭关所述进出料口;滑轨,设置在所述进出料口的上方,具有长度方向和宽度方向;吊挂件,连接所述闸门将其挂载在所述滑轨上,所述吊挂件包括与所述滑轨配合的滑座,在闸门关闭所述进出料口的位置,所述滑座在宽度方向上与滑轨之间具有容许所述闸门脱离真空室侧壁的间隙。本申请先通过滑座与滑轨之间的间隙沿滑轨宽度方向滑动,使得闸门与真空室侧壁产生空隙即真空室进行破空,进一步的闸门不再由于负压被吸附住,两者进行脱离,最终能够省力的将闸门滑移开来。够省力的将闸门滑移开来。够省力的将闸门滑移开来。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜设备


[0001]本申请涉及镀膜领域,特别是涉及真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]在现有的真空镀膜设备中,真空闸门的主要功能是实现真空腔室与外界之间的隔绝和联通。当进行镀膜工艺时,真空闸门关闭真空腔室,避免外部杂质进入真空腔室;当工艺完成,需要进出料或者维修时,则真空腔室先破空,再打开真空闸门。
[0003]但现有的真空闸门基本尺寸重量极大,尤其在真空卷绕镀膜设备中,闸门的高度可达3米以上,重量可达500kg以上,因而在真空腔室破空、打开闸门环节存在较大障碍,例如常规的旋转开合结构受限于承重能力,无法很好的应用在闸门上;再例如现有的滑移门结构,但由于闸门被真空腔室吸住,滑移打开非常困难,因而也无法直接应用在闸门上。

