一种显示器面板修补装置，包含有：一雷射单元；一衰减单元；一半反射镜；一聚焦单元；一监视单元；一背光源；以及一倍频单元，该倍频单元由数个透镜所组成，用以将雷射光的波长转换为更短；其中，该雷射单元所发出的雷射光系通过该倍频单元来转换波长，再经过该衰减单元加以衰减，再经过该半反射镜的反射而通过该聚焦单元向外照射。借此，可使雷射光因倍频后波长变短，而使聚焦光腰较小，缩小雷射作用于样品的范围，达到在冷加工程序中精密修补的功效。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是与显示器面板的修补技术有关，特别是指一种显示器面板修补装置。
技术介绍
液晶显示器在制造的过程中，会经历半导体制程、黄光微影制程以及充填液晶的 组立制程。由于制程步骤繁琐且产品面积愈来愈大，因此有些制程的瑕疵造成产品发生所 谓亮点的状况是愈来愈多了。液晶显示器是靠特殊设计的电极，以外加电场的方式使位于电极间的液晶分子旋 转，借以调节光的穿透率来达成显示图像的目的。而所谓的亮点即是液晶显示器上明暗程 度无法以电路控制的像素，且其永远为亮的情形。我国公开第200615628号「液晶显示装置之缺陷像素修正方法及缺陷像素修正装 置」专利技术专利案，揭露了使用雷射振荡器、衰减器、功率监测器、摄影机、聚焦透镜、背光源等 等装置或技术，而可达到修正缺陷像素的功效。然而，该种方式虽然是使用雷射光来进行修 补，却仅能使用在照射时间较常的热加工程序上，其并不是照射时间较短的冷加工程序。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种显示器面板修补装置，其可适用于雷射修补的冷 加工程序。本专利技术的另一目的在于提供一种显示器面板修补装置，其可有效的将亮点修正为 暗点。为了达成前述目的，依据本专利技术所提供的一种显示器面板修补装置，包含有一雷 射单元，用以产生雷射光；一衰减单元，由数个透镜所组成，用以将雷射光加以衰减；一半 反射镜，用以反射雷射光以及透过其他光线；一聚焦单元，由至少一透镜所组成，用以使光 线聚焦；一监视单元，具有取像功能；一背光源，发出光线通过该聚焦单元以及该半反射镜 而进入该监视单元以进行取像；其特征在于，更包含有一倍频单元，由数个透镜所组成， 用以将雷射光的波长转换为更短；其中，该雷射单元所发出的雷射光系通过该倍频单元来 转换波长，再经过该衰减单元加以衰减，再经过该半反射镜的反射而通过该聚焦单元向外 照射。借此，可达到在冷加工程序中以雷射光进行修补的功效。附图说明图1是本专利技术显示器面板修补装置一较佳实施例的架构示意图。 具体实施例方式为了详细说明本专利技术的构造及特点所在，兹举以下较佳实施例并配合图式说明如 后，其中如图1所示，本专利技术一较佳实施例所提供的一种显示器面板修补装置10，主要由一雷射单元11、一衰减单元21、一半反射镜31、一聚焦单元41、一监视单元51、一背光源 61、以及一倍频单元71所组成，其中该雷射单元11，用以产生飞秒雷射光，该雷射单元11所产生的雷射光的波长为 700-1300nm(奈米)，而脉冲宽度为ΙΟ,-ΙΟ—15秒。该衰减单元21，由数个透镜所组成，主要具有一倍频光的半波片22、以及一偏振 分光器24，其组合用以将雷射光的倍频光加以衰减。该半反射镜31，用以反射雷射光以及透过其他光线。该聚焦单元41，由至少一透镜所组成，本实施例中是由一凸透镜所组成，用以使光线聚焦ο 监视单元51，具有取像功能，在本实施例中为一摄影机。该背光源61，发出光线通过该聚焦单元41以及该半反射镜31而进入该监视单元 51以进行取像。该倍频单元71，由数个透镜所组成，主要具有一前聚焦透镜72、一光学晶体74、以 及一后聚焦透镜76，该前聚焦透镜72用以将雷射光束聚焦以增加强度，该光学晶体74则用 以对光线进行波长的转换，该后聚焦透镜76则用以将发散光束变为平行光束，借此可将雷 射光的波长转换为更短。其中，该雷射单元11所发出的雷射光是通过该倍频单元71来转换波长，再经过该 衰减单元21加以衰减，再经过该半反射镜31的反射而通过该聚焦单元41向外照射。本实施例中更包含有一遮光器15，该雷射单元11所发出的雷射光先经过该遮光器15，再进入该倍频单 元71，该遮光器15用来遮断/不遮断雷射光，进而替代为对雷射光的开关动作。一光栏25，雷射光经过该衰减单元21衰减后，即进入该光栏25，之后才照射于该 半反射镜31 ；该光栏25用以调节雷射光的光束大小。