涂布机调节模式制造技术

本公开提供了一种调节涂布机以从涂布机的处理区域去除水分和

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂布机调节模式


[0001]本专利技术涉及涂布装置，特别是用于通过溅射过程涂布玻璃基板的大面积涂布机
。
本专利技术具体涉及在维护过程之后对涂布机进行调节
。

技术介绍

[0002]通常，在大面积涂布机上进行维护过程之后，将机器关闭并抽气
。
在抽吸之后，需要对涂布机进行“调节”。“调节”通常是将水从涂布机中抽出的同义词
。
水被吸附在涂布机内的整个表面上，并且为了有效地抽吸水，需要将水从表面分离
——
该过程需要热量
。
已知两种不同状态的现有技术调节过程：
[0003]一旦达到允许启动阴极的压力，就在整个涂布机中启动溅射过程
。
每个阴极提供的
10kW
与
120kW
之间的处理功率主要转换为热能，因此主要在处理隔室的区域中加热涂布机，其中溅射过程处于活动态，而泵隔室未被主动加热
。
虽然加热是使水从表面分离以将其泵出的期望效果，但存在两种不利影响：
(1)
溅射靶材在不生产涂布的玻璃的情况下而被消耗，
(2)
溅射材料沉积在空隔室中，形成具有固有应力的厚的涂布材料层，从而后续在涂布机处于生产模式时增加了碎屑
(
产品故障
)
的风险
。
[0004]为了使上述的碎屑风险降至最低，可以修改调节过程：在溅射时，例如不合规格的玻璃连续地延伸穿过涂布机
。
这样，溅射材料就不沉积在空隔室中，而是沉积在低质量玻璃上，该低质量玻璃将溅射材料带出涂布机
。
回到大气中，涂布的玻璃可重复用于该工艺
。
为此，需要将涂布的玻璃从涂布机出口输送回到涂布机入口
。
在调节过程结束时，将涂布的玻璃废弃
。
这样，可以降低生产期间碎屑的风险
。
然而，这种风险减轻同样伴随几个缺点：
(1)
当所有溅射过程处于活动态时，延伸穿过涂布机的玻璃被显著地加热，并且也有助于调节其中没有加热处理过程的泵隔室
。
当离开涂布机时，玻璃已达到约
60℃
至
70℃
的温度，并因此从真空提取大量的能量，而实际上在真空中需要该能量用于调节
。
回到大气中，玻璃在被输送回到涂布机入口时刚冷却下来，在此玻璃延伸穿过冲洗机并再次进入涂布机以被再加热并保护隔室表面不被溅射
。(2)
使玻璃循环通过涂布机并多次从出口回到入口，在玻璃上形成显著的层堆叠，从而导致显著的固有应力并且失去粘附力
。
因此，这种涂布材料的一部分在进入涂布机之前的苛刻的冲洗过程中被去除，该过程实际上被调整以冲洗未涂布的玻璃
。
由刷子机械去除的这些涂布颗粒会污染冲洗机，因此在开始生产之前需要进行清洁
。
[0005]如
US2007/254096 A1
中所述，在涂布操作之前用经调节的吹扫气体来吹扫涂布机的腔室，其中将吹扫气体的水分含量设定为预定水分水平，具体地设定为至多
30
％的相对水分含量
。
腔室可在清洁操作之前和
/
或期间至少部分地加热至
20℃
与
60℃
之间的温度
。
[0006]根据
WO 2006/127472 A1
，为了快速且廉价地干燥涂布机的
(
沉积
)
腔室，在使用之前用干燥空气冲洗该腔室以去除该腔室中的污染湿气
。
[0007]因此，本专利技术的一个目的是提供一种特别是克服上述问题的改进的调节方法和涂布机装置
。