技术实现思路

[0004]为了解决上述的技术问题,本申请提供一种真空镀膜设备,包括:
[0005]真空室,侧壁上设置有进出料口;
[0006]可滑移的闸门,贴靠所述侧壁用于封闭关所述进出料口;
[0007]滑轨,设置在所述进出料口的上方,具有长度方向和宽度方向;
[0008]吊挂件,连接所述闸门将其挂载在所述滑轨上,所述吊挂件包括与所述滑轨配合的滑座,在闸门关闭所述进出料口的位置,所述滑座在宽度方向上与滑轨之间具有容许所述闸门脱离真空室侧壁的间隙。
[0009]以下还提供了若干可选方式,但并不作为对上述总体方案的额外限定,仅仅是进一步的增补或优选,在没有技术或逻辑矛盾的前提下,各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合,还可以是多个可选方式之间进行组合。
[0010]可选的,所述滑轨具有与滑座配合的滑槽,所述滑槽侧壁具有构成所述间隙的凹陷。
[0011]可选的,所述滑座的侧面具有与滑槽侧壁配合的导向轮。
[0012]可选的,所述凹陷与所述导向轮相匹配。
[0013]可选的,所述滑槽侧壁上设有与所述导向轮相匹配且与所述凹陷位置相对的避让槽。
[0014]可选的,所述滑座设有与所述滑槽底面滑动配合的角接触轴承。
[0015]可选的,所述滑轨具有伸出所述真空室的延伸段,所述延伸段底部设置有用于支撑的加强件。
[0016]可选的,所述进出料口下方设有用于与所述闸门底部滑动配合的导向条及用于支撑所述闸门底部的支撑件。
[0017]可选的,所述滑座设有第一磁性开关,所述滑轨上设有与所述第一磁性开关相互感应的第二磁性开关。
[0018]可选的,所述滑轨两端设有限位元件,用于限制所述吊挂件滑移的极限位置。
[0019]与现有的旋转开合结构、移门结构的开合方式不同,本申请先通过滑座与滑轨之间的间隙沿滑轨宽度方向滑动,使得闸门与真空室侧壁产生空隙,进一步的闸门不再被真空室侧壁吸附住,两者能容易的进行脱离,最终能够省力的将闸门滑移开来。
附图说明
[0020]图1为本申请的结构示意图;
[0021]图2为图1中侧壁的结构示意图;
[0022]图3为图1中闸门的结构示意图;
[0023]图4为本申请一些实施例中滑轨与吊挂件配合的结构示意图;
[0024]图4a为图4中A处的局部放大图;
[0025]图4b为图4中B处的局部放大图;
[0026]图5至图8为本申请一些实施例中滑轨与滑座配合的结构示意图。
[0027]图中附图标记说明如下:
[0028]1、真空室;11、进出料口;12、侧壁;13、导向条;14、支撑件;
[0029]2、闸门;
[0030]3、滑轨;31、滑槽;32、凹陷;33、避让槽;
[0031]4、吊挂件;41、滑座;411、导向轮;411a、导向轮;411b、导向轮;411c、导向轮;42、间隙;
[0032]5、角接触轴承;6、加强件;7、第一磁性开关;8、第二磁性开关;9、限位元件。
具体实施方式
[0033]下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0034]需要说明的是,当组件被称为与另一个组件“连接”时,它可以直接与另一个组件连接或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件,它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
[0035]除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0036]参考图1至图4,本申请一实施例提供一种真空镀膜设备,包括真空室1、可滑移的闸门2、滑轨3、吊挂件4,其中真空室的侧壁12上设置有进出料口11,用于待镀工件的进料和出料,尤其当待镀工件为卷材等较大工件时,为了便于进料出料,进出料口11的长度可达1.5米以上、宽度可达3米以上,尺寸非常大。
[0037]闸门2贴靠侧壁12用于封闭关进出料口11,鉴于进出料口尺寸大,相应的闸门也非常笨重,重量可达到500kg以上。若安装常规的旋转开合结构,则当闸门旋转后,闸门与侧壁
之间的连接件无法承载闸门的重量,导致闸门会产生倾斜,最终影响真空室的真空效果,因而本实施例中的闸门采用滑轨和吊挂件滑动相配合以滑移的方式进行连接。
[0038]滑轨3设置在进出料口11的上方,具有长度方向和宽度方向,如图1中滑轨3固定安装在侧壁12的上端,长度方向即为图中Y轴方向,宽度方向即为图中X方向。
[0039]吊挂件4固定安装在闸门2上端,吊挂件的安装靠近闸门的两端,但若闸门长度过长的场合,则闸门的中间可再设置1~2个吊挂件。闸门通过吊挂件4将其挂载在滑轨上,吊挂件4包括与滑轨配合的滑座41,从而当真空室未进行工艺处于打开状态时,闸门可沿滑轨的长度方向(即Y轴方向)滑移。
[0040]参考图4至图8,滑座41在宽度方向上与滑轨3之间具有容许闸门脱离真空室侧壁的间隙42,可理解为,在闸门关闭进出料口的位置,该位置可理解为真空室处于真空环境,此时闸门由于真空室内负压的原因被牢牢的吸附在侧壁上,又或由于闸门上的密封圈已经嵌入侧壁内(即如图7所示),导致闸门无法直接进行滑移,此时滑座41在间隙42内沿宽度方向上滑动,即从图5所示的位置滑动至图6所示的位置,使得闸门脱离真空室侧壁,真空室解除完全密封的状态即破空,随后便可省力的沿着滑轨将闸门滑移开来。
[0041]由此可知,与现有的旋转开合结构、移门结构不同,本申请先通过滑座与滑轨之间的间隙沿滑轨宽度方向滑动,使得闸门与真空室侧壁产生空隙即真空室进行破空,进一步的闸门不再由于负压被吸附住,两者进行脱离,最终能够省力的将闸门滑移开来。<本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.真空镀膜设备,其特征在于,包括:真空室,侧壁上设置有进出料口;可滑移的闸门,贴靠所述侧壁用于封闭关所述进出料口;滑轨,设置在所述进出料口的上方,具有长度方向和宽度方向;吊挂件,连接所述闸门将其挂载在所述滑轨上,所述吊挂件包括与所述滑轨配合的滑座,在闸门关闭所述进出料口的位置,所述滑座在宽度方向上与滑轨之间具有容许所述闸门脱离真空室侧壁的间隙。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述滑轨具有与滑座配合的滑槽,所述滑槽侧壁具有构成所述间隙的凹陷。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述滑座的侧面具有与滑槽侧壁配合的导向轮。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述凹陷与所述导向轮相匹配。5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡明慧娄国明徐建柱沈纬徵郑博鸿
申请(专利权)人:安徽越好电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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