镀膜制品及其制作方法与应用技术

本发明专利技术提供一种镀膜制品及其制作方法与应用，镀膜制品包括基体和于所述基体表面由內至外依次设置的打底层、颜色层、第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层，所述打底层为Cr层，所述颜色层为CrSiCN层，所述第一干涉层为SiCrCN层，所述第二干涉层为CrC层，所述第三干涉层为SiC层。其中，Cr原子和Si原子在所述颜色层中的摩尔含量之和大于Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和。通过设置第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层，在调整各干涉层的厚度和原子摩尔含量实现颜色调控的同时，还能够调整镀膜制品平面和曲面的色差，并且使得镀膜制品表面具有优异的光泽度、硬度、耐磨性和化学稳定性。和化学稳定性。和化学稳定性。

【技术实现步骤摘要】
镀膜制品及其制作方法与应用


[0001]本专利技术涉及镀膜
，尤其涉及一种镀膜制品及其制作方法与应用。

技术介绍

[0002]随着人们对产品外观装饰涂层颜色要求越来越丰富，已经不再满足于黑色、银色、灰色、金色等传统单调颜色，需要色彩更鲜艳、种类更丰富的外观装饰涂层。在这种消费和市场趋势下，开发紫色、蓝色或绿色等鲜艳色彩的涂层越来越成为装饰镀膜技术的研发趋势。同时，兼具高硬度、耐磨性和稳定性等功能性的装饰镀涂层更加受到人们的喜爱。但现有的镀膜技术由于与膜层呈现颜色相关的参数，如膜层的成分、结构、厚度以及工艺参数变量等太多，工艺可控性不好，对于一些色彩，如蓝色、紫色、绿色等，存在稳定性差、难以重复生产，以及在工件的平面和曲面位置的膜层色差大的问题。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术有必要提供一种镀膜制品及其制作方法与应用以解决上述问题。
[0004]本专利技术一实施方式提供一种镀膜制品，包括基体和依次设于所述基体表面的打底层、颜色层、第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层，所述打底层为Cr层，所述颜色层为CrSiCN层，所述第一干涉层为SiCrCN层，所述第二干涉层为CrC层，所述第三干涉层为SiC层；
[0005]其中，Cr原子和Si原子在所述颜色层中的摩尔含量之和大于Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和。
[0006]在一些实施方式中，所述Cr原子在所述第二干涉层中的摩尔含量大于所述Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和；所述Si原子在所述第三干涉层中的摩尔含量小于所述Cr原子在所述第二干涉层中的摩尔含量。
[0007]本专利技术还提供一种镀膜制品的制作方法，包括步骤：
[0008]提供基体；
[0009]在所述基体表面形成打底层，所述打底层为Cr层；
[0010]在所述打底层表面形成颜色层，所述颜色层为CrSiCN层；
[0011]在所述颜色层表面形成第一干涉层，所述第一干涉层为SiCrCN层；
[0012]在所述第一干涉层表面形成第二干涉层，所述第二干涉层为CrC层；及
[0013]在所述第二干涉层表面形成第三干涉层，所述第三干涉层为SiC层；
[0014]其中，Cr原子和Si原子在所述颜色层中的摩尔含量之和大于Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和。
[0015]本专利技术还提供一种所述的镀膜制品在电子设备、装饰品或硬质道具中的应用。
[0016]相较于现有技术中，本专利技术的镀膜制品包含有颜色层和第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层，通过控制颜色层和第一干涉层的原子组成和摩尔含量，使得颜色层的反射
率高于所述第一干涉层，从而使反射光线和折射光线发生相长干涉，使得镀膜制品具有特定的色彩。可以通过调整所述第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层的原子摩尔含量和厚度，从而实现对颜色层反射到三个干涉层的光线进行不同程度的干涉，以得到呈现出不同的最终颜色色彩的镀膜制品，进而可以在不改变颜色层的基础上仅通过调整三个干涉层的厚度和原子摩尔含量占比，即可以得到多目标色、广色域的多个镀膜制品。所述镀膜制品呈现的色度区域在CIE
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LAB颜色模型系统中对应的L值坐标范围为40≤L≤65，a值坐标范围为
‑
10≤a≤8，b值坐标范围为
‑
35≤b≤6，可以实现颜色从枪灰—太空黑—海军蓝—暗紫色—黄绿色等一系列颜色的转变。
[0017]并且，通过在第一干涉层表面依次设置特定组成的第二干涉层和第三干涉层，可以使得镀膜制品的平面颜色与面颜色在各自的不同的变化周期内能找到颜色重合，从而减小平面和曲面的色差。
[0018]另外，颜色层和第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层的组成和结构设计在一定程度上增加了镀膜制品的表面亮度、硬度、耐磨性和化学稳定性。
附图说明
[0019]图1是本专利技术一实施方式的镀膜制品的截面示意图。
[0020]图2是本专利技术另一实施方式的镀膜制品的截面示意图。
[0021]图3是本专利技术一实施方式的镀膜制品中光线干涉示意图。
[0022]图4是本专利技术一实施方式的镀膜制品的制作方法。
[0023]图5是本专利技术另一实施方式的镀膜制品的制作方法。