技术实现思路

[0008]本专利技术由独立权利要求1和
14
限定；从属权利要求限定了本专利技术的实施方案
。
[0009]本专利技术提供一种调节涂布机以从涂布机的处理区域去除水分和
/
或湿气的方法
。
该处理区域包括至少一个泵隔室和至少一个溅射隔室
。
根据本专利技术的方法，将调节基板装载到该涂布机的该处理区域中，使得整个处理区域并且优选地传送室基本上被该调节基板填充
。
然后，通过在该处理区域中启动溅射过程和
/
或通过加热至少一个泵隔室来执行该涂布机的调节过程
。
在调节期间，该调节基板在该处理区域中执行振荡运动
(
来回地
)。
[0010]该调节基板可以是金属基板，具体地是比热容为至少
350J/(kg*K)
的基板，例如铝基板
。
该调节基板优选地在调节该涂布机之后被清洁并且重复使用
。
[0011]另选地，该调节基板是低质量的玻璃基板
。
玻璃调节基板可在调节该涂布机之后被废弃
。
[0012]调节基板的长度优选地基本上对应于溅射隔室的长度
。
涂布机中两个连续基板之间的距离
(
所谓的“间隙”)
应尽可能小，以防止靶材料在涂布机中溅射
。
典型地，该间隙为约
30mm
至
100mm。
相对于用于调节的基板长度，该间隙，即涂布机中两个连续基板之间的距离应至多为最小基板长度的约
1/8
至
1/12。
[0013]振荡的最小幅度优选地基本上对应于溅射隔室的长度
。
振动的最大幅度优选为传送室的长度，并且如果涂布机配备有缓冲室，则可增加最大幅度以包括缓冲室
。
[0014]加热的传导通道可用于加热至少一个泵隔室
。
[0015]该调节基板的长度以及
/
或者振荡幅度被优选地选择为使得在振荡期间仅单个调节基板位于该溅射隔室中
。
[0016]在调节该涂布机之后，可以从该调节基板中回收利用该涂布材料
。
[0017]在溅射和
/
或加热期间，优选地抽吸分离的水分
。
[0018]在调节期间，优选地至少一次暂时停止溅射过程，并且用如
Ar、O2、N2或空气之类的任何干燥气体或大气至少部分地使涂布机排气
。
随后，可通过再次对涂布机进行抽气并重新开始溅射来恢复调节过程
。
[0019]当通过检测到该涂布机中的剩余水分压低于预定阈值而确定调节已完成时，优选地停止该调节
。
优选地，通过使用残余气体分析仪和
/
或光谱等离子体发射监测系统来检测该涂布机中的水分压
。
[0020]本专利技术还提供了一种用于涂布基板的装置，该装置特别地被构造为执行上述调节方法
。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种调节涂布机以从所述涂布机的处理区域去除水分和
/
或湿气的方法，所述处理区域
(1)
包括至少一个泵隔室
(10)
和至少一个溅射隔室
(11)
，所述方法包括以下步骤：
‑
将调节基板
(5)
装载到所述处理区域
(1)
中，使得所述处理区域
(1)
基本上被所述调节基板
(5)
填充，
‑
通过在所述处理区域
(1)
中启动溅射过程和
/
或通过加热所述至少一个泵隔室
(10)
来调节所述涂布机，其中，在调节期间，所述调节基板
(5)
在所述处理区域中执行振荡运动
。2.
根据权利要求1所述的方法，其中所述调节基板
(5)
是金属基板，具体地是比热容为至少
350J/(kg*K)
的基板，其中所述调节基板
(5)
优选地在调节所述涂布机之后被清洁并且重复使用
。3.
根据权利要求1或2所述的方法，其中所述调节基板
(5)
是低质量的玻璃基板，其中所述调节基板优选地在调节所述涂布机之后被废弃
。4.
根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中调节基板
(5)
的长度基本上对应于溅射隔室
(11)
的长度
。5.
根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂布机中两个连续基板
(5)
之间的距离为约
30mm
至
100mm。6.
根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中振荡的最小幅度基本上对应于所述溅射隔室
(11)
的长度
。7.
根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中使用加热装置，优选地加热的传导通...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘立夫，马库斯，
申请(专利权)人：布勒阿尔策瑙股份有限公司，
类型：发明
国别省市：