【技术实现步骤摘要】
本申请涉及镀膜设备的，特别是涉及一种低粉尘破空的真空镀膜设备。
技术介绍
1、在现有的真空镀膜设备中，待镀工件在上下料过程中，需要先将真空室破空，解除外界大气对真空室门板的压力，才能打开真空室，因而破空管路在这一工序中非常重要。
2、现有的真空室中，破空管路一般安装在真空室的底部，破空气流从破空管侧面的一排小孔流出，进行破空。但这样的破空方式会导致真空室底部因重力而沉积的粉尘被破空气流扬起，甚至粉尘被附着在产品上，从而影响产品的品质。
技术实现思路
1、为了解决上述的技术问题，本申请提供一种低粉尘破空的真空镀膜设备，包括：
2、真空室，具有相对的顶壁和底壁，以及设置在所述顶壁和底壁之间带有进料口的侧壁；
3、破空管路，设置在真空室的内部靠近所述顶壁和侧壁的位置，且具有朝向所述顶壁的第一出气孔和朝向所述侧壁的第二出气孔。
4、以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。
5、可选的，所述第二出气孔朝向所述进料口且沿所述进料口的延伸方向间隔排布。
6、可选的，所述破空管路位于所述进料口的上方，并沿水平方向延伸。
7、可选的，所述第二出气孔的排布跨度至少占所述进料口长度的80％。
8、可选的，所述破空管路包括内管和外管，所述内管的管壁上设置有连通
9、可选的，所述连通孔与第一出气孔、第二出气孔的朝向和分布位置均交错设置。
10、可选的，所述外管的截面呈方形，所述内管的截面呈圆形。
11、可选的，包括固定在破空管路上对所述第一出气孔、第二出气孔输出气体进行过滤的滤芯。
12、可选的，所述底壁上设置有进气孔，所述进气孔和破空管路之间设置有衔接管。
13、可选的，所述侧壁上设置有固定所述破空管路的支架。
14、在破空过程中，本申请的破空气流从第一出气孔和第二出气孔中流出并流向真空室顶部，远离真空室底部的粉尘聚集处，并且破空气流通过第一出气孔、第二出气孔分别流向顶壁和侧壁，从而将破空气流的冲击面积控制的顶壁和侧壁之间较小区域，并将大部分的气流冲击力进行缓冲，减少了真空室内粉尘的扬起，保证本道工序中产品的洁净度。
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1.低粉尘破空的真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔朝向所述进料口且沿所述进料口的延伸方向间隔排布。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路位于所述进料口的上方，并沿水平方向延伸。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔的排布跨度至少占所述进料口长度的80％。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路包括内管和外管，所述内管的管壁上设置有连通内管、外管管腔的连通孔。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述连通孔与第一出气孔、第二出气孔的朝向和分布位置均交错设置。
7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述外管的截面呈方形，所述内管的截面呈圆形。
8.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，包括固定在破空管路上对所述第一出气孔、第二出气孔输出气体进行过滤的滤芯。
9.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述底壁上
10.根据权利要求9所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述侧壁上设置有固定所述破空管路的支架。
...【技术特征摘要】
1.低粉尘破空的真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔朝向所述进料口且沿所述进料口的延伸方向间隔排布。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路位于所述进料口的上方，并沿水平方向延伸。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔的排布跨度至少占所述进料口长度的80％。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路包括内管和外管，所述内管的管壁上设置有连通内管、外管管腔的连通孔。
6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡明慧，娄国明，徐建柱，沈纬徵，郑博鸿，
申请(专利权)人：安徽越好电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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