[0024]图6是本专利技术一实施方式提供的溅射镀膜设备的部分结构示意图。
[0025]图7是本专利技术实施例1中制得的镀膜制品的扫描电子显微镜照片。
[0026]图8为本专利技术一实施方式提供的电子设备的结构示意图。
[0027]主要元件符号说明
[0028]镀膜制品
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100、200
[0029]基体
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10
[0030]打底层
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20
[0031]过渡层
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30
[0032]颜色层
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40
[0033]第一干涉层
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50
[0034]第二干涉层
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60
[0035]第三干涉层
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70
[0036]溅射镀膜设备
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300
[0037]真空腔室
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R
[0038]第一铬靶
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101
[0039]第二铬靶
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102
[0040]第三硅靶
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103
[0041]第四硅靶
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104
[0042]第五铬靶
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105
[0043]第六硅靶
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106
[0044]第一修正件
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201
[0045]第二修正件
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202
[0046]第三修正件
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜制品，其特征在于，包括基体和于所述基体表面由內至外依次设置的打底层、颜色层、第一干涉层、第二干涉层和第三干涉层，所述打底层为Cr层，所述颜色层为CrSiCN层，所述第一干涉层为SiCrCN层，所述第二干涉层为CrC层，所述第三干涉层为SiC层；其中，Cr原子和Si原子在所述颜色层中的摩尔含量之和大于Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和。2.如权利要求1所述的镀膜制品，其特征在于，所述Cr原子在所述第二干涉层中的摩尔含量大于所述Cr原子和Si原子在所述第一干涉层中的摩尔含量之和；所述Si原子在所述第三干涉层中的摩尔含量小于所述Cr原子在所述第二干涉层中的摩尔含量。3.如权利要求1所述的镀膜制品，其特征在于，所述颜色层中Cr原子、Si原子、C原子和N原子的原子摩尔含量为(52～57):(20～22):(2～6):(19～22)；所述第一干涉层中Si原子、Cr原子、C原子和N原子的摩尔含量为(22～25):(18～20):(17～20):(38～40)；所述第二干涉层中Cr原子和C原子的摩尔含量为(50～70):1；所述第三干涉层中Si原子和C原子的摩尔含量为(15～25):1。4.如权利要求1所述的镀膜制品，其特征在于，所述第一干涉层的厚度为40～90nm，所述第二干涉层的厚度为20～50nm，所述第三干涉层的厚度为20～80nm。5.如权利要求1所述的镀膜制品，其特征在于，所述镀膜制品呈现的色度区域在CIE
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LAB颜色模型系统中对应的L值坐标范围为40≤L≤65，a值坐标范围为
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10≤a≤8，b值坐标范围为
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35≤b≤6。6.如权利要求1所述的镀膜制品，其特征在于，所述复合薄膜还包括设置于所述打底层和所述颜色层之间的过渡层，所述过渡层为CrSiN层。7.一种镀膜制品的制作方法，其特征在于，包括步骤：提供基体；在所述基体表面形成打底层，所述打底层为Cr层；在所述打底层表面形成颜色层，所述颜色层为Cr...

【专利技术属性】
技术研发人员：张远华，罗云，胡炜，曾维利，张菊兰，李杰，
申请(专利权)人：富联裕展科技深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：