本发明专利技术提供了一种改版冗余图形填充方法、系统及电子设备，包括：提供改版版图，改版版图具有改版版图层次；获得改版冗余图形可填充区域；获得位于改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；获得相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；在变形固定组合冗余图形库中，获得区域外组合冗余图形对应的位于改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；将改版版图层次中的独立冗余图形作为第三冗余图形区；将第一冗余图形区、第二冗余图形区及第三冗余图形区合并为改版版图层次的改版冗余图形，将改版冗余图形填充至改版冗余图形可填充区域内，实现对改版版图进行改版冗余图形的填充。图进行改版冗余图形的填充。图进行改版冗余图形的填充。
【技术实现步骤摘要】
改版冗余图形填充方法、系统及电子设备
[0001]本专利技术涉及半导体集成电路
，尤其涉及一种改版冗余图形填充方法、系统及电子设备。
技术介绍
[0002]为了实现集成电路版图的均匀分布，提高工艺制造过程中依赖版图图形分布的相关工艺的工艺窗口，通常需要在集成电路版图分布稀疏的区域添加冗余图形以使版图图形分布相对均匀，进而降低后续工艺制造过程中的缺陷，提升产品良率。故在完成版图设计后便需要填充冗余图形，将合成后生成的新版图数据用于后续的量产流片中。
[0003]随着集成电路特征尺寸的持续缩小，半导体器件的设计尺寸越来越精密，在芯片制造过程中工艺窗口也越来越小，对能提升工艺窗口的冗余图形要求也越来越高。对于前段冗余图形，有源层的冗余图形与多晶硅层的冗余图形之间往往设计成类晶体管组合结构；对于后段的冗余图形，金属层的冗余图形与孔层的冗余图形之间往往设计成交叉组合结构。当产品流片过程中，往往会存在某一层需要改版的情况，版图设计需要更新，其往往会考虑到主图形设计的相互关系，而忽略了已出版版图中已填充的冗余图形，冗余图形应根据改版情况相应变化。同时组合结构的冗余图形会因版图中某一层次的主图形变更，使得在实际的晶圆上存在易产生额外缺陷的冗余图形，进而影响产品良率。因此遇到版图改版时，需要技术成员花费大量的时间和精力去评估因冗余图形差异所需的改版光罩层次，往往造成资源的浪费和流片周期的延长。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种改版冗余图形填充方法、系统及电子设备，实现对改版版图进行改版冗余图形的填充。
[0005]为了达到上述目的，本专利技术提供了一种改版冗余图形填充方法，用于对改版版图进行改版冗余图形的填充，包括：
[0006]提供改版版图，所述改版版图具有改版版图层次，所述改版版图层次中保留有已出版版图层次中的冗余图形；
[0007]获得所述改版版图层次的改版冗余图形可填充区域；
[0008]标记出所述改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形，并根据标记的冗余图形，获得位于所述改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；
[0009]获得相邻改版版图层次，根据固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；
[0010]提供变形固定组合冗余图形库，在所述变形固定组合冗余图形库中，获得所述区域外组合冗余图形对应的位于所述改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；
[0011]将所述改版版图层次中的独立冗余图形作为第三冗余图形区；以及，
[0012]将所述第一冗余图形区、所述第二冗余图形区及所述第三冗余图形区合并为所述改版版图层次的改版冗余图形，以及将所述改版冗余图形填充至所述改版冗余图形可填充区域内。
[0013]可选的，在合并为所述改版版图层次的改版冗余图形之后，将所述改版冗余图形填充至所述改版冗余图形可填充区域内之前，还包括删除所述改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形。
[0014]可选的，所述改版版图通过电子设备中的集成电路版图设计软件打开。
[0015]可选的，根据所述集成电路版图设计软件中设定的填充规则对所述改版版图层次进行扫描及逻辑运算获得所述改版冗余图形可填充区域。
[0016]可选的，所述改版版图层次与所述相邻改版版图层次属于上下相邻两层的关系，所述改版版图层次中的部分冗余图形与所述相邻改版版图层次中的部分冗余图形构成所述固定组合冗余图形，所述改版版图层次中的其它冗余图形和所述相邻改版版图层次中的其它冗余图形属于独立冗余图形。
[0017]可选的，根据固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形的步骤包括：
[0018]根据所述固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中位于所述改版冗余图形可填充区域内的冗余图形对应具有固定组合关系的冗余图形，以作为区域内组合冗余图形；
[0019]根据获得的区域组合冗余图形对所述相邻改版版图层次中的所有冗余图形进行逆向筛选，以获得所述相邻改版版图层次中具有固定组合关系的其它冗余图形作为所述区域外组合冗余图形。
[0020]可选的，通过冗余图形的面积相近规则在所述变形固定组合冗余图形库中获得所述区域外组合冗余图形对应的位于所述改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形。
[0021]本专利技术还提供了一种改版冗余图形填充系统，用于对改版版图进行改版冗余图形的填充，包括：
