定位调节机构及曝光设备制造技术

本申请涉及一种定位调节机构及曝光设备，包括基座、升降板、接触板以及驱动件，所述升降板与所述基座滑移连接，所述升降板上设有滚珠；所述接触板位于所述升降板的上方，所述接触板能够支撑外部的台板，所述滚珠可滚动地夹在所述升降板与所述接触板之间；所述驱动件安装于所述基座上，所述驱动件用于驱动所述升降板升降滑移；曝光设备包括光掩膜版、台板、基板、光源装置、底板以及三组定位调节机构，三组所述定位调节机构均连接于所述台板与所述底板之间，三组所述定位调节机构不分布在同一条直线上，三组所述定位调节机构均为如上所述的一种定位调节机构。本申请提供的定位调节机构及曝光设备，解决了现有技术中曝光设备的曝光精度较差的问题。精度较差的问题。精度较差的问题。

【技术实现步骤摘要】
定位调节机构及曝光设备


[0001]本申请属于曝光设备
，更具体地说，是涉及一种定位调节机构及曝光设备。

技术介绍

[0002]曝光设备是利用光照将MASK(光掩膜版)上的图形经过光学系统后投影到涂有光刻胶的半导体或LCD(液晶显示器)基板上，实现图形转移的设备。
[0003]曝光设备通常包括台板、基板GAP框(间距控制框)以及MASK，MASK通常是固定在外部的固定架上并位于基板上方，GAP框置于MASK与基板之间并固定在MASK上，用于曝光过程中控制MASK与基板之间的间距，基板通过真空吸附的方式固定在台板上，台板与外部的升降装置连接，通过升降台板将基板向MASK接近直至与GAP框贴合。在曝光的过程中，光源照射出的光透过MASK上的图案照射到基板上，因此，需要保证MASK与基板之间的平行度来保证曝光精度，假若MASK与基板之间存在较大的倾斜角，照射到基板上的图案就会出现明显的变形，影响曝光质量。
[0004]基于上述的问题，有必要提供一种可应用于曝光设备中的定位调节机构，以提高曝光设备的曝光精度。<br/>
技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种定位调节机构，其特征在于，包括：基座；升降板，所述升降板与所述基座滑移连接，所述升降板上设有滚珠；接触板，所述接触板位于所述升降板的上方，所述接触板能够支撑外部的台板，所述滚珠可滚动地夹在所述升降板与所述接触板之间；驱动件，所述驱动件安装于所述基座上，所述驱动件用于驱动所述升降板升降滑移。2.如权利要求1所述的一种定位调节机构，其特征在于，所述定位调节机构还包括弹性抵紧组件，所述弹性抵紧组件用于将所述接触板能始终与所述滚珠接触。3.如权利要求2所述的一种定位调节机构，其特征在于，所述弹性抵紧组件包括：第一固定件，所述第一固定件与所述基座固定连接；第二固定件，所述第二固定件与所述接触板固定连接；弹性件，所述弹性件的一端与所述第一固定件连接，所述弹性件的另一端与所述第二固定件连接。4.如权利要求3所述的一种定位调节机构，其特征在于，所述弹性件的两端均设有挂钩，所述弹性件通过其两端的所述挂钩分别勾持于所述第一固定件和所述第二固定件。5.如权利要求1
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4任一项所述的一种定位调节机构，其特征在于，所述定位调节机构还包括升降导向组件，所述升降导向组件用于为所述升降板的升降滑移提供导向作用。6.如权利要求5所述的一种定位调节机构，其特征在于，所述升降导向组件包括导向板，所述导向板与所述基座固定连接，所述导向板上设有导向条，所述升降板上设有用于与所述导向条插接配合的导向槽。7.如权利要求1
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4任一项所述的一种定...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱小虎，曾庆华，杨任明，
申请(专利权)人：深圳市晶岛科技有限公司，
类型：新型
国别省市：