对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端技术

一种对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端，其中对位标识的对位坐标获取方法包括：提供顶层版图；从所述顶层版图中确定对位标识图形，并通过选取边框将所述对位标识图形进行框选；获取所述选取边框的若干边框节点坐标；定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量；根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的对位坐标。通过自动化的获取所述顶层版图中所述对位标识图形的所述对位坐标，能够解决手动提取所述对位坐标所带来的偏差和繁琐性问题，能够有效提高获取所述对位坐标的准确性和效率。述对位坐标的准确性和效率。述对位坐标的准确性和效率。

【技术实现步骤摘要】
对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端。

技术介绍

[0002]光刻技术是用于在晶圆表面上印刷具有特征的构图，用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。
[0003]在现代微电子学中，集成电路的制造属于精密微细加工技术，包括光刻、离子注入、刻蚀、外延生长、氧化等一系列工艺。光刻工艺指是在表面匀胶硅片上，通过曝光显影等工艺将图形转移到光刻胶上的过程，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。一般的芯片制程中至少需要10次以上的光刻工序甚至更多。
[0004]光刻机在曝光时需要根据预先输入的对位标识的坐标来找到对位标识，定位好后对晶圆进行曝光，因此坐标正确性极为重要，一旦有一丝偏差，曝在整张晶圆上的图形都会偏移。
[0005]然而，在获取对位标识的坐标的过程中仍存在诸多问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术解决的技术问题是提供一种对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端，以提高获取对位坐标的准确性和效率。
[0007]为解决上述问题，本专利技术提供一种对位标识的对位坐标获取方法，包括：提供顶层版图；从所述顶层版图中确定对位标识图形，并通过选取边框将所述对位标识图形进行框选；获取所述选取边框的若干边框节点坐标；根据若干所述边框节点坐标获取所述对位标识图形的对位坐标。
[0008]可选的，从所述顶层版图中确定对位标识图形的方法包括：获取所述顶层版图中若干版图图形；从若干所述版图图形中确定所述对位标识图形。
[0009]可选的，从若干所述版图图形中确定所述对位标识图形的方法包括：获取每个所述版图图形的名称信息；根据所述名称信息确定对位标识图形。
[0010]可选的，所述选取边框为矩形边框，且所述选取边框相互垂直的边分别平行于水平方向和竖直方向。
[0011]可选的，当所述对位标识图形为矩形图形时，所述选取边框与所述对位标识图形的边轮廓重叠。
[0012]可选的，当所述对位标识图形为非矩形图形或组合图形时，所述选取边框包围所述对位标识图形。
[0013]可选的，所述选取边框的边框节点坐标包括：第一坐标和第二坐标，所述第一坐标对应的坐标点和所述第二坐标对应的坐标点分别为所述选取边框中的对角顶点。
[0014]可选的，根据若干所述边框节点坐标获取所述对位标识图形的对位坐标的方法包
括：定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量；根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的对位坐标。
[0015]可选的，定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量的方法包括：将所述第一坐标中的横坐标的值赋予第一横向坐标变量；将所述第一坐标中的纵坐标的值赋予第一纵向坐标变量；将所述第二坐标中的横坐标的值赋予第二横向坐标变量，所述第二坐标中的横坐标大于所述第一坐标中的横坐标；将所述第二坐标中的纵坐标的值赋予第二纵向坐标变量，所述第二坐标中的纵坐标大于所述第一坐标中的纵坐标。
[0016]可选的，根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的所述对位坐标的方法包括：提供所述对位坐标与所述第一坐标之间沿所述水平方向的第一水平间距尺寸；将所述第一横向坐标变量加上所述第一水平间距尺寸作为所述对位坐标的横坐标；提供所述对位坐标与所述第一坐标之间沿所述竖直方向的第一竖直间距尺寸；将所述第一纵向坐标变量加上所述第一竖直间距尺寸作为所述对位坐标的纵坐标。
[0017]可选的，根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的所述对位坐标的方法还包括：提供所述对位坐标与所述第二坐标之间沿所述水平方向的第二水平间距尺寸；将所述第二横向坐标变量减去所述第二水平间距尺寸作为所述对位坐标的横坐标；提供所述对位坐标与所述第二坐标之间沿所述竖直方向的第二竖直间距尺寸；将所述第二纵向坐标变量减去所述第二竖直间距尺寸作为所述对位坐标的纵坐标。
[0018]可选的，当所述对位坐标为中心对位坐标时，根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的所述对位坐标的方法包括：将所述第一横向坐标变量和所述第二横向坐标变量相加后除以2，作为所述对位坐标的横向坐标；将所述第一纵向坐标变量和所述第二纵向坐标变量相加后除以2，作为所述对位坐标的纵向坐标。
