一种加热线圈拉紧结构制造技术

技术编号:38780866 阅读:17 留言:0更新日期:2023-09-10 11:16
本实用新型专利技术涉及一种加热线圈拉紧结构,属于半导体设备技术领域,线圈环绕在半导体设备待加热的圆柱件外,两端相交叉,第一端外固定连接有第一滑块,线圈的第二端外固定连接有第二滑块;在半导体设备的底板上固定嵌入设置有第一滑轨和第二滑轨;第一滑轨与第一滑块滑动连接,第一滑轨与第一端向方向平行;第二滑轨与第二滑块滑动连接,第二滑轨与第二端方向平行;半导体设备的底板上还设置有顶块,顶块连接有控制其朝向圆柱件滑动的顶出机构;第一滑块和第二滑块相对的侧面均为光滑斜面,且该两光滑斜面的法向均朝向顶块。本方案拉紧线圈稳定可靠、不会卡住,保证线圈与圆柱件之间充分接触,保证传热效率和加热效果,提高半导体设备工作效率。备工作效率。备工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种加热线圈拉紧结构


[0001]本技术属于半导体设备
,具体地涉及一种加热线圈拉紧结构。

技术介绍

[0002]半导体设备例如刻蚀设备中,在设备的底板上方安装有圆柱件(Dome),其外侧面下端呈圆柱形筒状。该圆柱件一般为陶瓷材料制成,并需要进行加热(例如从室温加热至200摄氏度)。为此,通常在该圆柱件外侧环绕设置有用于加热的线圈,通入电流使线圈发热,进而通过接触式热传导的方式加热该圆柱件。现有技术方案中,由于陶瓷的圆柱件与金属的线圈膨胀系数不同,无法将二者直接固定,基本都是仅靠线圈自身的直径尺寸卡紧在圆柱件上,线圈与圆柱件之间存在间隙、接触面积较小,导致传热效率较低、加热效果较差。尤其随着线圈温度升高,构成其的铜线会产生膨胀、长度增加,使得间隙进一步扩大。

