本公开提供了一种调节涂布机以从涂布机的处理区域去除水分和

本公开提供了一种用于从等离子体中提取离子和/或电子的装置，该装置具有栅格(1)和栅格支架(2)，该栅格(1)紧固在该栅格支架的圆周上。根据本发明，该栅格(1)被构造成膨胀金属栅格。此外，本发明还提供一种等离子体源、一种等离子体镀膜装置，...

本发明提供了一种在涂布辊上为条状柔性电介质基材涂金属层的方法及装置，在该涂层期间，将该基材沿着该基材的纵向方向引导到该涂布辊上。对该基材进行充电，以提高该基材在该涂层期间在该涂布辊上的附着力。为该基材涂第一金属层，其中沿着该基材的该纵向...

本发明涉及一种用于在真空室中生产具有介电涂层材料的等离子体涂覆的表面的基板的方法，该真空室具有用交流电操作的等离子体装置，该方法包含：借助于移动装置沿着曲线相对于该等离子体装置来移动基板，且借助于该等离子体装置沿着位于该基板的表面上的轨...

本发明涉及运行在线涂覆设备的方法，在线涂覆设备具有带有进料门(260)的进料室(220)、连接至进料室(220)且可借助第一闸门(261)与进料室(220)分隔开的第一缓冲室(221)、连接至第一缓冲室(221)且可借助第二闸门(264...

本发明涉及真空室(10)的具有气体引导机构的气体分配装置，其包括具有喷嘴(27,37)的至少一个气体引导通道(25,30)，气体能从所述喷嘴被分配至真空室(10)，并且所述气体分配装置还具有气体供给机构，借助于其能将气体供给至所述气体引...

基材(130)真空处理设备具有包括等离子体装置(160)的真空室(1)、处理室(110)和在处理室(110)内设于等离子体装置下方的用于基材(130)的容纳机构(135)，其中处理室(110)包括具有侧壁(106a)的上半部(105a)...