一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法技术方案

本发明专利技术公开了一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法，该系统包括依次设置的光源、照明系统、DMD、投影系统、后置透镜和数码相机，数码相机安装在后置透镜的后焦面；光源发出的光经照明系统匀光准直整形照射物面DMD，DMD与像面共轭成像，DMD的图形经投影系统成像在像面。本发明专利技术通过观察频谱面能量分布、形状和大小来检查曝光系统装调优劣，通过曝光系统数值孔径以及焦距合理选择后置透镜通光孔径和焦距，曝光系统频谱面成像到后置透镜焦面并通过数码相机观察；曝光系统焦距未知只能观察频谱面部分图形时，通过移动数码相机对图形进行拼接，结构简单，设计便利，频谱面更多地体现曝光细节，更能表现曝光系统装调过程照明系统和投影系统匹配问题。影系统匹配问题。影系统匹配问题。

【技术实现步骤摘要】
一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法


[0001]本专利技术涉及一种DMD光刻曝光系统及其装调检测方法，属于半导体集成电路或印刷电路制造


技术介绍

[0002]光刻技术是半导体器件加工的核心。随着加工器件的密度不断提升，光刻的线宽尺寸在不断减小，光刻需要的掩模板成本也在逐渐上升，寻求低成本或者无掩模的光刻技术成为研究热点。基于数字微镜器件的无掩模数字光刻技术使用DMD代替传统掩模板，更换曝光图形时不需要更换掩模板，降低了光刻制版成本，减少换版时间，提高光刻技术的灵活性，目前获得了广泛应用。曝光系统是光刻机的关键子系统，曝光系统的解析能力直接决定了光刻机曝光的最小线宽。在DMD数字光刻系统中，曝光系统包括光源、照明系统、DMD和投影系统。
[0003]为保证DMD数字刻曝光系统具有高的曝光质量，对于照明系统、投影系统的相对位置精度要求很高，对于照明系统和投影系统的镜片的间距、偏心和倾斜的位置公差要求也非常严格，两者相对位置的微小变动均会对曝光质量产生很大的影响。
[0004]对于目前业内DMD数字曝光机的装调，单独本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种DMD数字光刻曝光系统，其特征在于，包括依次设置的光源、照明系统、DMD、投影系统、后置透镜和数码相机，所述数码相机安装在所述后置透镜的后焦面且能够在后焦面上移动；所述光源发出的光经过所述照明系统匀光准直整形照射物面DMD，DMD与像面共轭成像，DMD的图形经所述投影系统成像在像面，所述后置透镜设置在像面后。2.根据权利要求1所述的DMD数字光刻曝光系统，其特征在于，所述投影系统为双远心系统。3.根据权利要求1所述的DMD数字光刻曝光系统，其特征在于，所述投影系统的光阑面也为所述DMD数字光刻曝光系统的频谱面，在该频谱面上的光强分布为该DMD数字光刻曝光系统的频谱图像。4.根据权利要求1所述的DMD数字光刻曝光系统，其特征在于，所述后置透镜的孔径D、投影系统像方孔径角u
’
、曝光视场y
’
和后置透镜焦距f满足如下关系：D>2(f*tanu
’
+y
’
)。5.一种DMD数字光刻曝光系统装调检测方法，其特征在于，应用了权利要求1
‑
4任一项所述的DMD数字光刻曝光系统，包括以下步骤：第一步：将照明系统与投影系统通过最初设计的机械定位进行安装，再根据4F光学原理安装后置透镜的位置，并在后置透镜后焦面安装数码相机；第二步：数码相机记录曝光系统的频谱图像，分别记录频谱尺寸大小，频谱清晰程度，通过数码的灰度提取频谱的能量分布；第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王寅，李世光，曾海峰，戢逸云，
申请(专利权)人：江苏影速集成电路装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：