技术实现思路

[0003]基于现有技术存在的技术问题,本技术提供一种加热线圈拉紧结构,使线圈与圆柱件充分接触,避免存在间隙而导致加热效果差的问题,并且在温度变化过程中线圈能够始终在圆柱件上保持拉紧状态。
[0004]依据本技术的技术方案,本技术提供了一种加热线圈拉紧结构,线圈环绕在半导体设备待加热的圆柱件外,线圈环绕至少一周后两端相交叉,其中,线圈的第一端外固定连接有第一滑块,线圈的第二端外固定连接有第二滑块;在半导体设备的底板上固定嵌入设置有第一滑轨和第二滑轨;第一滑轨与第一滑块滑动连接,第一滑轨的长度方向与第一端向外延伸的长度方向平行;第二滑轨与第二滑块滑动连接,第二滑轨的长度方向与第二端向外延伸的长度方向平行;半导体设备的底板上还设置有顶块,顶块连接有控制其朝向圆柱件滑动的顶出机构;第一滑块和第二滑块相对的侧面均为光滑斜面,且该两光滑斜面的法向均朝向顶块。
[0005]进一步地,第一滑轨设置于第一端的正下方,第二滑轨设置于第二端的正下方。
[0006]进一步地,底板上开设有凹陷的第一滑轨槽和第二滑轨槽,第一滑轨和第二滑轨分别设置于第一滑轨槽和第二滑轨槽中,第一滑轨和第二滑轨的上端面与底板的上表面相平齐。
[0007]进一步地,第一滑块和第二滑块均包括有底座和盖板;盖板可拆卸地设置在底座上,共同夹紧固定线圈的末端。
[0008]进一步地,底座和盖板通过螺丝可拆卸地固定连接。
[0009]进一步地,顶块朝向第一滑块和第二滑块的侧面为相对应地匹配的斜面或曲面。
[0010]在一实施例中,顶块呈半圆柱体。
[0011]优选地,顶块下方设置有顶块滑轨,顶块滑轨固定嵌入设置在底板上,顶块滑轨的长度方向与第一滑块和第二滑块之间的对称轴相平行。
[0012]进一步地,顶出机构包括有固定挡板,固定挡板固定设置在底板上;顶块与固定挡
板之间设置有弹簧。
[0013]进一步地,固定挡板上开设有连接通孔并穿入有滑动柱,滑动柱的末端与顶块相连接,弹簧套设在滑动柱上。
[0014]与现有技术相比,本技术的有益技术效果如下:
[0015]1、本方案采用顶块和两个滑块相配合的方式,通过顶出机构将顶块顶出、顶紧,推动两个滑块在滑轨的限位作用下向外拉紧线圈的两端,从而保证了线圈与圆柱件之间充分接触,保证传热效率和加热效果,提高半导体设备工作效率。
[0016]2、本方案对顶块持续施加顶紧的作用力,即使线圈的长度由于温度有所变化,也能够自动调节,使线圈始终紧贴圆柱件。
[0017]3、本方案的顶块和滑块之间通过光滑平面或曲面相配合,进一步保证顶紧的作用力稳定可靠,结构不会卡住。
附图说明
[0018]图1是本技术一实施例的俯视结构示意图。
[0019]图2是本技术又一实施例的第一滑块和第一滑轨部分的结构示意图。
[0020]图3是本技术再一实施例的俯视结构示意图。
[0021]附图中的附图标记说明:
[0022]1、线圈;
[0023]2、圆柱件;
[0024]3、第一端;
[0025]4、第二端;
[0026]5、第一滑块;
[0027]6、第二滑块;
[0028]7、第一滑轨;
[0029]8、第二滑轨;
[0030]9、底板;
[0031]10、顶块;
[0032]11、顶出机构;
[0033]12、底座;
[0034]13、盖板;
[0035]14、固定挡板;
[0036]15、弹簧;
[0037]16、滑动柱;
[0038]17、顶块滑轨。
具体实施方式
[0039]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术中的附图,对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人
员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0040]另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与有关技术相关的部分。在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0041]需要注意,本技术中提及的“第一”、“第二”等概念仅用于对不同的装置、模块或单元进行区分,并非用于限定这些装置、模块或单元所执行的功能的顺序或者相互依存关系。
[0042]需要注意,本技术中提及的“一个”、“多个”的修饰是示意性而非限制性的,本领域技术人员应当理解,除非在上下文另有明确指出,否则应该理解为“一个或多个”。
[0043]本技术涉及一种加热线圈拉紧结构,属于半导体设备
,线圈环绕在半导体设备待加热的圆柱件外,两端相交叉,第一端外固定连接有第一滑块,线圈的第二端外固定连接有第二滑块;在半导体设备的底板上固定嵌入设置有第一滑轨和第二滑轨;第一滑轨与第一滑块滑动连接,第一滑轨与第一端向方向平行;第二滑轨与第二滑块滑动连接,第二滑轨与第二端方向平行;半导体设备的底板上还设置有顶块,顶块连接有控制其朝向圆柱件滑动的顶出机构;第一滑块和第二滑块相对的侧面均为光滑斜面,且该两光滑斜面的法向均朝向顶块。本方案拉紧线圈稳定可靠、不会卡住,保证线圈与圆柱件之间充分接触,保证传热效率和加热效果,提高半导体设备工作效率。
[0044]首先请参阅图1,本技术所适用的半导体设备例如刻蚀设备,具有底板9,底板9上设置有圆柱件2,圆柱件2外设置有线圈1,线圈1的两端导电地连接有电源、开关等形成连通的电路。现有技术方案一般仅通过线圈1的尺寸实现固定,因此存在固定不牢、贴合不紧密,因而热传导效率低、加热效果差的问题。针对于此,本技术对线圈1固定于圆柱件2的方式进行了改进。
[0045]本技术一实施例的一种加热线圈拉紧结构,线圈1环绕在半导体设备待加热的圆柱件2外,线圈1环绕至少一周后两端相交叉,其中,线圈1的第一端3外固定连接有第一滑块5,线圈1的第二端4外本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种加热线圈拉紧结构,其特征在于,所述线圈(1)环绕在半导体设备待加热的圆柱件(2)外,所述线圈(1)环绕至少一周后两端相交叉,其中,所述线圈(1)的第一端(3)外固定连接有第一滑块(5),所述线圈(1)的第二端(4)外固定连接有第二滑块(6);在所述半导体设备的底板(9)上固定嵌入设置有第一滑轨(7)和第二滑轨(8);所述第一滑轨(7)与所述第一滑块(5)滑动连接,所述第一滑轨(7)的长度方向与所述第一端(3)向外延伸的长度方向平行;所述第二滑轨(8)与所述第二滑块(6)滑动连接,所述第二滑轨(8)的长度方向与所述第二端(4)向外延伸的长度方向平行;所述半导体设备的所述底板(9)上还设置有顶块(10),所述顶块(10)连接有控制其朝向所述圆柱件(2)滑动的顶出机构(11);所述第一滑块(5)和所述第二滑块(6)相对的侧面均为光滑斜面,且该两光滑斜面的法向均朝向所述顶块(10)。2.如权利要求1所述的加热线圈拉紧结构,其特征在于,所述第一滑轨(7)设置于所述第一端(3)的正下方,所述第二滑轨(8)设置于所述第二端(4)的正下方。3.如权利要求1所述的加热线圈拉紧结构,其特征在于,所述底板(9)上开设有凹陷的第一滑轨槽和第二滑轨槽,所述第一滑轨(7)和所述第二滑轨(8)分别设置于所述第一滑轨槽和所述第二滑轨槽中,所述第一滑轨(7)和所述第二滑轨(8)的上端面与所述底板(9)的上表面相平齐。4.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵云超吴迪李伟阳
申请(专利权)人:盛吉盛宁波半导体科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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