微粒收集装置制造方法及图纸

本公开提供了一种微粒收集装置，包括：第一收集装置，位于在第一方向上传送的衬底上，并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第二收集装置，在第一方向上与第一收集装置相邻，第二收集装置位于衬底上，并且在第二方向上延伸。第一收集装置收集残留在衬底上的第一微粒，且第二收集装置收集残留在衬底上的第二微粒，第二微粒包括与第一微粒的材料不同的材料。料。料。

【技术实现步骤摘要】
微粒收集装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2022年3月25日向韩国知识产权局提交的第10
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2022
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0037156号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本公开的实施方式的方面涉及微粒收集装置及包括其的沉积设备。

技术介绍

[0004]通常，显示装置包括用于显示图像的显示面板。显示面板包括生成图像的多个元件。在制造显示面板时，用于形成各种元件的金属薄膜、无机层、有机层等通过沉积工艺形成在衬底上。
[0005]在多个腔室中执行沉积工艺，从而在衬底上形成各种元件。衬底被传送到不同的腔室中，并且各种材料沉积在衬底上。衬底由衬底载体在腔室之间传送，并且当在衬底上沉积沉积材料时使用掩模。
[0006]在本
技术介绍
部分中公开的以上信息是为了增强对本公开的
技术介绍
的理解，并且因此，其可以包含不构成现有技术的信息。

