【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空镀膜领域，特别是涉及卧式真空镀膜系统及其镀膜方法。
技术介绍
1、现有的物理气相沉积技术中，利用磁控溅射在工件表面镀各种功能性薄膜，这项工艺的发展已较为成熟。现有的磁控溅射镀膜系统一般包括依次排布的进料腔、加热腔、镀膜腔、卸料腔，但这种镀膜系统的粉尘含量仍较难控制在较低范围，尤其是加热腔内部的加热元件间隙多，在使用多次后加热腔内粉尘含量明显增加，且难以清洗去除，从而加热腔的洁净度保持难度大，最终影响镀膜效果。另外，现有的镀膜系统中需要布置进料腔、卸料腔这两道十级室，不仅设备成本较高，且占地面积大。
2、因此，现有的镀膜系统不适用于对partical含量要求极低的镀膜场合。
技术实现思路
1、为了解决上述的技术问题，本申请提供一种卧式真空镀膜系统，包括依次排布的：
2、进出料腔，具有供待镀膜工件进出所述卧式真空镀膜系统的进出料口；
3、工艺腔，用于对所述待镀膜工件进行磁控溅射镀膜；
4、加热腔，用于在镀膜前对所述待镀膜工件进行加热
5、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.卧式真空镀膜系统，其特征在于，包括依次排布的：
2.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述工艺腔包括中间的工作区以及位于工作区两侧分别衔接所述进出料腔和加热腔的第一隔离区和第二隔离区。
3.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述加热腔内设置有用于加热所述待镀膜工件板状加热器。
4.根据权利要求3所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述板状加热器被分割成多个温度独立控制的加热区。
5.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述传送组件包括固定待镀膜工件的基板架以及用于驱动所述...
【技术特征摘要】
1.卧式真空镀膜系统，其特征在于，包括依次排布的：
2.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述工艺腔包括中间的工作区以及位于工作区两侧分别衔接所述进出料腔和加热腔的第一隔离区和第二隔离区。
3.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述加热腔内设置有用于加热所述待镀膜工件板状加热器。
4.根据权利要求3所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述板状加热器被分割成多个温度独立控制的加热区。
5.根据权利要求1所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述传送组件包括固定待镀膜工件的基板架以及用于驱动所述基板架的驱动轮，所述工艺腔内设置有与基板架间隔形成镀膜室的沉降板以及用于封堵所述镀膜室的两侧，阻挡靶材离子逸散至所述驱动轮的阻挡件。
6.根据权利要求5所述的卧式真空镀膜系统，其特征在于，所述阻挡件包括水平段和竖直段，...
【专利技术属性】
技术研发人员：江嘉，徐建柱，娄国明，沈纬徵，郑博鸿，
申请(专利权)人：安徽越好电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。