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本发明公开了一种用于光刻设备的曝光成型方法，其包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；激光光源射出激光、将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统，成像系统将入射光处理为成像光和检测光；对位系统...
该专利属于中山新诺科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山新诺科技股份有限公司授权不得商用。

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