技术实现思路

[0007]在沉积工艺期间，在衬底上可能残留各种污染物微粒。例如，当衬底、衬底载体和掩模被传送到不同的腔室中时，由于腔室中的结构(例如，对准装置的结构)之间的摩擦而可能产生金属微粒。此外，在有机层和无机层的沉积工艺期间，可能产生有机微粒和无机微粒。残留在衬底上的这些污染物微粒可能导致显示面板中的缺陷。
[0008]本公开的一个或更多个实施方式针对用于防止或基本上防止显示面板中的缺陷的微粒收集装置及包括其的沉积设备。
[0009]根据本公开的一个或更多个实施方式，微粒收集装置包括：第一收集装置，被配置成位于在第一方向上传送的衬底上，并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第二收集装置，在第一方向上与第一收集装置相邻，第二收集装置被配置成位于衬底上，并且在第二方向上延伸。第一收集装置被配置成收集残留在衬底上的第一微粒，且第二收集装置被配置成收集残留在衬底上的第二微粒，第二微粒包括与第一微粒的材料不同的材料。
[0010]在实施方式中，衬底可以被配置成从第一腔室传送到与第一腔室相邻的第二腔室；在第一腔室中可以限定有开口，所述开口是衬底通过其传送的路径；以及第一收集装置和第二收集装置可以位于第一腔室的与所述开口相邻的内壁上。
[0011]在实施方式中，当衬底由机械手臂从第一腔室传送到第二腔室时，第一收集装置和第二收集装置可以被配置成一起在第一腔室中收集第一微粒和第二微粒。
[0012]在实施方式中，第一收集装置可以被配置成产生磁力。
[0013]在实施方式中，第一微粒可以包括金属微粒。
[0014]在实施方式中，第二收集装置可以被配置成产生静电力。
[0015]在实施方式中，第二微粒可以包括有机微粒或无机微粒。
[0016]在实施方式中，微粒收集装置还可以包括主框架，且第一收集装置和第二收集装置可以位于主框架的下面。
[0017]在实施方式中，主框架可以包括金属。
[0018]在实施方式中，微粒收集装置还可以包括：第一绝缘层，在主框架和第一收集装置之间；以及第二绝缘层，在主框架和第二收集装置之间。
[0019]在实施方式中，第一收集装置可以包括：壳体，在主框架的下面；以及至少一个磁体，在壳体中。
[0020]在实施方式中，壳体可以包括金属。
[0021]在实施方式中，第二收集装置可以包括：副框架，在主框架的下面；绝缘层，在副框架的下面；以及第一电极和第二电极，在绝缘层中，并且被配置成接收彼此不同极性的电压。
[0022]在实施方式中，副框架可以包括金属。
[0023]在实施方式中，微粒收集装置还可以包括：直流电源，被配置成向第一电极和第二电极施加直流电压。
[0024]在实施方式中，衬底可以被配置成从第一腔室传送到与第一腔室相邻的第二腔室；在第二腔室中可以限定有开口，所述开口是衬底通过其传送的路径；以及第一收集装置和第二收集装置可以位于第二腔室的与所述开口相邻的内壁上。
[0025]在实施方式中，衬底可以被配置成由衬底载体从第一腔室传送到与第一腔室相邻的第二腔室；在第一腔室和第二腔室中可以分别限定有第一开口和第二开口，第一开口和第二开口是衬底通过其传送的路径；以及第一收集装置可以位于第二腔室的与第二开口相邻的内壁上，并且第二收集装置可以位于第一腔室的与第一开口相邻的内壁上。
[0026]根据本公开的一个或更多个实施方式，沉积设备包括：第一腔室；第二腔室，与第一腔室相邻；第一收集装置，被配置成位于从第一腔室传送到第二腔室的衬底上；以及第二收集装置，被配置成位于衬底上，并且与第一收集装置相邻。在第一腔室中限定有开口，所述开口是衬底通过其传送的路径，第一收集装置和第二收集装置位于第一腔室的与所述开口相邻的内壁上，第一收集装置被配置成收集残留在衬底上的第一微粒，且第二收集装置被配置成收集残留在衬底上的第二微粒，第二微粒包括与第一微粒的材料不同的材料。
[0027]在实施方式中，第一收集装置可以被配置成产生磁力，第一微粒可以包括金属微粒，第二收集装置可以被配置成产生静电力，以及第二微粒可以包括有机微粒或无机微粒。
[0028]在实施方式中，第一收集装置可以包括：壳体；以及至少一个磁体，在壳体中，且第二收集装置可以包括：副框架；绝缘层，在副框架的下面；以及第一电极和第二电极，在绝缘层中，第一电极和第二电极被配置成接收彼此不同极性的电压。
附图说明
[0029]本公开的以上和其他方面及特征将从以下参考附图对示例性、非限制性实施方式进行的详细描述中得到更清楚的理解。在附图中：
[0030]图1是示出根据本公开的实施方式的包括微粒收集装置的沉积设备的配置的示意
图；
[0031]图2是可以使用图1中所示的沉积设备制造的显示面板的平面图；
[0032]图3是示出可以由图1中所示的沉积设备制造的像素的配置的剖视图；
[0033]图4是示出形成图3中所示的发光元件的有机层的沉积工艺的剖视图；
[0034]图5是示出设置在图1中所示的第一腔室的内部空间中的微粒收集装置和机械手臂的图；
[0035]图6是沿图5中的线I
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I'截取的剖视图，并且示出了图5中所示的微粒收集装置的配置；
[0036]图7是图5中所示的机械手臂的平面图；
[0037]图8是沿图5中的线II
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II'截取的剖视图，并且示出了图5中所示的微粒收集装置的微粒收集操作；
[0038]图9是示出根据本公开的另一实施方式的微粒收集装置的配置的图；
[0039]图10是示出根据本公开的另一实施方式的微粒收集装置的配置的图；以及
[0040]图11是其中图10中所示的微粒收集装置连续地布置在腔室中的图。
具体实施方式
[0041]在下文中，将参考附图更详细地描述实施方式，在附图中相同的附图标记始终指代相同的元件。然而，本公本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微粒收集装置，包括：第一收集装置，被配置成位于在第一方向上传送的衬底上，并且在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第二收集装置，在所述第一方向上与所述第一收集装置相邻，所述第二收集装置被配置成位于所述衬底上，并且在所述第二方向上延伸，其中，所述第一收集装置被配置成收集残留在所述衬底上的第一微粒，以及其中，所述第二收集装置被配置成收集残留在所述衬底上的第二微粒，所述第二微粒包括与所述第一微粒的材料不同的材料。2.根据权利要求1所述的微粒收集装置，其中：所述衬底被配置成从第一腔室传送到与所述第一腔室相邻的第二腔室；在所述第一腔室中限定有开口，所述开口是所述衬底通过其传送的路径；以及所述第一收集装置和所述第二收集装置位于所述第一腔室的与所述开口相邻的内壁上。3.根据权利要求2所述的微粒收集装置，其中，当所述衬底由机械手臂从所述第一腔室传送到所述第二腔室时，所述第一收集装置和所述第二收集装置被配置成一起在所述第一腔室中收集所述第一微粒和所述第二微粒。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：金盛珍，朴天英，朴在穆，赵源锡，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：