一种硅片抛光用抛光浆供应装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片抛光用抛光浆供应装置，包括第一储浆槽、抛光浆循环管路、第二储浆槽和控制模块；第一储浆槽连通有供水管路和原液供应管路；抛光浆循环管路设有进口端、第一出口端和第二出口端，进口端、第一出口端均与第一储浆槽连通，第二出口端与第二储浆槽连通；第二储浆槽连通抛光机台。本申请可实现自动配料及不间断的向抛光机台供应抛光浆，避免机台停机添加浆料，解放人力的同时提高产能。而且通过设置搅拌装置和抛光浆循环管路，可有效避免预先配置的抛光浆结晶影响品质，确保在保证品质的情况下提高生产效率。保在保证品质的情况下提高生产效率。保在保证品质的情况下提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片抛光用抛光浆供应装置


[0001]本技术属于硅片加工
，具体涉及一种硅片抛光用抛光浆供应装置。

技术介绍

[0002]半导体用硅片是集成电路制造最底层之原料，其制造工艺主要包括长晶、切片、倒角、研磨、蚀刻、抛光、清洗等过程。随着半导体集成电路技术的快速发展，芯片制造商对硅片质量的要求也越来越高。而抛光工艺作为硅片制造中的重要环节，其加工精度直接影响最终产品性能参数。现有常用的硅片表面抛光方式为化学机械抛光，具体抛光时将硅片安放固定在可旋转的抛头上，且抛头压在旋转的陶瓷盘表面进行抛光。
[0003]但是在实际生产时发现存在以下问题：12寸硅片正面抛光是通过抛头上面的pad吸附硅片在陶瓷大盘上面进行化学机械抛光，化学机械抛光离不开抛光浆，如图1所示，抛光浆需要原液和水按一定比例在储浆槽(tank)里面混合而成，且机台附属的抛光浆tank容积较小，抛光浆在tank里面是由隔膜泵供给到主机台，由于tank容积有限，每隔一小时需要停机手动添加浆料，每次添加浆料需要5分钟，这样每天浪费两个小时的产能。且手动添加浆料会出现人为错误，影响生产产能及品质。

