一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺制造技术

本发明专利技术涉及光学镀膜技术领域，且公开了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1、结构件制作；步骤S2、结构件清洁；步骤S3、喷涂底漆；步骤S4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤S5、喷涂处理剂及中漆；步骤S6、喷涂面漆；步骤S7、表面印刷。该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其对比光学玻璃有比较高的性价比优势，可以实现产能提升和成本下降的目的，通过多层喷漆加光学溅射镀膜，使采用该工艺的结构件针对目前手机中的5G毫米波天线信号不会产生任何接收影响，使其对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。

【技术实现步骤摘要】
一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺


[0001]本专利技术涉及光学镀膜
，具体为一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺。

技术介绍

[0002]以智能手机为首的智能电子终端产品，硬件性能为购买产品的首要参考因素，经过十年的高速发展，硬件已经能满足消费者大多数日常需要，而作为一种消费电子产品，手机外观工业设计能在质感及美学上给用户以新的体验，外观创新正接棒手机硬件，成为消费者选择手机的重要参考因素。
[0003]故目前手机厂商为了保证其手机质感，而采用光学玻璃材料来做为手机盖板和采用金属材料做为中框来使用，但其中这种光学玻璃工艺较为复杂，硬度较低，使其生产时，良品率较低，进而产能较低，导致制作成本较高，而金属材料做为中框又会存在对现有较为灵敏的5G毫米波天线信号造成一定的影响。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，具备产能高、成本低和对信号无影响等优点，解决了光学玻璃产能较低、制作成本较高和金属中框影响信号的问题。
[0005]为实现上述产能高、成本低和对信号无影响目的，本专利技术提供如下技术方案：一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1、结构件制作，将PC原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件；步骤S2、结构件清洁，将注塑成型的所述结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；步骤S3、喷涂底漆，在所述结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化UV底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤；步骤S4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤S5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的所述结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤；步骤S6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的所述结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤；步骤S7、表面印刷，最后在所述柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成所述结构件镀膜。
[0006]优选的，所述步骤S3中的双固化UV底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22
‑
28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。
[0007]优选的，所述步骤S3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7
‑
9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟。
[0008]优选的，所述步骤S5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1
‑
2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。
[0009]优选的，所述步骤S6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22
‑
25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟。
[0010]优选的，所述双固化UV底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%
‑
28%，2官聚碳16%
‑
20%，3官单体6%
‑
8%，两官单体4.5%
‑
5.5%，光引发剂3.8%
‑
4.2%，流平剂0.9%
‑
1.1%，乙酸丁酯9%
‑
11%，乙酸乙酯38%
‑
42%。
[0011]优选的，所述透明双色底漆的配方比例为特殊羟基丙烯酸树脂28%
‑
32%，着色色粉6.5%
‑
7.5%，色浆6%
‑
8%，防沉分散助剂4.8%
‑
5.2%，乙酸丁酯17%
‑
20%，乙酸乙酯38%
‑
42%。
[0012]优选的，所述双固化中漆的配方比例为附着力促进剂28%
‑
32%，丙烯酸酯不饱和树脂6.5%
‑
7.5%，甲基异丁基酮6%
‑
8%，乙酸丁酯17%
‑
20%，乙酸乙酯38%
‑
42%。
[0013]优选的，所述柔性面漆的配方比例为6官聚氨酯丙烯酸酯9%
‑
11%，15官聚氨酯丙烯酸酯7.5%
‑
8.5%，6官单体6%
‑
8%，特殊改性丙烯酸酯28%
‑
32%，光引发剂1.8%
‑
2.2%，深层固化光引发剂0.9%
‑
1.1%，流平剂2.9%
‑
3.1%，乙酸丁酯19%
‑
21%，乙酸乙酯9%
‑
11%，甲基异丁基酮8.8%
‑
9.2%。
[0014]优选的，所述步骤S4的磁控光学溅镀，将所述铌、硅和铌固态材料加热升华到气态，再将气态的铌、硅或铌原子、分子或离子加速，到达高度真空的磁控镀膜机的溅射仓内，附着在所述结构件表面，使其铌、硅或铌材料在欲镀面的表面沉积形成薄膜，其三层铌、硅和铌薄膜厚度相加为287um。
[0015]与现有技术相比，本专利技术提供了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，具备以下有益效果：1、该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，通过结构件表面处理磁控光学镀工艺其特殊的加工工艺使得塑胶结构件表面变为炫彩高光或哑光漫反射表面，通过利用磁控光学将结合涂料的特点应用在涂层中间来增加增亮和炫彩透过色加反射色彩，使结构件表面拥有光学玻璃般的彩色效果，其对比光学玻璃有比较高的性价比优势，从而达到产能提升和成本下降的目的，最为直观的就是，在阳光下，由于存在较强的阳光反射，人眼看不清塑胶光学盖板和光学玻璃盖板的区别。
[0016]2、该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，通过多层喷漆加光学溅射镀膜，使采用该工艺的结构件针对目前手机中的5G毫米波天线信号不会产生任何接收影响，使其对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。
附图说明
[0017]图1为本专利技术提出的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺流程示意图。
具体实施方式
[0018]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]请参阅图1，一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1、结构件制作，将PC原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，其塑胶粒注塑前需要使用烘箱单独烘烤，其温度120
°
C左右，烘烤4小时，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件，注塑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、结构件制作，将PC原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件；步骤S2、结构件清洁，将注塑成型的所述结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；步骤S3、喷涂底漆，在所述结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化UV底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤；步骤S4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤S5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的所述结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤；步骤S6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的所述结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤；步骤S7、表面印刷，最后在所述柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成所述结构件整个镀膜过程。2.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S3中的双固化UV底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22
‑
28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。3.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7
‑
9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟。4.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1
‑
2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。5.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22
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25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟。6.根据权利要求2所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述双固化UV底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%
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28%，2官聚碳16%
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20%，3官单体6%
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8%，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张步进，梁文进，胡家勇，张震东，巫继茂，袁杰，
申请(专利权)人：东莞市广正模具塑胶有限公司，
类型：发明
国别省市：