[0022]版图导入模块，用于提供改版版图，所述改版版图具有改版版图层次，所述改版版图层次中保留有已出版版图层次中的冗余图形；
[0023]可填充区域获取模块，用于获得所述改版版图层次的改版冗余图形可填充区域；
[0024]第一冗余图形区生成模块，用于标记出所述改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形，并根据标记的冗余图形，获得位于所述改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；
[0025]区域外组合冗余图形获取模块，用于获得相邻改版版图层次，根据固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；
[0026]第二冗余图形区生成模块，用于提供变形固定组合冗余图形库，在所述变形固定组合冗余图形库中，获得所述区域外组合冗余图形对应的位于所述改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；
[0027]第三冗余图形区生成模块，用于将所述改版版图层次中的独立冗余图形作为第三冗余图形区；
[0028]输出填充模块，用于将所述第一冗余图形区、所述第二冗余图形区及所述第三冗
余图形区合并为所述改版版图层次的改版冗余图形，以及将所述改版冗余图形填充至所述改版冗余图形可填充区域内。
[0029]本专利技术还提供了一种电子设备，所述电子设备包括：
[0030]一个或多个执行器；以及，
[0031]存储器，用于存储一个或多个程序；以及，
[0032]当所述一个或多个程序被所述一个或多个执行器执行，使得所述一个或多个执行器实现如上所述的改版冗余图形填充方法。
[0033]本专利技术还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被执行器执行时实现如上所述的改版冗余图形填充方法。
[0034]在本专利技术提供的一种改版冗余图形填充方法、系统及电子设备中，包括：提供改版版图，改版版图具有改版版图层次，改版版图层次中保留有已出版版图层次中的冗余图形；获得改版版图层次的改版冗余图形可填充区域；标记出改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形，并根据标记的冗余图形，获得位于改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；获得相邻改版版图层次，根据固定组合冗余图形获得相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；提供变形固定组合冗余图形库，在变形固定组合冗余图形库中，获得区域外组合冗余图形对应的位于改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；将改版版图层次中的独立冗余图形作为第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种改版冗余图形填充方法，用于对改版版图进行改版冗余图形的填充，其特征在于，包括：提供改版版图，所述改版版图具有改版版图层次，所述改版版图层次中保留有已出版版图层次中的冗余图形；获得所述改版版图层次的改版冗余图形可填充区域；标记出所述改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形，并根据标记的冗余图形，获得位于所述改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；获得相邻改版版图层次，根据固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；提供变形固定组合冗余图形库，在所述变形固定组合冗余图形库中，获得所述区域外组合冗余图形对应的位于所述改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；将所述改版版图层次中的独立冗余图形作为第三冗余图形区；以及，将所述第一冗余图形区、所述第二冗余图形区及所述第三冗余图形区合并为所述改版版图层次的改版冗余图形，以及将所述改版冗余图形填充至所述改版冗余图形可填充区域内。2.如权利要求1所述的改版冗余图形填充方法，其特征在于，在合并为所述改版版图层次的改版冗余图形之后，将所述改版冗余图形填充至所述改版冗余图形可填充区域内之前，还包括删除所述改版版图层次中保留的已出版版图层次中的冗余图形。3.如权利要求1所述的改版冗余图形填充方法，其特征在于，所述改版版图通过电子设备中的集成电路版图设计软件打开。4.如权利要求3所述的改版冗余图形填充方法，其特征在于，根据所述集成电路版图设计软件中设定的填充规则对所述改版版图层次进行扫描及逻辑运算获得所述改版冗余图形可填充区域。5.如权利要求1所述的改版冗余图形填充方法，其特征在于，所述改版版图层次与所述相邻改版版图层次属于上下相邻两层的关系，所述改版版图层次中的部分冗余图形与所述相邻改版版图层次中的部分冗余图形构成所述固定组合冗余图形，所述改版版图层次中的其它冗余图形和所述相邻改版版图层次中的其它冗余图形属于独立冗余图形。6.如权利要求1所述的改版冗余图形填充方法，其特征在于，根据固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形的步骤包括：根据所述固定组合冗余图形获得所述相邻改版版图层次中位于所述改版冗余图形可填充区域内的冗余图形对应具有...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹云，李佳佳，魏芳，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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