用于光刻设备的曝光成型方法技术

本发明专利技术公开了一种用于光刻设备的曝光成型方法，其包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；激光光源射出激光、将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统，成像系统将入射光处理为成像光和检测光；对位系统连接有位移平台，投射目标安装于位移平台，对位系统根据照射于检测光的情况操作位移平台进行位置调整，并使得检测光可以对位准确。对位系统将会根据照射于检测位处的光线调整位移平台的位置，因此，位移平台将可以带动投射目标运动，并使得其保持与检测光的实时对位效果。使得其保持与检测光的实时对位效果。使得其保持与检测光的实时对位效果。

【技术实现步骤摘要】
用于光刻设备的曝光成型方法


[0001]本专利技术涉及光刻领域，特别涉及一种用于光刻设备的曝光成型方法。

技术介绍

[0002]众所周知，光刻设备的作业过程中，主要是通过激光光源射出激光，并通过激光对芯片进行照射，从而完成对芯片的光刻作业。其中，芯片的基板和激光之间的对准尤为重要。目前主要通过作业前对二者进行对位，来保证二者之间的对准效果。然而，这样的对位方式难以解决在光刻过程中可能产生的晃动、窜动所导致的偏位问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种用于光刻设备的曝光成型方法，能够更准确地对激光和基板之间进行对位。
[0004]根据本专利技术的第一方面实施例的用于光刻设备的曝光成型方法，包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；
[0005]S1，激光光源射出激光；
[0006]S2，引射系统对激光光源所射出的激光进行引导和均匀化，并使得其入射至空间光调制器；
[0007]S3，空间光调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于，包括：激光光源(100)、引射系统(200)、空间光调制器(300)、成像系统(400)、投射目标(500)和对位系统，以及以下步骤；S1，激光光源(100)射出激光；S2，引射系统(200)对激光光源(100)所射出的激光进行引导和均匀化，并使得其入射至空间光调制器(300)；S3，空间光调制器(300)将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统(400)，成像系统(400)将入射光处理为成像光和检测光；S4，投射目标(500)具有成像位(550)和检测位(530)，其中，成像系统(400)将成像光引导照射于成像位(550)，成像系统(400)将检测光引导照射于检测位(530)；S5，对位系统连接有位移平台(600)，投射目标(500)安装于位移平台(600)，对位系统根据照射于检测位(530)处的检测光的情况操作位移平台(600)进行位置调整，并使得检测光和检测位(530)之间可以实时对位准确。2.如权利要求1所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：步骤S4中，所述成像系统(400)包括成像镜头(450)和分光镜组，所述空间光调制器(300)引导入射光一并照射于成像镜头(450)处和分光镜组处；所述成像镜头(450)将入射光成像处理于投射目标(500)，所述分光镜组对入射光进行折射并引导其照射于检测位(530)。3.如权利要求2所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：所述分光镜组包括多个反射镜(435)，各个所述反射镜(435)环绕所述成像镜头(450)分布；所述检测位(530)为多...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈超，尚小兵，涂先勤，蔡自立，汪益立，零萍，陈锡媛，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：