本实施例可利用一自动聚焦感测系统81以及一移动系统85来进行自动对焦的动 作。其中，该自动聚焦感测系统81用以侦测该监视单元51所取得的影像的清晰度，并借由 该移动系统85来调整整个装置的高度，调整的高度即是使该监视单元51所取得的影像最 清晰的位置。以下说明本专利技术的作动方式。在操作前，先将待修补的显示器面板99置于该聚焦单元41以及该背光源61之 间。开始修补时，该雷射单元11发出飞秒雷射光，经过该遮光器15来控制是否让雷射 光通过，达到开/关雷射光的效果。接着，在该遮光器15让雷射光通过时，雷射光即进入该 倍频单元71而改变该雷射光的波长使其倍频。倍频后的雷射光即再进入该衰减单元21来 使其衰减，以降低倍频后雷射光的能量。之后，雷射光进入该光栏25，利用该光栏25来调整 雷射光束的大小。光束大小被调整后雷射光接着照射于该半反射镜31，而反射进入该聚焦 单元41，经过聚焦而照射于该待修补的显示器面板99，借以进行修补作业。该待修补的显 示器面板99的状态是可借由其表面的反射光经过该聚焦单元41以及穿过该半反射镜31 而进入该监视单元51，以取像来监视；而该背光源61所发出的光线同样的可穿过该待修补 的显示器面板99，并经过该聚焦单元41以及该半反射镜31而进入该监视单元51，该背光源61用来辅助使得该监视单元51所取得的影像更有利于人员辨识。另外，在修补前，也可先透过该自动聚焦感测系统81来侦测该监视单元51所取得 的影像是否清晰，若不清晰，则以该移动系统85来控制整个装置上下移动，借以对准焦距 来取得清晰的影像，以利后续的修补作业。由上可知，借由本专利技术的技术，可使用飞秒雷射光对需修补的显示器面板99进行 雷射修补，其雷射光经过倍频处理，光子能量高且聚焦光腰小、作用范围小、单脉冲的作用 时间短，可适用于冷加工的程序，同样可有效的将亮点修正为暗点。权利要求一种显示器面板修补装置，包含有一雷射单元，用以产生雷射光；一衰减单元，由数个透镜所组成，用以将雷射光加以衰减；一半反射镜，用以反射雷射光以及透过其他光线；一聚焦单元，由至少一透镜所组成，用以使光线聚焦；一监视单元，具有取像功能；一背光源，发出光线通过该聚焦单元以及该半反射镜而进入该监视单元以进行取像；其特征在于，更包含有一倍频单元，由数个透镜所组成，用以将雷射光的波长转换为更短；其中，该雷射单元所发出的雷射光是通过该倍频单元来转换波长，再经过该衰减单元加以衰减，再经过该半反射镜的反射而通过该聚焦单元向外照射。2.根据权利要求1所述的显示器面板修补装置，其特征在于该倍频单元具有一前聚 焦透镜、一光学晶体、以及一后聚焦透镜，该前聚焦透镜用以将雷射光束聚焦以增加强度， 该光学晶体则用以对光线进行波长的转换，该后聚焦透镜则用以将发散光束变为平行光 束o3.根据权利要求1所述的显示器面板修补装置，其特征在于该雷射单元所产生的雷 射光的波长为700-1300nm(奈米)，而脉冲宽度为10_13-1()-15秒。4.根据权利要求1所述的显示器面板修补装置，其特征在于雷射经过该倍频单元转 换后的雷射光的波长为170-650nm(奈米)。5.根据权利要求1所述的显示器面板修补装置，其特征在于更包含有一遮光器，该雷 射单元所发出的雷射光是先经过该遮光器，再进入该倍频单元，该遮光器用来遮断/不遮 断雷射光，进而替代为对雷射光的开关动本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示器面板修补装置，包含有：一雷射单元，用以产生雷射光；一衰减单元，由数个透镜所组成，用以将雷射光加以衰减；一半反射镜，用以反射雷射光以及透过其他光线；一聚焦单元，由至少一透镜所组成，用以使光线聚焦；一监视单元，具有取像功能；一背光源，发出光线通过该聚焦单元以及该半反射镜而进入该监视单元以进行取像；其特征在于，更包含有：一倍频单元，由数个透镜所组成，用以将雷射光的波长转换为更短；其中，该雷射单元所发出的雷射光是通过该倍频单元来转换波长，再经过该衰减单元加以衰减，再经过该半反射镜的反射而通过该聚焦单元向外照射。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴秉宗，王正宇，田孝通，
申请(专利权)人：东捷科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。