便于调整磁轨位置的真空镀膜设备制造技术

本申请涉及一种便于调整磁轨位置的真空镀膜设备，包括：腔体，其顶壁设置有固定座；基板架，竖直设置于所述腔体内，用于负载待镀膜加工的基板；托架，用于支撑和驱动所述基板架；磁轨，具有连接座以及保持基板架处于直立状态的引导槽；衔接件，分别通过第一连接件和第二连接件与所述固定座和连接座连接，所述连接座和固定座位于所述衔接件的同侧。真空镀膜设备在长时间使用状态后，整体会发生姿态倾斜，使得顶壁的固定座和托架发生水平偏差，基板架无法保持在直立状态。本申请真空镀膜设备在使用时，可以在连接座和衔接件之间增加垫片、或者在固定座和衔接件之间垫片，以修正连接座相对于顶壁的固定座二者发生的水平偏差。于顶壁的固定座二者发生的水平偏差。于顶壁的固定座二者发生的水平偏差。

【技术实现步骤摘要】
便于调整磁轨位置的真空镀膜设备


[0001]本申请涉及镀膜
，特别是涉及一种便于调整磁轨位置的真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜技术一般是将靶材在真空环境下加热至高温，使其蒸发或溅射，进而在基板表面形成一层膜的过程。真空镀膜技术可以改善材料的物理、化学和光学性质，提高其功能和性能，广泛应用于电子、光学、材料等领域。
[0003]对基板210进行镀膜主要通过真空镀膜设备完成，如图1～图4所示，真空镀膜设备包括托架300和顶壁110(图中省略门结构)，内置于真空镀膜设备内的基板架200用于固定基板210，以便于后续在基板210上进行镀膜加工。
[0004]基板架200一般竖直设置于真空镀膜设备内。真空镀膜设备的托架300用于承载基板架200的重量。基板架200的顶部(图示方向)包括设置的磁条201，真空镀膜设备的顶壁110固定连接有磁轨400，磁轨400向底侧开口形成一引导槽420，引导槽420形成磁力空间并产生对磁条201的斥力，使基板架200达到预期的竖直设置状态。
[0005]然而在实际使用中，由于真空镀膜设备的反复开启，会使用整体重心偏移，设备整体呈现出倾斜状态。真空镀膜设备高度通常有数米，导致托架300和磁轨400出现一定程度上的水平偏差。此时当基板架200的磁条201位于引导槽420内时，由于水平偏差以及自身的重力平衡，磁条201会碰触到引导槽420的侧壁，从而导致颗粒掉落，影响基板210的镀膜效果。
[0006]如果真空镀膜设备的重心向与门侧101相反的一侧倾斜，可以通过在如图3中放大图所示的磁轨400和顶壁110的固定座120之间增加垫片，以修正水平偏差，此时虽然此时磁轨400有些许的角度倾斜，但引导槽420能够容许该倾斜度。然而由于真空镀膜设备反复开门，容易朝向门侧101倾斜，此时无法进行水平偏差修正。真空镀膜设备的工作环境为无尘室，无法在腔体内直接加工，并且设备规格较大，难以对磁轨400进行二次加工，而且磁轨400的加工和安装会使处于产线中的设备停机一段时间，影响镀膜加工生产效率。

技术实现思路

[0007]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种便于调整磁轨位置的真空镀膜设备。
[0008]本申请提供一种便于调整磁轨位置的真空镀膜设备，包括：
[0009]腔体，其顶壁设置有固定座；
[0010]基板架，竖直设置于所述腔体内，用于负载待镀膜加工的基板；
[0011]托架，用于支撑和驱动所述基板架；
[0012]磁轨，具有连接座以及保持基板架处于直立状态的引导槽；
[0013]衔接件，分别通过第一连接件和第二连接件与所述固定座和连接座连接，所述连接座和固定座位于所述衔接件的同侧。
[0014]以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进
一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。
[0015]可选的，所述衔接件具有贴靠所述连接座和固定座的第一表面。
[0016]可选的，所述衔接件具有背对第一表面并与其平行的第二表面。
[0017]可选的，所述连接座具有定位所述衔接件的台阶结构。
[0018]可选的，所述固定座和衔接件上分别设置有供第一连接件穿过的第一通孔和第二通孔；所述连接座和衔接件上分别设置有供第二连接件穿过的第三通孔和第四通孔。
[0019]可选的，所述第二连接件的数量为两个，且位于同一个高度。
[0020]可选的，所述第三通孔和第四通孔的孔径均大于所述第二连接件的径向尺寸。
[0021]可选的，所述第一连接件和第二连接件为通孔销钉。
[0022]可选的，所述真空镀膜设备包括穿过通孔销钉的螺栓以及与螺栓配合的锁定螺母。
[0023]本申请便于调整磁轨位置的真空镀膜设备至少具有以下技术效果：
[0024]真空镀膜设备在长时间使用状态后，整体会发生姿态倾斜，使得顶壁的固定座和托架发生水平偏差，基板架无法保持在直立状态。本申请真空镀膜设备在使用时，可以在连接座和衔接件之间增加垫片、或者在固定座和衔接件之间垫片，以修正连接座相对于顶壁的固定座二者发生的水平偏差。
附图说明
[0025]图1～图3为本申请一实施例真空镀膜设备的结构示意图；
[0026]图4为图3本申请一实施例真空镀膜设备中磁轨、基板架、托架相互配合的结构示意图；
[0027]图5～图6为本申请一实施例中真空镀膜设备中连接座和衔接件相互配合的结构示意图；
[0028]图7为本申请一实施例中真空镀膜设备中连接座和衔接件使用过程中相互配合的结构示意图；
[0029]图8为本申请一实施例中真空镀膜设备中连接座和衔接件使用过程中相互配合的结构示意图；
[0030]图中附图标记说明如下：
[0031]100、腔体；101、门侧；110、顶壁；120、固定座；121、第一通孔；
[0032]200、基板架；201、磁条；210、基板；
[0033]300、托架；310、滚轮；
[0034]400、磁轨；410、连接座；420、引导槽；430、第三通孔；
[0035]500、衔接件；501、第一表面；502、第二表面；503、台阶结构；520、第二通孔；530、第一连接件；540、第四通孔；550、第二连接件；560、销孔；
[0036]610、第一垫片；620、第二垫片；630、第三垫片。
具体实施方式
[0037]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0038]需要说明的是，当组件被称为与另一个组件“连接”，它可以直接与另一个组件连接或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
[0039]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0040]本申请中，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、次序。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个、三个等，除非另有明确具体的限定。
[0041]本申请中，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.便于调整磁轨位置的真空镀膜设备，其特征在于，包括：腔体，其顶壁设置有固定座；基板架，竖直设置于所述腔体内，用于负载待镀膜加工的基板；托架，用于支撑和驱动所述基板架；磁轨，具有连接座以及保持基板架处于直立状态的引导槽；衔接件，分别通过第一连接件和第二连接件与所述固定座和连接座连接，所述连接座和固定座位于所述衔接件的同侧。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述衔接件具有贴靠所述连接座和固定座的第一表面。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述衔接件具有背对第一表面并与其平行的第二表面。4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述连接座具有定位所述衔接件的台阶结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗汉斌，郭维东，邱国维，
申请(专利权)人：安徽越好电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：