技术实现思路

[0004]本技术的目的就在于为解决现有技术的不足而提供一种硅片抛光用抛光浆供应装置。
[0005]本技术的目的是以下述技术方案实现的：
[0006]一种硅片抛光用抛光浆供应装置，包括第一储浆槽、抛光浆循环管路、第二储浆槽和控制模块；
[0007]所述第一储浆槽连通有供水管路和原液供应管路，所述第一储浆槽内设有搅拌装置；所述供水管路上设有第一控制阀，所述原液供应管路上设有第二控制阀；
[0008]所述抛光浆循环管路设有进口端、第一出口端和第二出口端，所述进口端、所述第一出口端均与所述第一储浆槽连通，所述第二出口端与所述第二储浆槽连通；所述第二出口端与所述第二储浆槽之间设有第三控制阀；
[0009]所述第二储浆槽连通抛光机台，用于向所述抛光机台供应抛光浆；
[0010]所述第一储浆槽上设有第一料量监测传感器，所述第二储浆槽上设有第二料量监测传感器；
[0011]所述控制模块与所述搅拌装置、第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第一料量监测传感器和所述第二料量监测传感器电连接。
[0012]优选的，还包括与所述原液供应管路连通的第一原液桶和第二原液桶。
[0013]优选的，所述第一原液桶内设有第三料量监测传感器，所述第二原液桶内设有第四料量监测传感器；
[0014]所述第三料量监测传感器和所述第四料量监测传感器均与所述控制模块电连接。
[0015]优选的，所述第一储浆槽有效容积大于所述第二储浆槽。
[0016]优选的，所述第一储浆槽内设有pH计。
[0017]优选的，所述第一料量监测传感器为重量传感器，所述第二料量监测传感器为液位传感器。
[0018]优选的，所述抛光浆循环管路上设有第四控制阀，所述第二储浆槽与所述抛光机台之间设有第五控制阀。
[0019]优选的，所述控制模块为PLC控制模块。
[0020]优选的，所述原液供应管路上、所述抛光浆循环管路上、以及所述第二储浆槽与所述抛光机台之间均设有输送泵。
[0021]本申请通过设置两个储浆槽、控制模块及相应的电子元件，可实现自动配料及不间断的向抛光机台供应抛光浆，避免机台停机添加浆料，解放人力的同时提高产能。而且通过设置搅拌装置和抛光浆循环管路，可有效避免预先配置的抛光浆结晶影响品质，确保在保证品质的情况下提高生产效率。
附图说明
[0022]图1是现有技术中抛光浆供应示意图；
[0023]图2是本技术提供的硅片抛光用抛光浆供应装置的供应示意图；
[0024]其中，1
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第一储浆槽；11
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搅拌装置；12
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供水管路；13
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原液供应管路；14
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第一原液桶；15
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第二原液桶；16
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第一料量监测传感器；17
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第一控制阀；18
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第二控制阀；19
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pH计；2
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抛光浆循环管路；21
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第三控制阀；22
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第四控制阀；3
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第二储浆槽；31
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第二料量监测传感器；32
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第五控制阀；4
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抛光机台。
具体实施方式
[0025]本技术提供了一种硅片抛光用抛光浆供应装置，如图2所示，包括第一储浆槽1、抛光浆循环管路2、第二储浆槽3和控制模块。
[0026]第一储浆槽1连通有供水管路12和原液供应管路13，供水管路12上设有第一控制阀17，原液供应管路13上设有第二控制阀18。供水管路12用于按制浆比例向第一储浆槽1内供应水，原液供应管路13用于按制浆比例向第一储浆槽1内供应原液，在第一储浆槽1内水和原液混合为抛光浆。第一储浆槽1内设有搅拌装置11，搅拌装置11既可使原液和水混合均匀，同时在搅拌装置11的持续搅拌作用下可防止抛光浆结晶。
[0027]抛光浆循环管路2设有进口端、第一出口端和第二出口端，进口端、第一出口端均与第一储浆槽1连通，第二出口端与第二储浆槽3连通；第二出口端与第二储浆槽3之间设有第三控制阀21。第一储浆槽1内混合后的抛光浆从进口端进入抛光浆循环管路2，然后可从第一出口端循环返回输送至第一储浆槽1，在持续循环过程中可进一步防止抛光浆结晶，或从第二出口端输送至第二储浆槽3。
[0028]第二储浆槽3连通抛光机台4，用于向抛光机台4供应抛光浆。
[0029]第一储浆槽1上设有第一料量监测传感器16，第二储浆槽3上设有第二料量监测传感器31，通过第一料量监测传感器16和第二料量监测传感器31可实时监测第一储浆槽1和第二储浆槽3内的抛光浆的料量，以能够在料量不足时及时补充抛光浆。
[0030]控制模块与搅拌装置11、第一控制阀17、第二控制阀18、第三控制阀21、第一料量监测传感器16和第二料量监测传感器17电连接，可以接收第一料量监测传感器和第二料量监测传感器监测得到的第一储浆槽1和第二储浆槽3内的抛光浆的料量信息，并向搅拌装置、第一控制阀、第二控制阀和第三控制阀发送相应的指令，控制其开启或关闭。控制模块可设有操作面板，通过操作面板，可以人工输入相应指令和监控工作状态。具体的，控制模块工作过程如下：
[0031](1)通过操作面板输入配比程序，启动自动模式开始配比抛光浆，控制模块发送指令自动打开第一控制阀和第二控制阀，水和原液按设定比例输送至第一储浆槽1内，第一料量监测传感器监测到原液和水加入量达到设定阈值时表示配比完成，然后发送指令自动关闭第一控制阀和第二控制阀，同时开启搅拌装置，混合后的抛光浆在搅拌装置持续搅拌作用下既混合充分，同时可防止本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片抛光用抛光浆供应装置，其特征在于，包括第一储浆槽、抛光浆循环管路、第二储浆槽和控制模块；所述第一储浆槽连通有供水管路和原液供应管路，所述第一储浆槽内设有搅拌装置；所述供水管路上设有第一控制阀，所述原液供应管路上设有第二控制阀；所述抛光浆循环管路设有进口端、第一出口端和第二出口端，所述进口端、所述第一出口端均与所述第一储浆槽连通，所述第二出口端与所述第二储浆槽连通；所述第二出口端与所述第二储浆槽之间设有第三控制阀；所述第二储浆槽连通抛光机台，用于向所述抛光机台供应抛光浆；所述第一储浆槽上设有第一料量监测传感器，所述第二储浆槽上设有第二料量监测传感器；所述控制模块与所述搅拌装置、第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第一料量监测传感器和所述第二料量监测传感器电连接。2.如权利要求1所述的硅片抛光用抛光浆供应装置，其特征在于，还包括与所述原液供应管路连通的第一原液桶和第二原液桶。3.如权利要求2所述的硅片抛光用抛光浆供应装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴泓明，钟佑生，陈志刚，党国洋，
申请(专利权)人：郑州合晶硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：