System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种等离子线圈调节装置及半导体设备制造方法及图纸_技高网

一种等离子线圈调节装置及半导体设备制造方法及图纸

技术编号:40579331 阅读:5 留言:0更新日期:2024-03-06 17:21
本发明专利技术提供一种等离子线圈调节装置及半导体设备,其属于半导体装备技术领域,所述等离子线圈调节装置包括固定座、旋转驱动机构和四个升降机构,所述固定座的上表面安装有下调整环,所述下调整环的直边与固定座相贴合,所述下调整环的斜边的一侧贴合有上调整环,所述上调整环的截面呈直角梯形,所述下调整环的截面呈直角梯形,所述上调整环的上表面贴合有用以安装固定线圈的线圈板组件;旋转驱动机构,所述旋转驱动机构用以驱动上调整环旋转,所述旋转驱动机构位于线圈板组件上。本发明专利技术通过快速自动调节线圈倾斜度实现等离子体密度分布调整,提高等离子体密度分布调整的工作效率,并且等离子体密度分布调整的稳定性大幅提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体装备,具体涉及一种等离子线圈调节装置及半导体设备


技术介绍

1、目前icp(电感耦合等离子体发生装置)广泛地应用于ic器件制造工艺中,其工作原理为高频电流经感应线圈产生高频电磁场,激励气体电离形成等离子体,等离子体中活性反应基团扩散进入工件表面后,实现基体材料表面结构及性能的改变,因此等离子体分布的均匀性对工艺结果至关重要,但在实际应用过程中受腔体结构及流场分布影响,等离子体分布会出现等离子体密度径向不均匀情况。

2、现有技术通常通过改进反应腔室及射频线圈结构或者手动旋转调整环的方式来改善等离子体分布的均匀性,虽然该方式可以短期解决该等离子体密度径向不均匀情况;但在工艺验证阶段,其不仅仅浪费大量的时间及设计成本,而且其稳定性尚待提高。


技术实现思路

1、基于现有技术存在的技术问题,本专利技术提出一种等离子线圈调节装置及半导体设备,本专利技术解决了通过改进腔体及线圈结构造成的时间及设计成本浪费的问题,通过快速自动调节线圈倾斜度实现等离子体密度分布调整,提高等离子体密度分布调整的工作效率,并且等离子体密度分布调整的稳定性大幅提升。

2、为了实现上述目的,本专利技术的第一方面采用了如下技术方案:

3、一种等离子线圈调节装置,其包括固定座,所述固定座的上表面安装有下调整环,所述下调整环的直边与固定座相贴合,所述下调整环的斜边的一侧贴合有上调整环,所述上调整环的截面呈直角梯形,所述下调整环的截面呈直角梯形,所述上调整环的上表面贴合有用以安装固定线圈的线圈板组件;

4、旋转驱动机构,所述旋转驱动机构用以驱动上调整环旋转,所述旋转驱动机构位于线圈板组件上;

5、四个升降机构,所述升降机构用以对上调整环和线圈板组件的高度进行控制。

6、优选的,所述旋转驱动机构包括用以提供动力的伺服电机和第二自润滑轴套,所述第二自润滑轴套与线圈板组件固定连接,所述第二自润滑轴套与伺服电机固定连接,所述伺服电机的输出端固定连接有驱动轴,所述驱动轴远离伺服电机的一端固定连接有锥形轮,所述上调整环的外壁开设有锥形槽,所述锥形轮与锥形槽的尺寸相适配。

7、优选的,所述联轴器的下端安装有第一活动限位块,所述锥形轮的上表面安装有第二活动限位块。优选的,所述驱动轴的圆弧面安装有第一自润滑轴套。

8、优选的,所述驱动轴的圆弧面套有压簧,所述压簧的两端分别与上调整环和线圈板组件固定连接。

9、优选的,所述线圈板组件的表面设有三个旋转辅助机构,所述旋转辅助机构与旋转驱动机构配合使用,所述旋转辅助机构与旋转驱动机构呈圆周分布,所述旋转辅助机构与旋转驱动机构同时借助锥形轮与锥形槽卡住上调整环。