[0019]相应的，本专利技术技术方案中还提供一种存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，所述计算机指令运行时执行上述任一项所述方法的步骤。
[0020]相应的，本专利技术技术方案中还提供一种终端，包括存储器和处理器，所述存储器上存储有能够在所述处理器上运行的计算机指令，其特征在于，所述处理器运行所述计算机指令时执行上述任一项所述方法的步骤。
[0021]与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：
[0022]本专利技术的技术方案的对位标识的对位坐标获取方法中，通过自动化的获取所述顶层版图中所述对位标识图形的所述对位坐标，能够解决手动提取所述对位坐标所带来的偏差和繁琐性问题，能够有效提高获取所述对位坐标的准确性和效率。
[0023]进一步，当所述对位坐标为中心对位坐标时，根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的所述对位坐标的方法包括：将所述第一横向坐标变量和所述第二横向坐标变量相加后除以2，作为所述对位坐标的横向坐标；将所述第一纵向坐标变量和所述第二纵向坐标变量相加后除以2，作为所述对位坐标的纵向坐标。由于中心对位坐标为较为特殊的对位坐标，因此可以通过直接运算的方式获取，无需进行测量，能够进一步提供获取所述对位坐标的效率。
附图说明
[0024]图1是本专利技术实施例中对位标识的对位坐标获取的流程示意图；
[0025]图2至图5是本专利技术实施例中对位标识的对位坐标获取方法各步骤结构示意图；
[0026]图6是本专利技术其他实施例中选取边框框选非矩形图形或组合图形的对位标识图形的结构示意图；
[0027]图7是本专利技术其他实施例中获取对位标识图形的对位坐标的结构示意图。
具体实施方式
[0028]正如
技术介绍
所述，在获取对位标识的坐标的过程中仍存在诸多问题。以下将进行具体说明。
[0029]目前对位标识坐标的获取方法为在版图中手动将光标移动至对位标识的中心点，然后记录其坐标，若光标误动或坐标记录错误都将导致曝光偏移，而且整个过程耗时耗力，工作效率低。
[0030]在此基础上，本专利技术提供一种对位标识的对位坐标获取方法、存储介质及终端，通过自动化的获取所述顶层版图中所述对位标识图形的所述对位坐标，能够解决手动提取所述对位坐标所带来的偏差和繁琐性问题，能够有效提高获取所述对位坐标的准确性和效率。
[0031]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细地说明。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，包括：提供顶层版图；从所述顶层版图中确定对位标识图形，并通过选取边框将所述对位标识图形进行框选；获取所述选取边框的若干边框节点坐标；根据若干所述边框节点坐标获取所述对位标识图形的对位坐标。2.如权利要求1所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，从所述顶层版图中确定对位标识图形的方法包括：获取所述顶层版图中若干版图图形；从若干所述版图图形中确定所述对位标识图形。3.如权利要求2所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，从若干所述版图图形中确定所述对位标识图形的方法包括：获取每个所述版图图形的名称信息；根据所述名称信息确定对位标识图形。4.如权利要求1所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，所述选取边框为矩形边框，且所述选取边框相互垂直的边分别平行于水平方向和竖直方向。5.如权利要求4所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，当所述对位标识图形为矩形图形时，所述选取边框与所述对位标识图形的边轮廓重叠。6.如权利要求4所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，当所述对位标识图形为非矩形图形或组合图形时，所述选取边框包围所述对位标识图形。7.如权利要求4所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，所述选取边框的边框节点坐标包括：第一坐标和第二坐标，所述第一坐标对应的坐标点和所述第二坐标对应的坐标点分别为所述选取边框中的对角顶点。8.如权利要求7所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，根据若干所述边框节点坐标获取所述对位标识图形的对位坐标的方法包括：定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量；根据若干所述坐标参量获取所述对位标识图形的对位坐标。9.如权利要求8所述对位标识的对位坐标获取方法，其特征在于，定义若干坐标变量，并将所述选取边框中每个所述边框节点坐标的横坐标和纵坐标的值赋予对应的所述坐标变量的方法包括：将所述第一坐标中的横坐标的值赋予第一横向坐标变量；将所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：李新宇，丁帼君，赵亚楠，姜清华，
申请(专利权)人：常州承芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：