本申请公开了一种多波段阻焊曝光方法，涉及PCB曝光技术领域，该方法将待曝光图形分成边缘轮廓部分及中间部分，采用第一光束对边缘轮廓部分进行曝光，采用第二光束对中间部分进行曝光，第一光束包含了阻焊曝光所需的全波长的光，第二光束不包含阻焊所需...

本发明公开了一种曝光机的分区对位聚焦方法，包括：(1)在曝光之前，CCD相机抓取PCB板四个角的定位孔的坐标后，与电子档图形文件中相对应的定位孔坐标进行比对，建立电子档图形与PCB板的实际对应关系；(2)在曝光之前，将待曝光区域划分为M...

本技术涉及一种高精度LED光源驱动控制系统，属于激光直接成像技术领域。主控机PC依次连接POE交换机、所述高精度LED光源驱动控制系统、LED模块，所述高精度LED光源驱动控制系统包括电源模块、反馈模块、控制模块、驱动模块，所述控制模块...

本发明公开了一种自动选择曝光时间和物距的光刻对准系统控制方法，属于曝光设备技术领域。所述方法将目标检测算法引入到聚焦深度法中用于聚焦窗口的确定，通过此聚焦深度法确定最佳物距和最优曝光时间，并将两者相结合，使得聚焦更加准确，稳定性更好；本...

本申请公开了一种用于LDI设备的光源参数自动调节方法，涉及LDI设备技术领域，该方法根据当前光源参数下的靶标图像的图像质量确定光源参数对应的适应度值，然后根据当前光源参数对应的适应度值进行下一次迭代操作，直至搜索到光源参数的最优解后完成...

本发明公开了一种基于LDI的晶圆切割道曝光方法及系统，属于曝光设备领域。为了让LDI设备适配晶圆的生产，本发明提出了待曝光切割道晶圆图形的生成方法，可以基于客户提供的掩膜版图形获取整体晶圆的布局，从而晶圆切割道的曝光图形可直接在曝光软件...

本发明公开了一种无掩膜曝光方法及曝光装置，属于曝光技术领域。该方法通过识别曝光图档中的数据，当曝光图形存在很多纵向空白时，直接跳过这些空白，只进行有效图形的扫描曝光，从而有效节省扫描行程，提升产能，根据待曝光图形的复杂程度，能够提升产能...

本发明公开了用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统，属于曝光设备领域。所述系统包括：光源控制模块和光源模块，所述光源模块包括多个光源驱动器和对应的光源，光源控制命令和光源同步命令输入光源控制板，所述光源控制板接收命令后，通过板卡内的处理...

本实用新型公开了一种曝光机多平台实时气压监测系统，包括主控机、PLC、气压数据采集装置和气压传感器，若干个气压传感器与气压数据采集装置连接，气压数据采集装置与PLC连接，所述PLC与主控机连接；所述气压传感器用于将气压强度值转换为模拟电...

本实用新型公开了一种曝光机多平台实时气压监测系统，包括主控机、PLC、气压数据采集装置和气压传感器，若干个气压传感器与气压数据采集装置连接，气压数据采集装置与PLC连接，所述PLC与主控机连接；所述气压传感器用于将气压强度值转换为模拟电...

本发明公开了一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置，属于半导体领域。所述方法通过利用多边形交叠算法计算出待曝光的晶圆图形同每个条带相交的最高点和最低点，进而确定每个条带需曝光的块的个数，进而使得聚焦位置能够沿着圆形边缘移动，只对需曝光的部分进...

本实用新型公开了一种用于激光器的大电流缓启动开关电路，包括：供电单元、控制单元、信号单元、驱动单元和输出单元；本实用新型提供的缓启动开关电路，通过MOS管缓慢启动开关电路，使输出电压逐渐升高直至与输入电压一致，避免了传统激光器的开关电路...

本发明涉及一种用于先进封装的微米级光刻机及应用，属于曝光技术领域。本发明提供一种用于先进封装的微米级光刻机，包括安装在大理石底座上的运动控制平台和龙门、安装在所述运动控制平台上的吸附装置、安装在所述龙门的精对准系统和粗对准系统以及光路系...

本发明公开了一种LDI曝光机及其定位精度自动校准方法，属于曝光设备技术领域。所述平台包括：底座、直线导轨、对准相机A、对准相机B、对准相机C、吸盘、X轴光栅尺、Y轴光栅尺、X轴标定尺、Y轴标定尺、成像光路、上位机、运动控制器；本发明使用...

本发明公开了一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法，该系统包括依次设置的光源、照明系统、DMD、投影系统、后置透镜和数码相机，数码相机安装在后置透镜的后焦面；光源发出的光经照明系统匀光准直整形照射物面DMD，DMD与像面共轭成像，D...

本发明涉及一种LDI多波段照明装置，属于LDI的照明装置领域。本发明提供一种LDI多波段照明装置，包括LED照明组件及其内部的第一光源组、LD照明组件及其内部的第二光源组、安装有耦合透镜的耦合连接组件和数字微镜组件，所述LED照明组件由...

本发明公开了一种晶圆对位标记的快速检测系统及方法，属于曝光设备技术领域。本发明采用多种定位方式协同定位，依次为粗定位，精定位，考虑到图像变形等问题采用重心定位，在多种定位方式协同后，彻底摆脱缺陷、杂点、涂胶等情况对图像造成的影响，同时采...

本发明公开了一种用于LDI设备的自动聚焦方法及系统，属于光刻直写曝光机投影显示及图像处理技术领域。本发明仅需要基于一台工业相机搭建的硬件系统，便可实现聚焦；系统结构简单，易于后期维护保养。本发明设计了一种清晰度评价函数，来反映某一焦距条...

本发明公开了一种快速检测LDI设备状态的方法，属于PCB板曝光技术领域。通过软件自带工具曝光一张包含M行*N列的矩阵点的检测图形，用对准相机测试其曝光点的位置与理论位置比对，并自动对测试数据进行分析，检测设备是否存在问题，快速定位问题点...

本实用新型公开了一种双面一体光刻装置，属于曝光设备技术领域。本实用新型将待光刻的PCB板放置在透明的台面上，随着台面的移动依次通过对准系统、进行上表面光刻的前光学成像系统和进行下表面光刻的后光学成像系统，后光学成像系统的成像图形可以透过...