10、优选的,所述升降机构包括电动推杆和顶升块,四个所述升降机构呈圆周分布。优选的,所述顶升块与电动推杆接触位置呈球形沉槽状。

11、依据本专利技术第二技术方案,提供一种半导体设备,其使用第一方案中所述的等离子线圈调节装置。

12、与现有技术相比较,本专利技术一种等离子线圈调节装置及半导体设备的技术优点和积极效果在于。

13、1、本专利技术中通过第一活动限位块和第二活动限位块,可以使锥形轮的旋转过程更加稳定,通过设置第一自润滑轴套,能够保证驱动轴自由上下滑动且旋转,机台正常安装状态下,处于压缩状态,顶起过程中自动释放,实现上调整环与线圈板组件的接触脱离,通过旋转辅助机构,通过同样功能结构的锥形轮借助锥形槽卡住上调整环,实现一起上下移动与旋转功能,旋转精度可控制在1°以内。

14、2、本专利技术通过设置升降机构,可对线圈的高度进行调节,进一步提高了该装置的自动化程度,通过将电动推杆与顶升块的接触位置设置为球形沉槽,可以保证不同角度下升降均为点接触。

15、3、本专利技术通过设置整体结构,解决了通过改进腔体及线圈结构造成的时间及设计成本浪费的问题,通过快速自动调节线圈倾斜度实现等离子体密度分布调整,提高等离子体密度分布调整的工作效率,并且等离子体密度分布调整的稳定性大幅提升。

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【技术保护点】

1.一种等离子线圈调节装置,其特征在于,其包括:

2.根据权利要求1所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述旋转驱动机构(3)包括用以提供动力的伺服电机(301)和第二自润滑轴套(309),所述第二自润滑轴套(309)与线圈板组件(6)固定连接,所述第二自润滑轴套(309)与伺服电机(301)固定连接,所述伺服电机(301)的输出端固定连接有驱动轴(308),所述驱动轴(308)远离伺服电机(301)的一端固定连接有锥形轮(306),所述上调整环(5)的外壁开设有锥形槽,所述锥形轮(306)与锥形槽的尺寸相适配。

3.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述联轴器(302)的下端安装有第一活动限位块(303),所述锥形轮(306)的上表面安装有第二活动限位块(307)。

4.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述驱动轴(308)的圆弧面安装有第一自润滑轴套(304)。

5.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述驱动轴(308)的圆弧面套有压簧(305),所述压簧(305)的两端分别与上调整环(5)和线圈板组件(6)固定连接。

6.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述线圈板组件(6)的表面设有三个旋转辅助机构(4),所述旋转辅助机构(4)与旋转驱动机构(3)配合使用,所述旋转辅助机构(4)与旋转驱动机构(3)呈圆周分布,所述旋转辅助机构(4)与旋转驱动机构(3)同时借助锥形轮(306)与锥形槽卡住上调整环(5)。

7.根据权利要求1所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述升降机构(7)包括电动推杆(701)和顶升块(702),四个所述升降机构(7)呈圆周分布。

8.根据权利要求7所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述顶升块(702)与电动推杆(701)接触位置呈球形沉槽状。

9.一种半导体设备,其使用权利要求1-8之任一所述的等离子线圈调节装置。

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【技术特征摘要】

1.一种等离子线圈调节装置,其特征在于,其包括:

2.根据权利要求1所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述旋转驱动机构(3)包括用以提供动力的伺服电机(301)和第二自润滑轴套(309),所述第二自润滑轴套(309)与线圈板组件(6)固定连接,所述第二自润滑轴套(309)与伺服电机(301)固定连接,所述伺服电机(301)的输出端固定连接有驱动轴(308),所述驱动轴(308)远离伺服电机(301)的一端固定连接有锥形轮(306),所述上调整环(5)的外壁开设有锥形槽,所述锥形轮(306)与锥形槽的尺寸相适配。

3.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述联轴器(302)的下端安装有第一活动限位块(303),所述锥形轮(306)的上表面安装有第二活动限位块(307)。

4.根据权利要求2所述的一种等离子线圈调节装置,其特征在于:所述驱动轴(308)的圆弧面安装有第一自润滑轴套(304)。

5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:穆娟李佶庚初春林保璋田才忠李士昌
申请(专利权)人:盛吉盛宁波半导体科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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