具有温度均衡功能的浸没控制单元制造技术

本发明专利技术公开了一种具有温度均衡功能的浸没控制单元，浸没控制单元环绕在末端投影物镜的径向外侧，并且位于衬底的上方，浸没控制单元内部包含流道，所述流道至少包括供液流道和抽排流道，浸液经流道被提供至末端投影物镜和衬底之间的空间，并在该空间中形成流动的浸液流场；浸没控制单元配置设有均衡温度部件，在浸没控制单元中，均衡温度部件至少具有与不同流道邻接的第一部位和第二部位，均衡温度部件的导热系数高于与之邻接的所有流道的导热系数。可加快浸没控制单元内不同温度区域之间的热交换，减小浸没控制单元内各温区的温度梯度，并抑制因浸没控制单元温度不均匀而造成曝光精度和质量降低的影响。光精度和质量降低的影响。光精度和质量降低的影响。

【技术实现步骤摘要】
具有温度均衡功能的浸没控制单元


[0001]本专利技术涉及光刻机
，具体涉及一种具有温度均衡功能的浸没控制单元。

技术介绍

[0002]光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，它利用光学系统把掩膜版上的电路图案精确地投影在涂覆光刻胶的衬底上并使光刻胶曝光改性，从而在衬底上留下电路图案信息。它包括激光光源、投影物镜系统、包含电路图案的投影掩膜版和涂有光敏光刻胶的衬底。
[0003]相对于中间介质为气体的干式光刻机，浸没式光刻（ImmersionLithography）设备通过在最后一片投影物镜与衬底之间填充某种高折射率的液体（称为浸没液体或浸液），通过提高该缝隙液体介质的折射率（n）来提高投影物镜的数值孔径（NA），从而提高光刻设备的分辨率和焦深。在现在的主流光刻技术中，由于浸没式光刻相对早期的干式光刻具有良好的继承性，所以受到广泛应用。而对于浸没液体的填充，目前广泛采用的方案是局部浸没法，也即使用浸没控制单元将液体限制在最后一片投影物镜的下表面和衬底上表面之间的局部区域内。保持浸没液体在曝光区域内的光学一致性和透明度，是保障浸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有温度均衡功能的浸没控制单元，浸没控制单元环绕在末端投影物镜的径向外侧，并且位于衬底的上方，其特征在于：浸没控制单元内部包含流道，所述流道至少包括供液流道和抽排流道，浸液经流道被提供至末端投影物镜和衬底之间的空间，并在该空间中形成流动的浸液流场；浸没控制单元配置设有均衡温度部件，在浸没控制单元中，均衡温度部件至少具有与不同流道邻接的第一部位和第二部位，均衡温度部件的导热系数高于与之邻接的所有流道的导热系数。2.按照权利要求1所述的具有温度均衡功能的浸没控制单元，其特征在于：所述均衡温度部件的第一部位邻接供液流道，第二部位邻接抽排流道。3.按照权利要求1所述的具有温度均衡功能的浸没控制单元，其特征在于：所述供液流道包括用于提供浸液的主供液流道，所述抽排流道包括用于抽排浸液和密封气体的密封抽排流道；所述均衡温度部件的第一部位与主供液流道相邻设置，第二部位与密封抽排流道相邻设置。4.按照权利要求1所述的具有温度均衡功能的浸没控制单元，其特征在于：所述供液流道包括用于提供浸液的主供液流道及提供浸液以形成液体密封的辅助供液流道；所述抽排流道包括用于抽排浸液的主回收流道和用于抽排浸液和密封气体的密封抽排流道；所述均衡温度部件的第一部位与主供液流道和/或辅助供液流道相邻设置，所述均衡温度部件的第二部位与主回收流道和/或密封抽排流道相邻设置。5.按照权利要求4所述的具有温度均衡功能的浸没控制单元，其特征在于：所述均...

【专利技术属性】
技术研发人员：张颖，徐闯，童金杰，江深，李元，付婧媛，
申请(专利权)人：浙江启尔机电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：