【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空镀膜设备的，特别是涉及一种均匀破空的真空镀膜设备。
技术介绍
1、现有的真空镀膜设备需要周期性的对镀膜真空室进行抽真空镀膜、破空取料等操作，故破空是真空镀膜设备一个不可或缺的步骤。现有的真空镀膜设备的破空管路出风口唯一，气流集中冲击力大，会造成基片破损，影响产品质量。
技术实现思路
1、为了解决上述的技术问题，本申请提供一种均匀破空的真空镀膜设备，包括：
2、真空室，具有顶壁和相对的两个侧壁，侧壁上设置有待镀膜工件的进出口；
3、破空管路，包括从所述顶壁竖直向下延伸的主气管以及沿着所述侧壁向下延伸的支气管，所述主气管的两侧设置有第一水平延伸管，所述支气管背对所述侧壁一侧设置有第二水平延伸管，所述第一水平延伸管和第二水平延伸管上均设置有出气孔；
4、固定架，用于固定所述破空管路。
5、以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方...
【技术保护点】
1.一种均匀破空的真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二水平延伸管为处于不同高度的多组。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二水平延伸管为两组，分别位于真空室的1/3和2/3的高度。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一水平延伸管和第二水平延伸管处于同一竖直平面。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一水平延伸管具有连接主气管的近端以及带有出气孔的远端，所述第二水平延伸管具有连接所述支气管的近端以及带有出
...【技术特征摘要】
1.一种均匀破空的真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二水平延伸管为处于不同高度的多组。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二水平延伸管为两组，分别位于真空室的1/3和2/3的高度。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一水平延伸管和第二水平延伸管处于同一竖直平面。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一水平延伸管具有连接主气管的近端以及带有出气孔的远端，所述第二水平延伸管具有连接所述支气管的近端以及带有出气孔的远...
【专利技术属性】
技术研发人员：江嘉，娄国明，徐建柱，沈纬徵，郑博鸿，
申请(专利权)人：安徽越好电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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